【技术实现步骤摘要】
触控面板及其制作方法
本专利技术涉及触控面板及其制作方法。
技术介绍
近年来,透明导体可同时让光穿过并提供适当的导电性,因而常应用于许多显示或触控相关的装置中。一般而言,透明导体可以是各种金属氧化物,例如氧化铟锡(IndiumTinOxide,ITO)、氧化铟锌(IndiumZincOxide,IZO)、氧化镉锡(CadmiumTinOxide,CTO)或掺铝氧化锌(Aluminum-dopedZincOxide,AZO)。然而,这些金属氧化物薄膜并不能满足显示设备的可挠性需求。因此,现今发展出了多种可挠性的透明导体,例如利用纳米线等材料所制作的透明导体。然而,所述的纳米线的工艺技术尚有许多需要解决的问题,例如触控面板的工艺上大多采用曝光显影步骤,之后再依据图案移除不需要的部分金属,而在双面电极制作工艺上,必须克服双面曝光的干扰问题。再者,利用纳米线制作触控电极,纳米线与周边区的引线在进行对位时需预留对位误差区域,所述对位误差区域造成周边区的引线尺寸无法缩减,进而导致周边区的宽度较大,尤其采用卷对卷(RolltoRoll)工艺,基材的形变量导致所述对位误差区域的尺寸更加放大(如150um),使得周边区的宽度最小仅达到2.5mm,故无法满足显示器的窄边框需求。
技术实现思路
本专利技术的部分实施方式中,通过将材料以图案化的方式设置于金属纳米线层或金属层上,不须额外的曝光显影步骤就可以直接进行金属纳米线层或金属层的图案化,以达到简化工艺的目的,进而控制制作成本。本专利技术的部分 ...
【技术保护点】
1.一种触控面板的制作方法,其特征在于,包含:/n提供一基板,其中该基板具有一显示区与一周边区;/n设置一金属层与一金属纳米线层,其中该金属纳米线层的一第一部分位于该显示区,该金属纳米线层的一第二部分与该金属层位于该周边区;/n设置具有图样的一图案化层;及/n依据该图案化层进行一图案化步骤,其中该图案化步骤包括利用可蚀刻该金属层与该金属纳米线层的一蚀刻液将该金属层形成多个周边引线並同時將该金属层的该第二部分形成多个蚀刻层。/n
【技术特征摘要】
1.一种触控面板的制作方法,其特征在于,包含:
提供一基板,其中该基板具有一显示区与一周边区;
设置一金属层与一金属纳米线层,其中该金属纳米线层的一第一部分位于该显示区,该金属纳米线层的一第二部分与该金属层位于该周边区;
设置具有图样的一图案化层;及
依据该图案化层进行一图案化步骤,其中该图案化步骤包括利用可蚀刻该金属层与该金属纳米线层的一蚀刻液将该金属层形成多个周边引线並同時將该金属层的该第二部分形成多个蚀刻层。
2.根据权利要求1所述的触控面板的制作方法,其特征在于,该图案化步骤更包括利用该蚀刻液将该金属纳米线层的该第一部分形成一触控感应电极,该触控感应电极设置于该基板的该显示区,该触控感应电极电性连接该些周边引线。
3.根据权利要求1所述的触控面板的制作方法,其特征在于,该图案化层是利用柔版印刷、凸版印刷、凹版印刷或网版印刷所成型。
4.根据权利要求1所述的触控面板的制作方法,其特征在于,该设置该金属层与该金属纳米线层包括:
设置该金属层于该周边区;及
接着设置该金属纳米线层于该显示区与该周边区,该第一部分位于该显示区而成形于该基板上,该第二部分位于该周边区而成形于该金属层上。
5.根据权利要求4所述的触控面板的制作方法,其特征在于,该设置该金属层于该周边区包括:选择性的将该金属层成形于该周边区而不成形于该显示区。
6.根据权利要求4所述的触控面板的制作方法,其特征在于,该设置该金属层于该周边区包括:
将该金属层成形于该周边区与该显示区;及
移除位于该显示区的该金属层。
7.根据权利要求4所述的触控面板的制作方法,其特征在于,该设置具有图样的该图案化层包括将该图案化层设置于该金属纳米线层上,该图案化层与该金属纳米线层形成一复合结构。
8.根据权利要求4所述的触控面板的制作方法,其特征在于,该图案化步骤更包括利用该蚀刻液将该金属层形成多个标记,该些蚀刻层包括多个第一覆盖物及多个第二覆盖物,每一该些第一覆盖物设置在对应的该些周边引线上,每一该些第二覆盖物设置在对应的该些标记上。
9.根据权利要求1所述的触控面板的制作方法,其特征在于,该设置该金属层与该金属纳米线层包括:
设置该金属纳米线层于该显示区与该周...
【专利技术属性】
技术研发人员:蔡宜珍,方玮嘉,朱俊鸿,萧仲钦,
申请(专利权)人:英属维尔京群岛商天材创新材料科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:英属维尔京群岛;VG
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