本实用新型专利技术涉及硅片清洗技术领域，公开了一种硅片清洗装置。硅片清洗装置包括槽体和气管组件。待清洗的硅片置于槽体内的清洗液中，槽体的底部设置有出水口，出水口处设置有过滤网。气管组件包括气管和支架，支架固定在槽体底面，气管上开设多个通气孔，气管置于硅片的下方并固定在支架上；气管组件与过滤网沿竖直方向间隔设置，且过滤网位于气管组件在槽体底面上的投影外。本实用新型专利技术，降低了清理的难度，避免了碎片在槽体内部残留，保证后续的清洗效果。
【技术实现步骤摘要】
一种硅片清洗装置
本技术涉及硅片清洗
，尤其涉及一种硅片清洗装置。
技术介绍
在硅基板太阳能电池生产过程中，需要使用硅片作为电池的基体材料，为了增加对太阳能光的吸收，需要对硅片表面进行绒面处理，即利用酸性液或碱性液对硅片表面进行腐蚀从而形成绒面。在绒面形成后，还需要在水槽内的水中将硅片表面的酸碱残留液以及硅碎片清洗掉。为了保证清洗效果，通常在水槽内设置气管，气管通过支架固定在水槽内，气管壁上开设通气孔，硅片置于气管上方。供气组件向气管通气，使气体从通气孔进入清洗液内，形成气泡，气泡与硅片接触保证清洗效果。槽体上的出水口处一般设有过滤网，当过滤网处累积一定量的硅碎片时，操作人员需要清理碎片，而现有技术中用于固定气管的支架遮挡过滤网的上方，支架的位置阻碍了清理碎片，增加了清理的难度，也使碎片残留在槽体内部，影响后续的清洗效果。基于此，亟需一种硅片清洗装置用来解决如上提到的问题。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种硅片清洗装置，降低了清理的难度，避免了碎片在槽体内部残留，保证了后续的清洗效果。为达此目的，本技术采用以下技术方案：一种硅片清洗装置，包括：槽体，待清洗的硅片置于所述槽体内的清洗液中，所述槽体的底部设置有出水口，所述出水口处设置有过滤网；气管组件，包括气管和支架，所述支架固定在所述槽体底面，所述气管的上开设多个通气孔，所述气管置于所述硅片的下方并固定在所述支架上；所述气管组件与所述过滤网沿竖直方向间隔设置，且所述过滤网位于所述气管组件在所述槽体底面上的投影外。优选地，所述气管包括进气管和多个支管，多个所述支管的一端均与所述进气管的出气端连通，多个所述支管的另一端均封堵，所述通气孔开设在所述支管的管壁上，且多个所述支管均固定在所述支架上。优选地，所述支管呈U型，所述支管其中一个末端与所述进气管的出气端连通，另一个末端封堵。优选地，所述气管包括两个所述支管，所述气管上还设有三通接头，所述三通接头的三个端口分别连通于两个所述支管的进气端以及所述进气管的出气端。优选地，所述支架设置有两个，所述支管与所述支架一一对应固定，所述过滤网设置于两个所述支架之间。优选地，所述支架呈板状，所述支架的底面固定于所述槽体内侧的底面上，所述支架的顶面上开设有两个定位槽，所述支管的两个直管段分别固定在两个所述定位槽内。优选地，所述气管还包括延长管，所述延长管固定在所述槽体的内侧壁上，所述延长管的一端与所述支管的进气端连通，另一端与所述进气管的出气端连通。优选地，所述硅片清洗装置还包括供气组件，所述供气组件包括气泵，所述进气管的进气端穿设所述槽体的槽壁并连接于所述气泵的出气端。优选地，所述槽体内还设有承接组件，所述硅片置于所述承接组件上，且当所述硅片置于所述承接组件上时，所述清洗液的液面在所述硅片的上方。优选地，所述槽体和所述气管组件的材料均为塑料。本技术的有益效果：气管组件与过滤网间隔设置且在槽体的槽深方向上不遮挡过滤网，便于清理槽体内的硅碎片，气管组件的位置不会阻碍清理碎片，降低了清理的难度，避免了碎片在槽体内部残留，保证了后续的清洗效果，也便于拆卸过滤网，维护清洗装置。且设置支架固定气管，避免了气管在通气过程中窜动，进一步保证了清洗效果。附图说明图1是本技术实施例提供的硅片清洗装置的第一视角的剖视图；图2是本技术实施例提供的硅片清洗装置的第二视角的剖视图。图中：1、槽体；11、过滤网；22、支管；221、直管段；222、折弯管段；23、延长管；3、支架；4、放置架；41、凸块；5、垫块。具体实施方式为使本技术解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚，下面将结合附图对本技术实施例的技术方案做进一步的详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。在本技术的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。在本技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本技术的技术方案。本实施例提供了一种硅片清洗装置，气管组件的位置不会阻碍清理碎片，降低了清理的难度，避免了碎片在槽体内部残留，保证了后续的清洗效果。具体地，如图1-2所示，硅片清洗装置包括槽体1和气管组件。待清洗的硅片置于槽体1内的清洗液中，槽体1的底部设置有出水口，出水口处设置有过滤网11。气管组件包括气管和支架3，支架3固定在槽体1底面，气管的上开设多个通气孔，气管置于硅片的下方并固定在支架3上；气管组件与过滤网11沿竖直方向即沿槽体1的深度方向间隔设置，且过滤网11位于气管组件在槽体1底面上的投影外，即沿槽体1的槽深方向不遮挡过滤网11。气管组件与过滤网11间隔设置且在槽体1的槽深方向上不遮挡过滤网11，便于清理槽体1内的硅碎片，气管组件的位置不会阻碍清理碎片，降低了清理的难度，避免了碎片在槽体1内部残留，保证了后续的清洗效果，也便于拆卸过滤网11，维护清洗装置。且设置支架3固定气管，避免了气管的在通气过程中窜动，进一步保证了清洗效果。在本实施例中，通气孔开设在气管朝向槽体1的开口的一面。槽体1一端开口且截面呈长方形。清洗硅片时，出水口由开关阀封堵。优选地，气管包括进气管和多个支管22。多个支管22的一端均与进气管的出气端连通，多个支管22的另一端均封堵，通气孔开设在支管22上，且多个支管22均固定在支架3上。设置多个支管22能够保证槽体1内的气泡均匀分布，使硅片与气泡充分接触，提高了清洗效果。优选地，硅片清洗装置还包括供气组件，供气组件包括气泵，进气管的进气端穿设槽体1的槽壁并连接于气泵的出气端。能够自动向气管供气，也提高了实用性，也保证了能够源源不断的进气，保证了清洗效果。具体地，支管22呈U型。支管22其中一个末端与进气管的出气端连通，另一个末端封堵。可以理解的是，每个支管22均具有两个直管段本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种硅片清洗装置，其特征在于，包括：/n槽体(1)，待清洗的硅片置于所述槽体(1)内的清洗液中，所述槽体(1)的底部设置有出水口，所述出水口处设置有过滤网(11)；/n气管组件，包括气管和支架(3)，所述支架(3)固定在所述槽体(1)底面，所述气管上开设多个通气孔，所述气管置于所述硅片的下方并固定在所述支架(3)上；所述气管组件与所述过滤网(11)沿竖直方向间隔设置，且所述过滤网(11)位于所述气管组件在所述槽体(1)底面上的投影外。/n
【技术特征摘要】
1.一种硅片清洗装置，其特征在于，包括：
槽体(1)，待清洗的硅片置于所述槽体(1)内的清洗液中，所述槽体(1)的底部设置有出水口，所述出水口处设置有过滤网(11)；
气管组件，包括气管和支架(3)，所述支架(3)固定在所述槽体(1)底面，所述气管上开设多个通气孔，所述气管置于所述硅片的下方并固定在所述支架(3)上；所述气管组件与所述过滤网(11)沿竖直方向间隔设置，且所述过滤网(11)位于所述气管组件在所述槽体(1)底面上的投影外。
2.根据权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述气管包括进气管和多个支管(22)，多个所述支管(22)的一端均与所述进气管的出气端连通，多个所述支管(22)的另一端均封堵，所述通气孔开设在所述支管(22)上，且多个所述支管(22)均固定在所述支架(3)上。
3.根据权利要求2所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述支管(22)呈U型，所述支管(22)其中一个末端与所述进气管的出气端连通，另一个末端封堵。
4.根据权利要求3所述的硅片清洗装置，其特征在于，所述气管包括两个所述支管(22)，所述气管上还设有三通接头，所述三通接头的三个端口分别连通于两个所述支管(22)的进气端以及所述进气管的出气端。
5.根据权利要求4所...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘晓杰，
申请(专利权)人：洛阳阿特斯光伏科技有限公司，阿特斯阳光电力集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：河南;41
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。