一种难熔金属基高体积比陶瓷材料及其制备工艺制造技术

本发明专利技术第一方面提供了一种难熔金属基高体积比陶瓷材料，包括难熔金属氧化物和稀有金属作为原料，难熔金属氧化物的体积含量大于等于50％，烧结相对密度大于等于94％，杂质元素总含量小于等于1500ug/g；本发明专利技术第二方面提供了配套制备工艺，包括如下步骤：S1、将难熔金属氧化物与稀有金属进行混料；S2、将步骤S1所得混合物料进行压坯成型得到生坯；S3、将步骤S2所得生坯进行烧结得到烧结坯；S4、将步骤S3所得烧结坯进行切割、磨削加工即得；本发明专利技术所提供的制备工艺链条短，投入少，操作简单，混料相对均匀，烧结相对密度高，杂质含量低且可控；其所制得的难熔金属基高体积比陶瓷材料硬度高，耐高温，导热率高，抗压缩强度高，可以用作耐高温结构部件。

【技术实现步骤摘要】
一种难熔金属基高体积比陶瓷材料及其制备工艺
本专利技术涉及粉末冶金
，具体而言，涉及一种难熔金属基高体积比陶瓷材料及其制备工艺。
技术介绍
钨钼类难熔金属，具有高熔点，高热导率等优点。金属氧化物陶瓷材料具有优良的强度、硬度、耐高温、耐氧化、耐腐蚀、耐磨等特性，在严苛的环境条件下具有良好的高温稳定性与力学性能，属于高性能结构及功能陶瓷。如能将难熔金属与金属氧化物陶瓷材料的优点结合起来，制备一种陶瓷复合材料，其将具备高熔点、高硬度、高耐磨性、高热导率等特点。具备这些特点的材料应用于机械、电子、冶炼、能源、医学、激光、核工业及宇航等领域的潜力巨大。目前针对难熔金属与金属氧化物的复合研究主要集中在低体积比金属氧化物陶瓷材料，低体积比的含义在于金属氧化物的含量小于等于10％，该材料主要应用于对耐磨性或结构性要求较高的领域，而无法用于有其他要求的领域，例如芯体、传热、导热、耐高温部件等。申请内容本专利技术提供了一种难熔金属基高体积比陶瓷材料及其制备工艺，能够有效解决上述问题。本专利技术的实施例通过以下技术方案实现：...

【技术保护点】
1.一种难熔金属基高体积比陶瓷材料，其特征在于，包括如下原料组分：难熔金属氧化物和稀有金属；/n其中，难熔金属氧化物的体积含量大于等于50％；/n其中，烧结相对密度大于等于94％；/n其中，杂质元素总含量小于等于1500ug/g。/n

【技术特征摘要】
1.一种难熔金属基高体积比陶瓷材料，其特征在于，包括如下原料组分：难熔金属氧化物和稀有金属；
其中，难熔金属氧化物的体积含量大于等于50％；
其中，烧结相对密度大于等于94％；
其中，杂质元素总含量小于等于1500ug/g。


2.根据权利要求1所述的难熔金属基高体积比陶瓷材料，其特征在于，难熔金属氧化物的体积含量为50％-70％，稀有金属的体积含量为30％-50％。


3.根据权利要求1或2所述的难熔金属基高体积比陶瓷材料，其特征在于，难熔金属氧化物为二氧化锆。


4.根据权利要求3所述的难熔金属基高体积比陶瓷材料，其特征在于，二氧化锆的纯度大于等于99.95体积％。


5.根据权利要求1或2所述的难熔金属基高体积比陶瓷材料，其特征在于，稀有金属为钨或钼。


6.根据权利要求5所述的难熔金属基高体积比陶瓷材料，其特征在于，钨的纯度大于等于99.95体积％，钼的纯度大于等于99.95体积％。


7.一种难熔金属基高体积比陶瓷材料的制备工艺，用于制备如权利要求1-6任意一项所述的难熔金属基高体积比陶瓷材料，其特征在于，包括如下步骤：
...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘宇，赵振刚，任柴，彭琳茜，李俊怀，
申请(专利权)人：成都虹波实业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：四川;51