一种用于铝合金表面的复合膜层及其制备方法技术

本申请涉及真空镀膜领域，具体公开了一种用于铝合金表面的复合膜层及其制备方法。用于铝合金表面的复合膜层包括依次覆盖于铝合金表面的Cr层、CrWC层、WC层以及DLC层；其制备方法包括以下步骤：步骤1，清洗合金；步骤2，真空镀膜室内离子清洗；步骤3，沉积Cr层；步骤4，沉积CrWC层；步骤5，沉积WC层；步骤6，沉积DLC层；覆盖有复合膜层的铝合金采用上述制备方法制得。本申请的方法可直接采用铝合金替代不锈钢应用于5G信号发射塔基站以及手机3C类外观装饰件上，其具有成本低且耐腐蚀、耐磨、硬度以及散热性能均很好的优点；另外，本申请的制备方法具有易于工业化生产、成本低的优点。成本低的优点。成本低的优点。

【技术实现步骤摘要】
一种用于铝合金表面的复合膜层及其制备方法


[0001]本申请涉及真空镀膜领域，更具体地说，它涉及一种用于铝合金表面的复合膜层及其制备方法。

技术介绍

[0002]由于不锈钢具有耐空气、蒸汽、水等弱腐蚀介质的优良性能，目前通常会采用在不锈钢上镀DLC层的方式，制备应用于对材料耐蚀性和耐磨要求较高的5G信号发射塔基站以及手机3C类外观装饰件等领域的原材料。但是，由于不锈钢的成本比较高，目前通常会采用铝合金代替不锈钢。
[0003]然而，铝合金的耐蚀性以及强度都不及不锈钢的好，难以满足使用的性能要求，因此，通常需要增加铝合金表面的镀膜厚度。
[0004]针对上述中的相关技术，专利技术人认为，由于采用PVD镀膜的膜层厚度一般都会比较薄，难以满足耐腐蚀的要求，若PVD镀膜的膜层太厚，又容易导致应力过大而出现膜层与基材脱落的问题，因此，目前铝合金表面的镀膜方式一般是采用水镀和PVD镀膜相结合，一般是先在铝合金表面水镀镍层或者铬层，再在水镀层上镀PVD膜层。水镀膜层的沉积速率快，厚度可以做到比较厚，可以满足耐腐蚀性的要求，但水镀层在沉积过程中本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于铝合金表面的复合膜层，其特征在于：包括依次覆盖于合金（1）表面的Cr层（2）、CrWC层（3）、WC层（4）以及DLC层（5）。2.根据权利要求1所述的用于铝合金表面的复合膜层，其特征在于：所述Cr层（2）的厚度为2
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3μm，所述用于铝合金表面的复合膜层的总厚度为5
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6μm。3.一种如权利要求1
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2任一所述的用于铝合金表面的复合膜层的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤1，清洗铝合金（1），并将清洗后的铝合金（1）放入真空镀膜室中加热、抽真空；步骤2，往真空镀膜室中通入氩气，并对铝合金（1）表面进行离子清洗；步骤3，开启Cr靶，采用磁控溅射法在铝合金表面沉积Cr层（2）；步骤4，通入乙炔，开启WC靶，采用磁控溅射法在Cr层（2）表面沉积CrWC层（3）；步骤5，关闭Cr靶，采用磁控溅射法在CrWC层（3）表面沉积WC层（4）；步骤6，关闭WC靶，采用PECVD在WC层（4）表面沉积DLC层（5）。4.根据权利要求3所述的用于铝合金表面的复合膜层的制备方法，其特征在于：所述步骤3中，通入氩气，控制气压为0.3
‑
0.4Pa，偏压设定为（
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100）
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（
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120）V，Cr靶的电流设定为50
‑
60A，Cr层（2）的沉积时间为120
‑
150min。5.根据权利要求3所述的用于铝合金表面的复合膜层的制备方法，其特征在于：所述步骤4中，通入乙炔，控制气压为0.3
‑
0.4Pa，偏压设定为（
‑
100）
‑
（
‑
120）V，开启WC靶，Cr靶的电流设定为35
‑
40A，WC靶的电流设定为16
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20A，CrWC层（3）的沉积时间为30
‑
40min。6.根据权利要求3所述的用于铝合金表面的复合膜层的制备方法，其特征在于：所述步骤5中，通入乙炔，控制气压为0.3
‑
0.4Pa，偏压设定为（
‑
100）
‑
（
‑
120）V，关闭Cr靶，WC靶的电流设定为16
‑
20A，WC层（4）的沉积时间为50
‑
60min。7.根据权利要求3所述的用于铝合金表面的复合膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵明华，汪达文，江经纬，曲文泽，武俊伟，
申请(专利权)人：森科五金深圳有限公司，
类型：发明
国别省市：