用于金属或金属化合物膜表面的防指纹涂层及其制备方法技术

本申请涉及真空镀膜领域，具体公开了一种用于金属或金属化合物膜表面的防指纹涂层及其制备方法。用于金属或金属化合物膜表面的防指纹涂层包括依次覆盖于金属或金属化合物膜表面的Al2O3层、SiO2层以及防指纹膜层；其制备方法包括以下步骤：步骤1，表面镀有金属或金属化合物膜的基材清洗；步骤2，真空镀膜室内离子清洗；步骤3，沉积Al2O3层；步骤4，沉积SiO2层；步骤5，沉积防指纹膜层；采用上述制备方法制得覆盖有防指纹涂层的表面镀有金属或金属化合物膜的基材。本申请的防指纹涂层可用于表面镀有金属或金属化合物膜的任意金属基材表面，其具有耐磨性好且成本低的优点；本申请的制备方法具有生产易于控制、有利于批量工业化生产的优点。点。点。

【技术实现步骤摘要】
用于金属或金属化合物膜表面的防指纹涂层及其制备方法


[0001]本申请涉及真空镀膜领域，更具体地说，它涉及一种用于金属或金属化合物膜表面的防指纹涂层及其制备方法。

技术介绍

[0002]AF防指纹技术最早是应用在玻璃表面的，目前的技术已经非常成熟了。但随着科技进步的发展、消费的升级以及人们生活水平的提高，目前智能穿戴领域的金属或金属化合物表面也对防指纹技术提出了更高的需求。
[0003]目前的智能穿戴领域的防指纹通常是通过蒸发镀膜技术直接在产品表面覆盖一层防指纹涂层实现的，目前的防指纹涂层在金属或金属化合物膜表面的初始水滴角也可以达到跟在玻璃表面一样的效果。
[0004]针对上述中的相关技术，专利技术人认为，防指纹涂层与金属或金属化合物膜的结合力强度比较差，从而导致金属或金属化合物膜表面的防指纹涂层的耐磨性能比较差，因此，仍有改进的空间。

技术实现思路

[0005]为了提高金属或金属化合物膜表面的防指纹涂层的耐磨性能，本申请提供一种用于金属或金属化合物膜表面的防指纹涂层及其制备方法。
[0006]第一方面本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于金属或金属化合物膜表面的防指纹涂层，其特征在于：包括依次覆盖于金属或金属化合物膜（2）表面的Al2O3层（3）、SiO2层（4）以及防指纹膜层（5）。2.一种如权利要求1所述的用于金属或金属化合物膜表面的防指纹涂层的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤1，将表面镀有金属或金属化合物膜（2）的基材（1）投入真空镀膜室中加热、抽真空；步骤2，往真空镀膜室中通入氩气，并对镀有金属或金属化合物膜（2）的基材（1）进行离子清洗；步骤3，通入氧气，并开启Al靶，采用磁控溅射法在金属或金属化合物膜（2）表面沉积Al2O3层（3）；步骤4，关闭Al靶，开启Si靶，采用磁控溅射法在Al2O3层（3）表面沉积SiO2层（4）；步骤5，关闭氩气以及氧气，关闭Si靶，采用真空蒸发镀膜在SiO2层（4）表面沉积防指纹膜层（5）。3.根据权利要求2所述的用于金属或金属化合物膜表面的防指纹涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤3中，通入氧气，控制气压为0.3
‑
0.4Pa，偏压设定为（
‑
50）
‑
（
‑
70）V，Al靶的电流设定为15
‑
18A，沉积Al2O3层（3）3
‑
5min。4.根据权利要求2所述的用于金属或金属化合物膜表面的防指纹涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤4中，关闭Al靶，控制气压为0.3
‑
0.4Pa，偏压设定为（
‑
50）
‑
（
‑
70）V，开启Si靶，Si靶的电流设定为12
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15A，沉积SiO2层（4）5
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7min。5.根据权利要求2所述的用于金属或金属化合物膜表面的防指纹涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤5中，关闭氩气以及氧气，关闭Si靶，调整蒸发电流为60
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80A，沉积防指纹膜层（5）20
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25min。6.根据权利要求2所述的用于金属或金属化合物膜表面的防指纹涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤3中...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵明华，汪达文，汪经纬，陈金周，武俊伟，
申请(专利权)人：森科五金深圳有限公司，
类型：发明
国别省市：