蚀刻液、触控面板及其制作方法技术

本发明专利技术公开了一种蚀刻液、触控面板及其制作方法，该触控面板的制作方法包含：提供基板，其中基板具有显示区与周边区；设置金属层与金属纳米线层，金属纳米线层的第一部分位于显示区，金属纳米线层的第二部分与金属层位于周边区；及进行图案化步骤，包括利用可蚀刻金属层与金属纳米线层的蚀刻液将金属层形成多个周边引线并同时将金属层的第二部分形成多个蚀刻层，蚀刻液包括双氧水(0.2

【技术实现步骤摘要】
蚀刻液、触控面板及其制作方法


[0001]本专利技术涉及一种蚀刻液、触控面板及其制作方法。

技术介绍

[0002]近年来，透明导体可同时让光穿过并提供适当的导电性，因而常应用于许多显示或触控相关的装置中。一般而言，透明导体可以是各种金属氧化物，例如氧化铟锡(Indium Tin Oxide，ITO)、氧化铟锌(Indium Zinc Oxide，IZO)、氧化镉锡(Cadmium Tin Oxide，CTO)或掺铝氧化锌(Aluminum-doped Zinc Oxide，AZO)。然而，这些金属氧化物薄膜并不能满足显示设备的可挠性需求。因此，现今发展出了多种可挠性的透明导体，例如利用纳米线等材料所制作的透明导体。
[0003]然而，所述的纳米线的制程技术尚有许多需要解决的问题，例如利用纳米线制作触控电极，纳米线与周边区的引线在进行对位时需预留对位误差区域，所述对位误差区域造成周边区的引线尺寸无法缩减，进而导致周边区的宽度较大，尤其采用卷对卷(Roll to Roll)制程，基材的形变量导致所述对位误差区域的尺寸更加放大(如150um)，使得周边区的宽度最小仅达到2.5mm，故无法满足显示器的窄边框需求。再者，蚀刻液的选择也是一个问题。

技术实现思路

[0004]本专利技术的部分实施方式中，通过蚀刻液直接进行金属纳米线层或金属层的图案化，以达到简化制程的目的，进而控制制作成本。蚀刻液可以提供良好的蚀刻特性。
[0005]本专利技术的部分实施方式中，通过金属纳米线层与金属层的一次性蚀刻，借以达到不需预留对位时的对位误差区域的效果，以形成宽度较小的周边引线，进而满足窄边框的需求。
[0006]本专利技术的部分实施方式中，通过金属纳米线层与金属层的分步骤蚀刻，借以达到不需预留对位时的对位误差区域的效果，以形成宽度较小的周边引线，进而满足窄边框的需求。同时由于蚀刻液只选择性地蚀刻金属纳米线层，而不蚀刻金属层，从而避免了周边区及显示区的金属纳米线层蚀刻不完全或对周边区的金属层造成侧蚀的问题。
[0007]根据本专利技术的部分实施方式，一种触控面板的制作方法，其特征在于，包含：提供一基板，其中该基板具有一显示区与一周边区；设置一金属层与一金属纳米线层，其中该金属纳米线层的一第一部分位于该显示区，该金属纳米线层的一第二部分与该金属层位于该周边区；及进行一图案化步骤，其中该图案化步骤包括利用可蚀刻该金属层与该金属纳米线层的一蚀刻液将该金属层形成多个周边引线并同时将该金属层的该第二部分形成多个蚀刻层，其中该蚀刻液包括双氧水(0.2-40wt％)、酸类(0.2-20wt％)、金属缓蚀剂(0.1-10wt％)及/或安定剂(0.1-10wt％)。
[0008]于本专利技术的部分实施方式中，图案化步骤还包括利用该蚀刻液将该金属纳米线层的该第一部分形成一触控感应电极，该触控感应电极设置于该基板的该显示区，该触控感
应电极电性连接该些周边引线。
[0009]于本专利技术的部分实施方式中，金属缓蚀剂包含有含氮、含硫或含羟基的、具有表面活性的有机化合物、巯基苯并噻唑、苯并三唑和甲基苯并三唑中的至少一种。
[0010]于本专利技术的部分实施方式中，安定剂包含有乙二胺四乙酸、二乙烯三胺五乙酸、羟乙基乙二胺三乙酸、二乙胺五乙酸、N-羟乙基乙二胺三乙酸和聚丙烯酸胺中的至少一种。
[0011]于本专利技术的部分实施方式中，设置该金属层与该金属纳米线层包括：设置该金属层于该周边区；及接着设置该金属纳米线层于该显示区与该周边区，该第一部分位于该显示区而成形于该基板上，该第二部分位于该周边区而成形于该金属层上。
[0012]于本专利技术的部分实施方式中，设置该金属层于该周边区包括：将该金属层成形于该周边区与该显示区；及移除位于该显示区的该金属层。
[0013]于本专利技术的部分实施方式中，蚀刻液的成分包括双氧水(1.0-10.0wt％)、酸类(1.0-5.0wt％)、金属缓蚀剂(2.0-7.0wt％)及/或安定剂(3.0-8.0wt％)。
[0014]于本专利技术的部分实施方式中，图案化步骤还包括利用该蚀刻液将该金属层形成多个标记，该些蚀刻层包括多个第一覆盖物及多个第二覆盖物，每一该些第一覆盖物设置在对应的该些周边引线上，每一该些第二覆盖物设置在对应的该些标记上。
[0015]于本专利技术的部分实施方式中，设置该金属层与该金属纳米线层包括：设置该金属纳米线层于该显示区与该周边区；及接着设置该金属层于该周边区，其中该金属层位于该第二部分上。
[0016]于本专利技术的部分实施方式中，设置该金属层与该金属纳米线层包括：设置该金属层于该周边区；及接着设置该金属纳米线层于该显示区与该周边区，该第一部分位于该显示区而成形于该基板上，该第二部分位于该周边区而成形于该金属层上。
[0017]于本专利技术的部分实施方式中，蚀刻液的成分包括双氧水(1.0-5.0wt％)、酸类(0.1-0.6wt％)、金属缓蚀剂(2.0-7.0wt％)及/或安定剂(3.0-8.0wt％)。
[0018]于本专利技术的部分实施方式中，图案化步骤还包括利用该蚀刻液将该金属层形成多个标记，该些蚀刻层包括多个第一中间层及多个第二中间层，每一该些第一中间层设置在对应的该些周边引线与该基板之间，每一该些第二中间层设置在对应的该些标记与该基板之间。
[0019]于本专利技术的部分实施方式中，还包括设置一膜层。
[0020]于本专利技术的部分实施方式中，制作方法可于该基板的一面或双面进行。
[0021]于本专利技术的部分实施方式中，提出一种触控面板。
[0022]根据本专利技术的部分实施方式，一种蚀刻液，用于进行一图案化步骤，其特征在于，包括：双氧水(0.2-40wt％)、酸类(0.2-20wt％)、金属缓蚀剂(0.1-10wt％)及/或安定剂(0.1-10wt％)。
[0023]于本专利技术的部分实施方式中，酸类包含有机酸、无机酸或其组合。
[0024]于本专利技术的部分实施方式中，有机酸包含有羧酸、二羧酸、三羧酸、烷基羧酸、乙酸、乙二酸、苯六甲酸、甲酸、氯乙酸、苯甲酸、三氟乙酸、丙酸和丁酸中的至少一种。
[0025]于本专利技术的部分实施方式中，无机酸包含有磷酸、硝酸、醋酸和盐酸中的至少一种。
[0026]于本专利技术的部分实施方式中，金属缓蚀剂包含有含氮、含硫或含羟基的、具有表面
活性的有机化合物、巯基苯并噻唑、苯并三唑和甲基苯并三唑中的至少一种。
[0027]于本专利技术的部分实施方式中，安定剂包含有乙二胺四乙酸、二乙烯三胺五乙酸、羟乙基乙二胺三乙酸、二乙胺五乙酸、N-羟乙基乙二胺三乙酸和聚丙烯酸胺中的至少一种。
[0028]根据本专利技术的部分实施方式，一种蚀刻液，用于进行一图案化步骤，其特征在于，包括：双氧水(0.01-50wt％)、金属缓蚀剂(0.1-10wt％)及/或安定剂(0.1-10wt％)。
[0029]根据本专利技术的部分实施方式，一种触控面板的制作方法，其特征在于，包含：提供一基板，其中该基板本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
8.0wt％)。11.根据权利要求9所述的触控面板的制作方法，其特征在于，该图案化步骤还包括利用该蚀刻液将该金属层形成多个标记，该些蚀刻层包括多个第一中间层及多个第二中间层，每一该些第一中间层设置在对应的该些周边引线与该基板之间，每一该些第二中间层设置在对应的该些标记与该基板之间。12.根据权利要求1所述的触控面板的制作方法，其特征在于，还包括设置一膜层。13.根据权利要求1所述的触控面板的制作方法，其特征在于，该制作方法可于该基板的一面或双面进行。14.一种根据权利要求1所述的触控面板的制作方法所制成的触控面板。15.一种蚀刻液，用于进行一图案化步骤，其特征在于，包括：双氧水(0.2-40wt％)、酸类(0.2-20wt％)、金属缓蚀剂(0.1-10wt％)及/或安定剂(0.1-10wt％)。16.根据权利要求15所述的蚀刻液，其特征在于，该酸类包含有机酸、无机酸或其组合。17.根据权利要求16所述的蚀刻液，其特征在于，该有机酸包含有羧酸、二羧酸、三羧酸、烷基羧酸、乙酸、乙二酸、苯六甲酸、甲酸、氯乙酸、苯甲酸、三氟乙酸、丙酸和丁酸中的至少一种。18.根据权利要求16所述的蚀刻液，其特征在于，该无机酸包含有磷酸、硝酸、醋酸和盐酸中的至少一种。19.根据权利要求15所述的蚀刻液，其特征在于，该金属缓蚀剂包含有含氮、含硫或含羟基的、具有表面活性的有机化合物、巯基苯并噻唑、苯并三唑和甲基苯并三唑中的至少一种。20.根据权利要求15所述的蚀刻液，其特征在于，该安定剂包含有乙二胺四乙酸、二乙烯三胺五乙酸、羟乙基乙二胺三乙酸、二乙胺五乙酸、N-羟乙基乙二胺三乙酸和聚丙烯酸胺中的至少一种。21.一种蚀刻液，用于进行一图案化步骤，其特征在于，包括：双氧水(0.01-50wt％)、金属缓蚀剂(0.1-10wt％)及/或安定剂(0.1-10wt％)。22.根据权利要求21所述的蚀刻液，其特征在于，该金属缓蚀剂包含有含氮、含硫或含羟基的、具有表面活性的有机化合物、巯基苯并噻唑、苯并三唑和甲基苯并三唑中的至少一种。23.根据权利要求21所述的蚀刻液，其特征在于，该安定剂包含有乙二胺四乙酸、二乙烯三胺五乙酸、羟乙基乙二胺三乙酸、二乙胺五乙酸、N-羟乙基乙二胺三乙酸和聚丙烯酸胺中的至少一种。24.一种触控面板的制作方法，其特征在于，包含：提供一基板，其中该基板具有一显示区与一周边区；设置一金属层与一金属纳米线层，其中该金属纳米线层的一第一部分位于该显示区，该金属纳米线层的一第二部分与该金属层位于该周边区；及进行一图案化步骤，其中该图案化步骤包括使用一蚀刻液对该金属纳米线层进行蚀刻，使用另一蚀刻液对该金属层进行蚀刻，以将该金属层形成多个周边引线并同时将该金...

【专利技术属性】
技术研发人员：萧仲钦，练修成，萧啓帆，蔡家扬，邱逸文，
申请(专利权)人：英属维尔京群岛商天材创新材料科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：