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本实用新型涉及硅片清洗技术领域，公开了一种硅片清洗装置。硅片清洗装置包括槽体和气管组件。待清洗的硅片置于槽体内的清洗液中，槽体的底部设置有出水口，出水口处设置有过滤网。气管组件包括气管和支架，支架固定在槽体底面，气管上开设多个通气孔，气管置...该专利属于洛阳阿特斯光伏科技有限公司;阿特斯阳光电力集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过洛阳阿特斯光伏科技有限公司;阿特斯阳光电力集团股份有限公司授权不得商用。