等离子清洗机制造技术

本实用新型专利技术公开一种等离子清洗机，该等离子清洗机包括清洗机本体、第一腔体、升降装置和限位装置。所述第一腔体安装于所述清洗机本体内并用于对待清洗的物料进行清洗，所述升降装置能够带动所述第一腔体做升降运动，所述限位装置用于在所述升降装置将所述第一腔体顶升之后对所述第一腔体进行限位。本实用新型专利技术等离子清洗机可解决在现有的一些等离子清洗机中，工作人员要对其反应腔体进行清洁维护时并不是很方便的技术问题。

【技术实现步骤摘要】
等离子清洗机
本技术涉及等离子清洗机
，特别涉及一种等离子清洗机。
技术介绍
在IC行业中，基板和引线框架在生产时通常会遗留有溢胶、氧化物等污染物，进而影响焊线效果，目前主要是通过等离子清洗机对基板和引线框架进行清洗。在清洗时，一般是将需要清洗的基板或引线框架送至等离子清洗机的反应腔体内，进而利用反应腔体内的等离子体对基板或引线框架进行清洗。而清洗一段时间后，腔体内容易出现污染，进而需要腔体进行清洁和维护。但是在现有的一些等离子清洗机中，反应腔体是固定于清洗机内，并且随着等离子清洗机的小型化，反应腔体与其他的机构部件都安装得较为紧凑，工作人员要对反应腔体进行清洁维护时并不是很方便。上述内容仅用于辅助理解技术的技术方案，并不代表承认上述内容是现有技术。
技术实现思路
本技术的主要目的是提出一种等离子清洗机，旨在解决在现有的一些等离子清洗机中，工作人员要对其反应腔体进行清洁维护时并不是很方便的技术问题。为实现上述目的，本技术提出的等离子清洗机包括清洗机本体、第一腔体、升降装置和限位装置。所述第一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种等离子清洗机，其特征在于，包括：/n清洗机本体；/n第一腔体，安装于所述清洗机本体内并用于对待清洗的物料进行清洗；/n升降装置，能够带动所述第一腔体做升降运动；以及，/n限位装置，用于在所述升降装置将所述第一腔体顶升之后对所述第一腔体进行限位。/n

【技术特征摘要】
1.一种等离子清洗机，其特征在于，包括：
清洗机本体；
第一腔体，安装于所述清洗机本体内并用于对待清洗的物料进行清洗；
升降装置，能够带动所述第一腔体做升降运动；以及，
限位装置，用于在所述升降装置将所述第一腔体顶升之后对所述第一腔体进行限位。


2.如权利要求1所述的等离子清洗机，其特征在于，所述等离子清洗机还包括升降导轨，所述第一腔体滑动安装于所述升降导轨上。


3.如权利要求2所述的等离子清洗机，其特征在于，所述第一腔体通过滑动件滑动安装于所述升降导轨上，所述升降装置连接于所述滑动件并可驱动所述滑动件滑动。


4.如权利要求3所述的等离子清洗机，其特征在于，所述限位装置包括限位气缸和限位件，所述限位件与所述限位气缸的活塞杆相连接；
在所述升降装置驱动所述滑动件上升之后，所述限位件可被所述限位气缸驱动至所述滑动件的下方并与所述滑动件抵接。


5.如权利要求4所述的等离子清洗机，其特征在于，所述等离子清洗机还包括支撑件，所述限位气缸的活塞杆滑动穿...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱霆，叶贤斌，李文强，杨建新，张凯，
申请(专利权)人：深圳泰德半导体装备有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44