按键装置制造方法及图纸

技术编号:29026932 阅读:18 留言:0更新日期:2021-06-26 05:28
本发明专利技术关于一种按键装置,包含键帽、底板、第一回复元件及第二回复元件。底板与键帽相对设置。第一回复元件设置于键帽与底板之间且包含磁铁件与磁性件以提供磁性回复力。第二回复元件设置于键帽与底板之间以提供弹性回复力。当键帽于最低位置被释放时,键帽藉由弹性回复力向上移动,继而藉由磁性回复力抵达并维持于最高位置。本发明专利技术可有效地解决磁吸按键在被按压时会因两个磁性元件互相远离导致磁吸力太弱而出现按键无法自动回位的问题。弱而出现按键无法自动回位的问题。弱而出现按键无法自动回位的问题。

【技术实现步骤摘要】
按键装置


[0001]本专利技术涉及一种按键装置,尤其涉及一种使用第一回复元件以及第二回复元件分别提供磁性回复力以及弹性回复力至键帽的按键装置。

技术介绍

[0002]就目前个人计算机的使用习惯而言,键盘为不可或缺的输入设备之一,用以输入文字、符号或数字。不仅如此,举凡日常生活所接触的消费性电子产品或是工业界使用的大型加工设备,皆需设有按键结构作为输入装置,以操作上述的电子产品与加工设备。
[0003]一般传统键盘采用将弹性件设置于键帽与底板之间的按压设计,藉此,当键帽被使用者按压后,弹性件提供弹性回复力至键帽,以驱动键帽随着升降支撑装置(如剪刀脚机构)的机构作动回复至按压前的位置。由于弹性件通常是橡胶制成,橡胶于长期抵压使用之下会有疲劳状况,进而使按键的使用寿命减短,此外,弹性件整体结构高度过高亦会造成占用按键内部空间的问题而不利于按键薄型化设计。
[0004]目前常见用来解决上述问题的方法为采用磁吸力以取代弹性件的配置,举例来说,其可将能够产生磁吸力的两个磁性元件分别设置在底板与升降支撑装置的支撑件上,藉此,当键帽被外力按压而导致两个磁性元件互相远离时,键帽可伴随升降支撑装置移动至按压位置,而当外力释放时,磁吸力就会吸引两个磁性元件互相靠近而使得键帽伴随升降支撑装置移动回未按压位置。然而,上述设计常常会在按压按键时因两个磁性元件互相远离导致磁吸力太弱而出现按键无法自动回位的问题。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的之一在于提供一种使用第一回复元件以及第二回复元件分别提供磁性回复力以及弹性回复力至键帽的按键装置,以解决上述问题。
[0006]根据本专利技术的一方面,本专利技术提出一种按键装置,其包含:
[0007]键帽;
[0008]底板,其与该键帽相对设置;
[0009]第一回复元件,其设置于该键帽与底板之间且包含磁铁件与磁性件以提供磁性回复力;以及
[0010]第二回复元件,其设置于该键帽与底板之间以提供弹性回复力;
[0011]其中,当该键帽于最低位置被释放时,该键帽藉由该弹性回复力向上移动,继而藉由该磁性回复力抵达并维持于最高位置。
[0012]作为可选的技术方案,当该第二回复元件达到最大形变量时,该磁铁件与该磁性件之间相隔最大间距。
[0013]作为可选的技术方案,当该磁铁件与该磁性件接触时,该第二回复元件没有形变。
[0014]作为可选的技术方案,还包含:
[0015]主支撑结构,该主支撑结构包含第一主支架与第二主支架,该第一主支架以及该
第二主支架设置于该键帽与该底板之间。
[0016]作为可选的技术方案,该主支撑结构选自剪刀脚支架结构或蝴蝶支架结构或平衡杆结构。
[0017]作为可选的技术方案,还包含:
[0018]至少一个第一辅支撑结构,其相邻于主支撑结构且包含第一辅支架及第二辅支架,该第一辅支架及该第二辅支架设置于该键帽与该底板之间。
[0019]作为可选的技术方案,该第二回复元件为凸点且自该至少一个第一辅支撑结构朝该底板或该键帽突出形成,在该键帽被按压至该最低位置的过程中,该第二回复元件撑抵该底板或该键帽,使得该至少一个第一辅支撑结构与该底板或该键帽产生结构干涉,导致该至少一个第一辅支撑结构挠曲变形而产生该弹性回复力。
[0020]作为可选的技术方案,该第一回复元件设置于该第一主支架与该第二主支架之间,该第二回复元件设置于该第一辅支架及该第二辅支架之间。
[0021]作为可选的技术方案,该第一回复元件设置于该第一辅支架及该第二辅支架之间,该第二回复元件设置于该第一主支架与该第二主支架之间。
[0022]作为可选的技术方案,该第一辅支撑结构选自剪刀脚支架结构或蝴蝶支架结构或平衡杆结构。
[0023]作为可选的技术方案,该键帽具有长轴、短轴、第一按压区,以及第二按压区,该第一按压区的面积大于该第二按压区的面积,该主支撑结构设置于该底板上对应该第一按压区的位置。
[0024]作为可选的技术方案,该第一辅支撑结构设置于该底板上对应该第二按压区的位置。
[0025]作为可选的技术方案,还包含第二辅支撑结构,该第二辅支撑结构包括第三辅支架及第四辅支架,该第三辅支架及该第四辅支架设置于该键帽与该底板之间,该键帽具有长轴、短轴、第一按压区,以及第二按压区,该第一按压区的面积大于该第二按压区的面积,该主支撑结构设置于该底板上对应该第一按压区的位置,该第三辅支架以沿着该长轴且横设在该第一按压区与该第二按压区内的方式可活动地连接于该底板以及该键帽之间,该第四辅支架以沿着该短轴且设置在该第一按压区内的方式可活动地连接于该底板以及该键帽之间。
[0026]作为可选的技术方案,该第二回复元件为一凸点且自该主支撑结构朝该底板或该键帽突出形成,在该键帽被按压至该最低位置的过程中,该第二回复元件撑抵该底板或该键帽,使得该主支撑结构与该底板或该键帽产生结构干涉,导致该主支撑结构挠曲变形而产生该弹性回复力。
[0027]作为可选的技术方案,该磁性件具有枢转部、磁吸部以及驱动部,该枢转部贯穿该磁性件而延伸于该磁性件的两相对侧面上,该磁吸部以及该驱动部位于该枢转部的两侧,该磁性件以该枢转部可旋转地设置于该底板上,该磁铁件设置于该底板上且位于该磁吸部下方。
[0028]作为可选的技术方案,该按键装置还包含开关电路板且该磁性件还具有触发凸点,该开关电路板对应该触发凸点的位置具有开关,当该键帽被按压至该最低位置时,该触发凸点下压触发该开关;该第二回复元件设置在该开关电路板上对应该开关的位置且位于
该第一回复元件下,在该键帽被按压至该最低位置以使该触发凸点下压触发该开关的过程中,该第二回复元件受压挠曲以产生该弹性回复力。
[0029]作为可选的技术方案,该键帽具有长轴以及短轴,该第二回复元件设置在该长轴或该短轴上且位于该第一回复元件的一侧的位置,该第一回复元件相对于一轴向可旋转地设置于该底板上以用来提供磁性回复力至该键帽,该轴向平行于该短轴或该长轴。
[0030]综上所述,通过利用第二回复元件在第一回复元件的磁性件与磁铁件相隔最大间距时提供给键帽回位所需的弹性回复力的设计,本专利技术可有效地解决现有技术中所提到的磁吸按键在被按压时会因两个磁性元件(例如磁性件以及磁铁件)互相远离导致磁吸力太弱而出现按键无法自动回位的问题,从而大幅地改善使用者在按压磁吸按键时的使用感受与操作手感。
[0031]以下结合附图和具体实施例对本专利技术进行详细描述,但不作为对本专利技术的限定。
附图说明
[0032]图1为根据本专利技术的一实施例所提出的按键装置的部分爆炸示意图;
[0033]图2为图1中按键装置沿着剖面线A-A的剖面示意图;
[0034]图3为图2中键帽被按压至接触到第二回复元件时的剖面示意图;
[0035]图4为图3中键帽继续被按压至最低位置时的剖面示意图;
[0036]图5为图2中磁性回复力以及弹性回复本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种按键装置,其特征在于,其包含:键帽;底板,其与该键帽相对设置;第一回复元件,其设置于该键帽与底板之间且包含磁铁件与磁性件以提供磁性回复力;以及第二回复元件,其设置于该键帽与底板之间以提供弹性回复力;其中,当该键帽于最低位置被释放时,该键帽藉由该弹性回复力向上移动,继而藉由该磁性回复力抵达并维持于最高位置。2.根据权利要求1所述的按键装置,其特征在于,当该第二回复元件达到最大形变量时,该磁铁件与该磁性件之间相隔最大间距。3.根据权利要求1所述的按键装置,其特征在于,当该磁铁件与该磁性件接触时,该第二回复元件没有形变。4.根据权利要求1所述的按键装置,其特征在于,还包含:主支撑结构,该主支撑结构包含第一主支架与第二主支架,该第一主支架以及该第二主支架设置于该键帽与该底板之间。5.根据权利要求4所述的按键装置,其特征在于,该主支撑结构为剪刀脚支架结构或蝴蝶支架结构或平衡杆结构。6.根据权利要求4所述的按键装置,其特征在于,还包含:至少一个第一辅支撑结构,其相邻于该主支撑结构,该至少一个第一辅支撑结构包含第一辅支架及第二辅支架,该第一辅支架及该第二辅支架设置于该键帽与该底板之间。7.根据权利要求6所述的按键装置,其特征在于,该第二回复元件为凸点且自该至少一个第一辅支撑结构朝该底板或该键帽突出形成,在该键帽被按压至该最低位置的过程中,该第二回复元件撑抵该底板或该键帽,使得该至少一个第一辅支撑结构与该底板或该键帽产生结构干涉,导致该至少一个第一辅支撑结构挠曲变形而产生该弹性回复力。8.根据权利要求6所述的按键装置,其特征在于,该第一回复元件设置于该第一主支架与该第二主支架之间,该第二回复元件设置于该第一辅支架及该第二辅支架之间;或者,该第一回复元件设置于该第一辅支架及该第二辅支架之间,该第二回复元件设置于该第一主支架与该第二主支架之间。9.根据权利要求6所述的按键装置,其特征在于,该第一辅支撑结构为剪刀脚支架结构或蝴蝶支架结构或平衡杆结构。10.根据权利要求6所述的按键装置,其特征在于,该键帽具有长轴、短轴、第一按压区,以及第二按压区,该第一按压区的面积大于该第二按压区的面积,该主支撑结构设置于...

【专利技术属性】
技术研发人员:谢铭元
申请(专利权)人:达方电子股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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