触控面板及其制作方法技术

一种触控面板及其制作方法，触控面板包含基板、周边引线、触控感应电极与第一覆盖物。周边引线设置于基板上，周边引线具有侧壁及上表面。第一覆盖物覆盖周边引线的上表面，触控感应电极包括多个改质后的金属纳米线，改质后的金属纳米线在交叉点上具有直接接触的第一表面，且改质后的金属纳米线在非交叉点的第二表面上具有披覆结构。

【技术实现步骤摘要】
触控面板及其制作方法
本专利技术涉及一种触控面板及其制作方法。
技术介绍
近年来，透明导体可同时让光穿过并提供适当的导电性，因而常应用于许多显示或触控相关的装置中。一般而言，透明导体可以是各种金属氧化物，例如氧化铟锡(IndiumTinOxide，ITO)、氧化铟锌(IndiumZincOxide，IZO)、氧化镉锡(CadmiumTinOxide，CTO)或掺铝氧化锌(Aluminum-dopedZincOxide，AZO)。然而，这些金属氧化物薄膜并不能满足显示设备的可挠性需求。因此，现今发展出了多种可挠性的透明导体，例如利用纳米线等材料所制作的透明导体。然而，所述的纳米线的工艺技术尚有许多需要解决的问题，例如利用纳米线制作触控电极，纳米线与周边区的引线在进行对位时需预留对位误差区域，所述对位误差区域造成周边区的引线尺寸无法缩减，进而导致周边区的宽度较大，尤其采用卷对卷(RolltoRoll)工艺，基材的形变量导致所述对位误差区域的尺寸更加放大(如150um)，使得周边区的宽度最小仅达到2.5mm，故无法满足显示器的窄边框需求。又例如银纳米线具有高导电性，但银材料的高反射率会造成光学上的影响；有研究提出将银纳米线表面镀上低反射性材料以达到较高的光学特性。然而，银纳米线表面所镀上的低反射性材料会在银线搭接上造成较高电阻，也就是说，虽然镀上低反射性材料可以提高光学性，却损失了电性上的优势。
技术实现思路
本专利技术的目的在于，提供一种触控面板及其制作方法。本专利技术触控面板的部分实施方式中，形成披覆结构于金属纳米线的特定表面(非相互接触的表面)以达到提升光学特性的目的，同时又维持金属纳米线所构成之电极的电特性。本专利技术的部分实施方式中，通过设计周边引线受到至少由金属纳米线所形成的第一覆盖物的覆盖及标记受到至少由金属纳米线所形成的第一覆盖物的覆盖，藉以达到不需预留对位时的对位误差区域的效果，以形成宽度较小的周边引线，进而满足窄边框的需求。此外，本专利技术的部分实施方式中，提出了新的触控传感器卷带结构，因而产生不同于以往的触控面板结构。根据本专利技术的部分实施方式，一种触控面板，其特征在于，包含：一基板，其中该基板具有一显示区与一周边区；多个周边引线，设置于该基板上；多个第一覆盖物，该些第一覆盖物覆盖该些周边引线的该上表面；以及一触控感应电极，设置于该基板的该显示区，该触控感应电极电性连接该些周边引线，其中该触控感应电极包括多个改质后的金属纳米线，该些改质后的金属纳米线在交叉点上具有直接接触的第一表面，且该些改质后的金属纳米线在非交叉点的第二表面上具有披覆结构。于本专利技术的部分实施方式中，第一覆盖物包括改质后的金属纳米线。于本专利技术的部分实施方式中，第一覆盖物包括多个未改质的金属纳米线。于本专利技术的部分实施方式中，更包含膜层，其中改质后的金属纳米线裸露于膜层。于本专利技术的部分实施方式中，触控感应电极更包括设置在膜层中的多个未改质的金属纳米线。于本专利技术的部分实施方式中，第二覆盖物具有一侧面，侧面与标记的侧壁为一共同蚀刻面。于本专利技术的部分实施方式中，披覆结构为导电材料所制成的层状结构、岛状突起结构、点状突起结构或其组合。于本专利技术的部分实施方式中，导电材料为银、金、铜、铂、铱、铑、钯或锇。于本专利技术的部分实施方式中，导电材料为石墨烯(Graphene)、纳米碳管、导电高分子或导电氧化物。根据本专利技术制作方法的部分实施方式，一种触控面板的制作方法，其特征在于，包含：提供基板，基板具有显示区与周边区；设置金属层于周边区；设置多个未改质的金属纳米线于显示区与周边区，其中未改质的金属纳米线在交叉点上具有直接接触的第一表面，且未改质的金属纳米线具有在非交叉点上的第二表面；进行改质步骤，以形成多个改质后的金属纳米线所组成的金属纳米线层，其中改质后的金属纳米线在第二表面上具有披覆结构；以及进行图案化步骤，包括：图案化位于显示区的金属纳米线层以形成触控感应电极，触控感应电极包括该些改质后的金属纳米线。于本专利技术的部分实施方式中，进行图案化步骤更包含：一次性的图案化位于该周边区的该金属层与该金属纳米线层，其中图案化的该金属层形成多个周边引线，图案化的该金属纳米线层形成多个第一覆盖物，该些第一覆盖物设置于该些周边引线上。于本专利技术的部分实施方式中，第一覆盖物包括改质后的金属纳米线。于本专利技术的部分实施方式中，设置多个未改质的金属纳米线于显示区与该周边区更包含：设置一膜层于该些未改质的金属纳米线上，该些未改质的金属纳米线的一裸露部分裸露于该膜层，该裸露部分通过该改质步骤形成该些改质后的金属纳米线；该些未改质的金属纳米线的一未裸露部分内嵌于该膜层，该未裸露部分不受该改质步骤的作用。于本专利技术的部分实施方式中，改质步骤包含涂布、化镀、电镀或溅镀以形成该披覆结构；该披覆结构为导电材料所制成的层状结构、岛状突起结构、点状突起结构或其组合。于本专利技术的部分实施方式中，周边引线的侧壁与标记的侧壁存在有披覆结构。根据本专利技术的部分实施方式，一种触控面板的制作方法，其特征在于，包含：提供基板，基板具有显示区与周边区；设置金属层于周边区；设置多个未改质的金属纳米线于显示区与周边区，其中未改质的金属纳米线在交叉点上具有直接接触的第一表面，且未改质的金属纳米线具有在非交叉点上的第二表面；进行图案化步骤；以及进行改质步骤，以形成多个改质后的金属纳米线所组成的金属纳米线层，其中改质后的金属纳米线在第二表面上具有披覆结构。图案化步骤包括：图案化位于显示区的金属纳米线层以形成触控感应电极，触控感应电极包括该些改质后的金属纳米线。于本专利技术的部分实施方式中，该些标记包括设置于每一该些触控面板的该周边区的对接对位标记，或设置于相邻该些触控面板之间的切割对位标记，或设置于该基板上的对位标记、方向标记、尺寸标记或数字/文字标记。于本专利技术的部分实施方式中，周边引线的宽度为5um-20um,相邻的该些周边引线之间的距离为5um-20um。以下结合附图和具体实施例对本专利技术进行详细描述，但不作为对本专利技术的限定。附图说明图1为根据本专利技术的部分实施方式的触控面板的上视示意图。图1A为沿图1的线A-A的剖面示意图。图1B为沿图1的线B-B的剖面示意图。图2A至图2D为根据本专利技术的部分实施方式的触控面板的制作方法示意图。图3A为图1的线A-A的变化实施例的剖面示意图。图3B为图1的线B-B的变化实施例的剖面示意图。图4A为图1的线A-A的另一变化实施例的剖面示意图。图4B为图1的线B-B的另一变化实施例的剖面示意图。图5A为图1的线A-A的另一变化实施例的剖面示意图。图5B为图1的线B-B的另一变化实施例的剖面示意图。图6A为图1的线A-A的另一变化实施例的剖面示意图。图6B为图1的线B-B的另一变化实施例的剖面示意图。图7为根据本专利技术的另一实施方式的触控面板的剖面示意本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种触控面板，其特征在于，包含：/n一基板，其中该基板具有一显示区与一周边区；/n多个周边引线，设置于该基板的该周边区上；/n多个第一覆盖物，该些第一覆盖物覆盖该些周边引线的该上表面；以及/n一触控感应电极，设置于该基板的该显示区，该触控感应电极电性连接该些周边引线，其中该触控感应电极包括多个改质后的金属纳米线，该些改质后的金属纳米线在交叉点上具有直接接触的第一表面，且该些改质后的金属纳米线在非交叉点的第二表面上具有披覆结构。/n

【技术特征摘要】
1.一种触控面板，其特征在于，包含：
一基板，其中该基板具有一显示区与一周边区；
多个周边引线，设置于该基板的该周边区上；
多个第一覆盖物，该些第一覆盖物覆盖该些周边引线的该上表面；以及
一触控感应电极，设置于该基板的该显示区，该触控感应电极电性连接该些周边引线，其中该触控感应电极包括多个改质后的金属纳米线，该些改质后的金属纳米线在交叉点上具有直接接触的第一表面，且该些改质后的金属纳米线在非交叉点的第二表面上具有披覆结构。


2.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，该些第一覆盖物包括该些改质后的金属纳米线。


3.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，该些第一覆盖物包括多个未改质的金属纳米线。


4.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，更包含：一膜层，其中该些改质后的金属纳米线裸露于该膜层。


5.根据权利要求4所述的触控面板，其特征在于，该触控感应电极更包括设置在该膜层中的多个未改质的金属纳米线。


6.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，该披覆结构为导电材料所制成的层状结构、岛状突起结构、点状突起结构或其组合。


7.根据权利要求6所述的触控面板，其特征在于，该导电材料为银、金、铜、铂、铱、铑、钯或锇。


8.根据权利要求6所述的触控面板，其特征在于，该导电材料为石墨烯、纳米碳管、导电高分子或导电氧化物。


9.一种触控面板的制作方法，其特征在于，包括：
提供一基板，该基板具有一显示区与一周边区；
设置一金属层于该周边区；
设置多个未改质的金属纳米线于该显示区与该周边区，其中该些未改质的金属纳米线在交叉点上具有直接接触...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡宜珍，方玮嘉，朱俊鸿，吴孟芸，
申请(专利权)人：英属维尔京群岛商天材创新材料科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：英属维尔京群岛;VG