本实用新型专利技术涉及脱硫石膏洁净技术领域，尤其是涉及一种脱硫石膏雾化清洗装置及系统，其中，雾化清洗装置包括清洗水主管、多个清洗水支管和固定支架；所述清洗水支管平行分散设置在所述固定支架上；每个所述清洗水支管均与所述清洗水主管连通；每个所述清洗水支管上均设置有多个雾化喷头，且每个所述雾化喷头均与所述清洗水支管连通，每个所述雾化喷头距离真空皮带脱水机的高度为0.01‑2.0m。本实用新型专利技术的脱硫石膏雾化清洗装置，采用多点雾化水对脱水石膏进行布控清洗，不仅提高了对脱硫石膏的清洗效果，提高了脱硫石膏中氯离子等杂质的去除率，使脱硫石膏能够达到国标要求，而且可根据实时用水量的需求，分区域调节雾化喷水量，在保证洗涤效果的前提下，提高清洗水的利用率。
【技术实现步骤摘要】
一种脱硫石膏雾化清洗装置及系统
本技术涉及脱硫石膏洁净
，尤其是涉及一种脱硫石膏雾化清洗装置及系统。
技术介绍
石灰石-石膏湿法脱硫是目前电力和有色行业烟气脱硫的主要方式，其具有脱硫效率高、工艺成熟可靠、副产品石膏可综合利用等优点。在烟气脱硫系统中，石膏浆液由吸收塔排出泵输送到石膏脱水系统，通过石膏旋流站及石膏脱水皮带机的真空脱水系统脱水，形成固态石膏粉。但产出的固体石膏粉，却因高含盐分，无法得到有效的利用，需要后续的分离、洁净工艺方可生产出可供下游产业使用合格的石膏。在烟气脱硫石膏脱水皮带机真空系统中，集中设置滤饼冲洗装置，主要利用脱硫石膏的渗透特性和水盐特性，通过保证淋洗水流的均匀稳定，达到降低固体石膏中氯离子浓度和去除其他杂质的目的。然而，现有技术中的滤饼冲洗装置都是只单点水流式的粗犷清洗，用水量大，水流不均匀，导致清洗后的脱硫石膏仍然含有大量氯离子等杂质，脱水困难，含水率高，各项指标难以达到脱硫石膏国家标准，从而使得石灰石-石膏湿法脱硫工艺中的石膏产品的质量良莠不齐、品质等级相差极大，增加了下游产业的处理成本。因此，开发一种新型的脱硫石膏雾化清洗装置，以提高脱硫石膏的品质，是本领域亟需解决的一项技术问题。
技术实现思路
本技术的第一目的在于提供一种脱硫石膏雾化清洗装置，该雾化清洗装置提高了对脱硫石膏的清洗效果；本技术的第二目的在于提供一种脱硫石膏雾化清洗系统，旨在解决现有技术中脱硫石膏品质难以达到国标要求的问题。本技术提供一种脱硫石膏雾化清洗装置，包括清洗水主管、多个清洗水支管和固定支架；所述清洗水支管平行分散设置在所述固定支架上；每个所述清洗水支管均与所述清洗水主管连通；每个所述清洗水支管上均设置有多个雾化喷头，且每个所述雾化喷头均与所述清洗水支管连通，每个所述雾化喷头距离真空皮带脱水机的高度为0.01-2.0m。现有技术中脱硫石膏的冲洗装置通常布置在真空皮带脱水机的前端，并位于脱硫石膏浆液进口的上方，主要通过冲洗装置上开设有多个喷水口的冲洗水管进行冲洗，但因清洗水流不均匀，存在清洗效果差，脱水石膏品质难以达到国标要求的问题。为解决上述问题，本技术的脱硫石膏雾化清洗装置包括清洗水主管、多个清洗水支管和固定支架，其中，清洗水支管平行分散设置在固定支架上，并且每个清洗水支管均与清洗水主管连通，多个清洗水支管的设置提高了清洗水与脱硫石膏的接触面积，并且可分区域控制喷水量，在稳定高效去除氯离子等杂质的前提下，提高了清洗水的利用率。此外，为解决清洗水流不均匀的问题，在每个清洗水支管上均设置有多个雾化喷头，并且每个雾化喷头均与清洗水支管连通，雾化喷头的设置可实现雾化水进行点线面的结合清洗，达到科学布控、高效节水的效果。进一步，所述清洗水主管上设置有水量调节总阀和压力调节阀，每个所述清洗水支管与所述清洗水主管连通的通路上均设置有水量调节阀。清洗水主管上设置有水量调节总阀和压力调节阀，分别用于调节进入清洗水主管的总水量及用于雾化清洗水的雾化压力。为实现分区域控制喷水量，每个清洗水支管与清洗水主管连通的通路上均设置有水量调节阀，用于控制清洗水支管的开启与关闭。进一步，相邻所述清洗水支管上设置的所述雾化喷头交错布设。为进一步提高雾化喷头的雾化水的喷射面积，相邻清洗水支管上设置的雾化喷头交错布设。进一步，所述清洗水支管沿真空皮带脱水机的延伸方向垂直布设。清洗水支管沿真空皮带脱水机的延伸方向垂直布设，即清洗水支管沿脱硫石膏浆液的运动方向垂直布设，该设置方式可提高雾化水与脱硫石膏的接触面积，进而提高对脱硫石膏的清洗效果。进一步，所述雾化喷头的覆盖面积为0.01-3.0m2。根据雾化清洗过程中对清洗效果的要求，可选择覆盖面积为0.01-3.0m2的雾化喷头。本技术还公开了一种脱硫石膏雾化清洗系统，包括上述雾化清洗装置和真空皮带脱水机；所述雾化清洗装置设置在靠近所述真空皮带脱水机进料口一端的上方。本技术的脱硫石膏雾化清洗系统包括真空皮带脱水机和设置在真空皮带脱水机进料口一端上方的雾化清洗装置，即当脱硫石膏浆液由真空皮带脱水机的进料口一端进入真空皮带脱水机后，多个雾化喷头喷出的面状雾化水可对脱硫石膏进行冲洗，以实现稳定高效去除氯离子的目的，最终洗涤后的脱硫石膏由真空皮带脱水机的下料口排出。因此，本技术的脱硫石膏雾化清洗系统可显著提高脱硫石膏中氯离子等杂质的脱除率，并使脱硫石膏的品质达到国标要求。进一步，还包括水循环机构，所述水循环机构包括依次首尾连通的废水箱、沉淀箱和储水箱；所述废水箱与所述真空皮带脱水机底部的废水出口连通；所述储水箱与所述清洗水主管连通。在本技术的脱硫石膏雾化清洗系统中，为了提高清洗水的利用率，还包括水循环机构，而水循环系统包括依次首尾连通的废水箱、沉淀箱和储水箱，其中，废水箱与真空皮带脱水机底部的废水出口连通，用于存放洗涤后的废水，当废水箱中的水满后，排至沉淀箱，通过向沉淀箱中投加药剂，以除去废水中的氯离子，然后将处理后的废水泵入储水箱，而储水箱与清洗水主管连通，用于回用处理后的废水。进一步，所述沉淀箱上设置有投药部件和搅拌器。沉淀箱上设置有投药部件和搅拌器，分别用于为废水的处理提高化学药剂，如硫代硫酸钠、聚合硫酸亚铁对含铝废水进行絮凝沉淀处理。进一步，所述废水箱、所述沉淀箱和所述储水箱依次连通的通路上均设置有提升泵及止回阀。为控制含氯废水的处理和回用，在废水箱、沉淀箱和储水箱依次连通的通路上均设置有提升泵和止回阀。本技术的脱硫石膏雾化清洗装置，与现有技术相比，具有以下技术效果：本技术的脱硫石膏雾化清洗装置，采用多点雾化水对脱水石膏进行布控清洗，不仅提高了对脱硫石膏的清洗效果，提高了脱硫石膏中氯离子等杂质的去除率，使脱硫石膏能够达到国标要求，而且可根据实时用水量的需求，分区域调节雾化喷水量，在保证洗涤效果的前提下，提高清洗水的利用率。附图说明为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术脱硫石膏雾化清洗装置的示意图；图2为本技术脱硫石膏雾化清洗系统的示意图；图3为本技术水循环机构的示意图。附图标记说明：1：清洗水主管；2：清洗水支管；3：固定支架；4：雾化喷头；5：水量调节总阀；6：压力调节阀；7：水量调节阀；8：真空皮带脱水机；9：废水箱；10：沉淀箱；11：储水箱；12：废水出口；13：投药部件；14：搅拌器；15：提升泵；16：止回阀。具体实施方式下面将结合实施例对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种脱硫石膏雾化清洗装置，其特征在于，包括清洗水主管(1)、多个清洗水支管(2)和固定支架(3)；/n所述清洗水支管(2)平行分散设置在所述固定支架(3)上；/n每个所述清洗水支管(2)均与所述清洗水主管(1)连通；/n每个所述清洗水支管(2)上均设置有多个雾化喷头(4)，且每个所述雾化喷头(4)均与所述清洗水支管(2)连通，每个所述雾化喷头(4)距离真空皮带脱水机(8)的高度为0.01-2.0m。/n
【技术特征摘要】
1.一种脱硫石膏雾化清洗装置，其特征在于，包括清洗水主管(1)、多个清洗水支管(2)和固定支架(3)；
所述清洗水支管(2)平行分散设置在所述固定支架(3)上；
每个所述清洗水支管(2)均与所述清洗水主管(1)连通；
每个所述清洗水支管(2)上均设置有多个雾化喷头(4)，且每个所述雾化喷头(4)均与所述清洗水支管(2)连通，每个所述雾化喷头(4)距离真空皮带脱水机(8)的高度为0.01-2.0m。
2.根据权利要求1所述的雾化清洗装置，其特征在于，所述清洗水主管(1)上设置有水量调节总阀(5)和压力调节阀(6)，每个所述清洗水支管(2)与所述清洗水主管(1)连通的通路上均设置有水量调节阀(7)。
3.根据权利要求2所述的雾化清洗装置，其特征在于，相邻所述清洗水支管(2)上设置的所述雾化喷头(4)交错布设。
4.根据权利要求1-3任一项所述的雾化清洗装置，其特征在于，所述清洗水支管(2)沿真空皮带脱水机(8)的延伸方向垂直布设。
...
【专利技术属性】
技术研发人员：李晓峰，张国柱，谷小兵，彭思伟，张钧泰，白玉勇，吴静，
申请(专利权)人：大唐环境产业集团股份有限公司，清华大学，
类型：新型
国别省市：北京;11
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