一种测量芯片爬胶高度及宽度的装置制造方法及图纸

一种测量芯片爬胶高度及宽度的装置，包括底座、第一立柱、第二立柱、显微系统角度调整座、显微测量系统和样品平台组件；第一立柱、第二立柱竖直设置在底座上，第一立柱、第二立柱沿横向并排设置；样品平台组件设置在底座上，样品平台组件位于第二立柱的前侧；显微测量系统包括结构相同的第一显微测量系统和第二显微测量系统；第一显微测量系统竖直设置在第一立柱上；第二显微测量系统通过显微系统角度调整座转动设置在第二立柱上；第一显微测量系统以及第二显微测量系统的测量端均朝向样品台。本实用新型专利技术中，光路系统的角度实现了从‑度的角度可调，从而来满足各种样品的爬胶高度和宽度的参数测试，测量方便，测量精度高。

【技术实现步骤摘要】
一种测量芯片爬胶高度及宽度的装置
本技术涉及芯片生产测量
，尤其涉及一种测量芯片爬胶高度及宽度的装置。
技术介绍
芯片生产的爬胶宽度和高度是很重要的指标。现有的技术只是简单地通过显微镜来粗略地观察，需要更精确的测量方法，例如通过不同角度的光路系统，通过数字观察系统及相应的分析软件来精确地测量芯片生产时的爬胶高度和宽度。如何使得爬胶宽度和高度能够更加精确和方便的进行测量，是需要解决的问题。
技术实现思路
(一)技术目的为解决
技术介绍
中存在的技术问题，本技术提出一种测量芯片爬胶高度及宽度的装置，光路系统的角度实现了从0-90度的角度可调，从而来满足各种样品的爬胶高度和宽度的参数测试，测量方便，测量精度高。(二)技术方案为解决上述问题，本技术提出了一种测量芯片爬胶高度及宽度的装置，包括底座、第一立柱、第二立柱、显微系统角度调整座、显微测量系统和样品平台组件；第一立柱、第二立柱竖直设置在底座上，第一立柱、第二立柱沿横向并排设置；样品平台组件设置在底座上，样品平台组件位于第二立柱的前侧；显微测量系统包括光学显微系统、数字相机、微调平台、显微系统固定座、落射光源和定位激光模块；光学显微系统与微调平台均设置在显微系统固定座上；微调平台连接光学显微系统；数字相机设置在光学显微系统的顶部，落射光源设置在光学显微系统的底部；定位激光模块设置在光学显微系统的下部；其中，显微测量系统包括结构相同的第一显微测量系统和第二显微测量系统；第一显微测量系统竖直设置在第一立柱上；第二显微测量系统通过显微系统角度调整座转动设置在第二立柱上；第一显微测量系统以及第二显微测量系统的测量端均朝向样品台；样品平台组件包括二维定位台、升降台、旋转平台、真空室和样品台；二维定位台设置在底座上；旋转平台通过升降台设置在二维定位台上；真空室设置在旋转平台上；样品台设置在真空室上，样品台位于第一显微测量系统的下方。优选的，样品台与真空室之间设置密封垫。优选的，定位激光模块为棱镜组件。优选的，显微系统角度调整座8的转动调节角度为0-90度；0度为水平状态，90度为竖直状态。本技术中，光路系统的角度实现了从-度的角度可调，从而来满足各种样品的爬胶高度和宽度的参数测试，测量方便，测量精度高。附图说明图1为本技术提出的测量芯片爬胶高度及宽度的装置的结构示意图。具体实施方式为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚明了，下面结合具体实施方式并参照附图，对本技术进一步详细说明。应该理解，这些描述只是示例性的，而并非要限制本技术的范围。此外，在以下说明中，省略了对公知结构和技术的描述，以避免不必要地混淆本技术的概念。如图1所示，本技术提出的一种测量芯片爬胶高度及宽度的装置，包括底座11、第一立柱7、第二立柱9、显微系统角度调整座8、显微测量系统和样品平台组件；第一立柱7、第二立柱9竖直设置在底座11上，第一立柱7、第二立柱9沿横向并排设置；样品平台组件设置在底座11上，样品平台组件位于第二立柱9的前侧；显微测量系统包括光学显微系统1、数字相机2、微调平台3、显微系统固定座4、落射光源5和定位激光模块6；光学显微系统1与微调平台3均设置在显微系统固定座4上；微调平台3连接光学显微系统1；数字相机2设置在光学显微系统1的顶部，落射光源5设置在光学显微系统1的底部；定位激光模块6设置在光学显微系统1的下部；其中，显微测量系统包括结构相同的第一显微测量系统10和第二显微测量系统20；第一显微测量系统10竖直设置在第一立柱7上；第二显微测量系统20通过显微系统角度调整座8转动设置在第二立柱9上；第一显微测量系统10以及第二显微测量系统20的测量端均朝向样品台14；样品平台组件包括二维定位台18、升降台17、旋转平台16、真空室15和样品台14；二维定位台18设置在底座11上；旋转平台16通过升降台17设置在二维定位台18上；真空室15设置在旋转平台16上；样品台14设置在真空室15上，样品台14位于第一显微测量系统10的下方。本技术工作中，包括以下步骤：S1：将样品放置在样品台14上，通过真空室15和样品台14将样品固定；S2：通过定位激光模块6定位样品的位置；S3：通过二维平台18和旋转平台16调整和定位样品的位置；S4：通过微调平台3调节所观察到的样品的清晰度；S5：样品通过光学显微系统以及数字相机显示到电脑端的软件界面上；在一个可选的实施例中，显微系统角度调整座9的转动调节角度为0-90度；0度为水平状态，90度为竖直状态。需要说明的是，第二显微测量系统20通过显微系统角度调整座8转动设置在第二立柱9上，进行角度调节；第一显微测量系统10和第二显微测量系统20可单独工作，也可共同配合工作；工作中，根据不同的测试需求来选择使用。在一个可选的实施例中，样品台14与真空室15之间设置密封垫，密封效果好。在一个可选的实施例中，定位激光模块6为棱镜组件，使用方便。综上，本技术中，光路系统的角度实现了从0-90度的角度可调，从而来满足各种样品的爬胶高度和宽度的参数测试，测量方便，测量精度高。同时，能够根据不同的测试需求以选择使用第一显微测量系统10和第二显微测量系统20中的任意一个，或选择同时使用两组。应当理解的是，本技术的上述具体实施方式仅仅用于示例性说明或解释本技术的原理，而不构成对本技术的限制。因此，在不偏离本技术的精神和范围的情况下所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。此外，本技术所附权利要求旨在涵盖落入所附权利要求范围和边界、或者这种范围和边界的等同形式内的全部变化和修改例。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种测量芯片爬胶高度及宽度的装置，其特征在于，包括底座(11)、第一立柱(7)、第二立柱(9)、显微系统角度调整座(8)、显微测量系统和样品平台组件；/n第一立柱(7)、第二立柱(9)竖直设置在底座(11)上，第一立柱(7)、第二立柱(9)沿横向并排设置；样品平台组件设置在底座(11)上，样品平台组件位于第二立柱(9)的前侧；/n显微测量系统包括光学显微系统(1)、数字相机(2)、微调平台(3)、显微系统固定座(4)、落射光源(5)和定位激光模块(6)；光学显微系统(1)与微调平台(3)均设置在显微系统固定座(4)上；微调平台(3)连接光学显微系统(1)；数字相机(2)设置在光学显微系统(1)的顶部，落射光源(5)设置在光学显微系统(1)的底部；定位激光模块(6)设置在光学显微系统(1)的下部；/n其中，显微测量系统包括结构相同的第一显微测量系统(10)和第二显微测量系统(20)；第一显微测量系统(10)竖直设置在第一立柱(7)上；第二显微测量系统(20)通过显微系统角度调整座(8)转动设置在第二立柱(9)上；第一显微测量系统(10)以及第二显微测量系统(20)的测量端均朝向样品台(14)；/n样品平台组件包括二维定位台(18)、升降台(17)、旋转平台(16)、真空室(15)和样品台(14)；二维定位台(18)设置在底座(11)上；旋转平台(16)通过升降台(17)设置在二维定位台(18)上；真空室(15)设置在旋转平台(16)上；样品台(14)设置在真空室(15)上，样品台(14)位于第一显微测量系统(10)的下方。/n...

【技术特征摘要】
1.一种测量芯片爬胶高度及宽度的装置，其特征在于，包括底座(11)、第一立柱(7)、第二立柱(9)、显微系统角度调整座(8)、显微测量系统和样品平台组件；
第一立柱(7)、第二立柱(9)竖直设置在底座(11)上，第一立柱(7)、第二立柱(9)沿横向并排设置；样品平台组件设置在底座(11)上，样品平台组件位于第二立柱(9)的前侧；
显微测量系统包括光学显微系统(1)、数字相机(2)、微调平台(3)、显微系统固定座(4)、落射光源(5)和定位激光模块(6)；光学显微系统(1)与微调平台(3)均设置在显微系统固定座(4)上；微调平台(3)连接光学显微系统(1)；数字相机(2)设置在光学显微系统(1)的顶部，落射光源(5)设置在光学显微系统(1)的底部；定位激光模块(6)设置在光学显微系统(1)的下部；
其中，显微测量系统包括结构相同的第一显微测量系统(10)和第二显微测量系统(20)；第一显微测量系统(10)竖直设置在第一立柱(7)上；第二显微测量系统(20)通过显微系统...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴骏逸，杨海华，
申请(专利权)人：上海艾飞思精密仪器有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31