一种P91、P92钢原奥氏体晶界的显示方法技术

本申请涉及一种P91、P92钢原奥氏体晶界的显示方法，包括：S1、将金相样进行研磨和抛光；S2、将S1处理后的金相样用硫酸溶液电解；S3、对S2中电解后的金相样重新抛光，抛光时间20‑50s，而后清水冲洗，酒精清洗及风机吹干；S4、S3中处理后的金相样用硝酸酒精侵蚀，而后清水冲洗，酒精清洗及风机吹干，完成原奥氏体晶界的腐蚀；S5、对S4中得到的金相样拍摄金相照片，得到金相照片。本申请的方法简单，拍摄得到的金相照片对晶界显示更加清晰，从而更加准确地获得P91、P92钢原奥氏体的晶粒度评级。

【技术实现步骤摘要】
一种P91、P92钢原奥氏体晶界的显示方法
本申请涉及钢铁材料检测
，尤其是涉及一种用于显示P91、P92回火马氏体钢的原奥氏体晶界的显示方法。
技术介绍
随着国内外电力工业的发展和超临界、超超临界发电机组的增多，高铬耐热钢的应用量越来越大。P91，P92以其较高的强韧性和抗蠕变性能，用来制造超超临界锅炉的高温主蒸汽管道及关键耐高温部件，其服役温度高达600~625℃。晶粒度及微观组织对P91、P92的力学性能，尤其对高温持久强度有较大影响，因此对P91、P92钢的晶粒度及显微组织检验显得十分重要。当前，晶粒度的腐蚀方法一般采用氯化铁盐酸水溶液，利用质量比：3%FeCl3、10%HCl以及87%H2O的容易进行侵蚀，另一种方法是硫酸或草酸水溶液，硫酸及草酸的浓度一般是10%左右，进行电解。针对上述中的相关技术，氯化铁盐酸水溶液侵蚀的方法显示的金相组织晶界不明显，这对晶粒度评级来说不够准确；硫酸或草酸水溶液电解的方法对试样腐蚀过于严重，原奥氏体中的亚晶界也容易被腐蚀出来，这对晶粒度评级也存在偏差。
技术实现思路
为了更加准确的获得P91、P92钢原奥氏体的晶粒度评级，本申请提供一种P91、P92钢原奥氏体晶界的显示方法。本申请提供的一种P91、P92钢原奥氏体晶界的显示方法采用如下的技术方案：一种P91、P92钢原奥氏体晶界的显示方法，包括：S1、将金相样进行研磨和抛光；S2、将S1处理后的金相样用硫酸溶液电解；S3、对S2中电解后的金相样重新抛光，抛光时间20-50s，而后清水冲洗，酒精清洗及风机吹干；S4、S3中处理后的金相样用硝酸酒精侵蚀，而后清水冲洗，酒精清洗及风机吹干，完成原奥氏体晶界的腐蚀；S5、对S4中得到的金相样拍摄金相照片，得到金相照片。通过采用上述技术方案，研磨和抛光出去表面杂质，硫酸溶液电解将原奥氏体晶界腐蚀出来，但由于电解对金属的腐蚀严重，不仅将原奥氏体晶界腐蚀出来，同时将原奥氏体晶内的亚晶界也腐蚀出来，因此进行重新抛光，将是S1腐蚀出的亚晶界通过抛光去掉，由于原奥氏体晶界腐蚀较亚晶界重，因此原奥氏体晶界的痕迹仍然存在，并未完全抛掉,然后通过硝酸酒精对原奥氏体晶界腐蚀，通过S4的硝酸酒精的侵蚀，使未抛光掉原奥氏体晶界更加清晰地显示出来，从而拍摄到更加清晰、准确的金相照片，从而更加准确的获得P91、P92钢原奥氏体的晶粒度评级。可选的，S2中硫酸溶液中体积比为8-20%，电解电压为3-7V，电解时间为30-60s。通过采用上述技术方案，在上述电解条件下，能够良好地将原奥氏体晶界和亚晶界腐蚀出来。可选的，S4中硝酸体积比为10-20%，侵蚀时间50-120s。通过采用上述技术方案，在上述条件下，使得硝酸酒精能够对原奥氏体晶界充分腐蚀，更好地保证能够使未抛光掉的原奥氏体晶界更加清晰地显示出来。可选的，所述S4中的硝酸酒精侵蚀、清水冲洗、酒精清洗及吹干在侵蚀机中进行。通过采用上述技术方案，将硝酸酒精侵蚀、清水冲洗、酒精清洗及吹干在侵蚀机中进行操作，减轻人工劳动。可选的，所述侵蚀机包括机架以及设置于机架上的侵蚀工位、清洗吹干工位，所述侵蚀工位上设置有侵蚀机构，清洗吹干工位上设置有清洗机构以及吹干机构，侵蚀工位与清洗工位之间设置有用于将金相样从侵蚀工位输送到清洗工位的输送机构。通过采用上述技术方案，侵蚀机构在侵蚀工位上对金相样进行侵蚀，侵蚀后利用输送机构将金相样输送到清洗吹干工位上，清洗机构对金相样进行清洗，然后吹干机构对清洗以后的金相样进行吹干。可选的，所述侵蚀机构包括侵蚀槽、侵蚀液贮槽以及侵蚀喷淋管，所述侵蚀槽设置有侵蚀放置架，侵蚀液贮槽设置于机架上且高度高于侵蚀放置架，侵蚀喷淋管一端与侵蚀液贮槽连接，并设置有侵蚀阀，另一端延伸至侵蚀放置架上方，且设置有用于朝侵蚀放置架喷淋的喷头。通过采用上述技术方案，待侵蚀的金相样放在侵蚀放置架中，打开侵蚀阀，侵蚀贮槽内的侵蚀液在自身重力作用下进入侵蚀喷淋管，从喷头流到侵蚀放置架上的金相样上，从而对金相样进行侵蚀。可选的，所述侵蚀槽中设置有若干毛细管，毛细管底端浸入侵蚀槽内液面中，顶端弯曲并朝向侵蚀放置架上的金相样表面。通过采用上述技术方案，侵蚀液与金相样接触后流到侵蚀槽中，通过毛细管将侵蚀槽中的侵蚀液再次滴到金相样表面进行侵蚀，充分利用侵蚀液。可选的，所述清洗机构包括设置于机架上的第一贮槽、第二贮槽、清洗槽，所述吹干机构包括吹风机，所述清洗槽中设置有用于放置金相样的清洗架，所述第一贮槽上设置有第一清洗管、第二贮槽上设置有第二清洗管，第一清洗管上设有第一清洗阀，第二清洗管上设有第二清洗阀，第一清洗管和第二清洗管远离所在贮槽的一端位于清洗架上方且用于向清洗架上的金相样浇淋对应贮槽的液体，所述吹风机朝向清洗架上的金相样用于在清洗以后进行吹干。通过采用上述技术方案，第一贮槽中的清水通过第一清洗管后落到金相样表面，对金相样进行清洗，清洗以后再将第二贮槽中的酒精通过第二清洗管落到金相样表面进行清洗，最后通过吹风机对金相样吹风，进行吹干，通过第一清洗阀和第二清洗阀控制清水和酒精的流出顺序。可选的，所述清洗槽槽底设置有第一出水管和第二出水管，所述第一出水管连接有第一回收槽，所述第二出水管连接有第二回收槽，第一出水管与清洗槽连通处设置有第一出水阀，第二出水管与清洗槽连通处设置有第二出水阀。通过采用上述技术方案，清水清洗后的水经过第一出水管流道第一回收槽进行储存，然后关闭第一出水阀，打开第二出水阀，酒精清洗的酒精通过第二出水管流到第二回收槽进行储存。可选的，所述输送机构包括输送气缸组以及夹紧件，所述输送气缸组包括第一平移气缸、第二平移气缸和升降气缸，所述升降气缸设置于机架上且竖直向上设置，所述第一平移气缸水平地设置于升降气缸的活塞杆上且沿侵蚀槽到清洗槽方向设置，所述第二平移气缸水平地设置于第一平移气缸的活塞杆上且沿垂直于侵蚀槽到清洗槽方向设置，所述夹紧件包括双向水平气缸以及两夹块，两夹块分别设置于双向水平气缸的两个活塞杆上，两夹块之间形成夹取金相样的夹持口，所述双向水平气缸设置于第二平移气缸的活塞杆上。通过采用上述技术方案，通过升降气缸的活塞杆的伸缩控制夹紧件在高度方向上靠近和远离金相样，通过第二平移气缸的活塞杆的伸缩使得夹紧件在水平方向上靠近和远离金相样，通过第一平移气缸的活塞杆的伸缩使得夹紧件在夹持金相样以后从侵蚀放置架移动到清洗放置架上方，并在夹紧件放开金相样以后带动夹紧件复位。综上所述，本申请包括以下至少一种有益技术效果：1.通过先研磨、抛光，然后依次硫酸溶液电解、重新抛光、清水冲洗、酒精清洗、风干、硝酸酒精侵蚀、清水冲洗、酒精清洗、风干，再进行金相拍摄的方法得到更加清洗的原奥氏体晶界金相图，更加准确地得到晶粒度评级；2.通过毛细管将侵蚀槽中的硝酸酒精利用毛细现象再次滴落到金相样表面从而对金相样进行更好地侵蚀，并且对硝酸酒精的利用更加充分，且不至于需要硝酸酒精浸没金相样块就能得到本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种P91、P92钢原奥氏体晶界的显示方法，其特征在于：/nS1、将金相样进行研磨和抛光；/nS2、将S1处理后的金相样用硫酸溶液电解；/nS3、对S2中电解后的金相样重新抛光，抛光时间20-50s，而后清水冲洗，酒精清洗及风机吹干；/nS4、S3中处理后的金相样用硝酸酒精侵蚀，而后清水冲洗，酒精清洗及风机吹干，完成原奥氏体晶界的腐蚀；/nS5、对S4中得到的金相样拍摄金相照片，得到金相照片。/n

【技术特征摘要】
1.一种P91、P92钢原奥氏体晶界的显示方法，其特征在于：
S1、将金相样进行研磨和抛光；
S2、将S1处理后的金相样用硫酸溶液电解；
S3、对S2中电解后的金相样重新抛光，抛光时间20-50s，而后清水冲洗，酒精清洗及风机吹干；
S4、S3中处理后的金相样用硝酸酒精侵蚀，而后清水冲洗，酒精清洗及风机吹干，完成原奥氏体晶界的腐蚀；
S5、对S4中得到的金相样拍摄金相照片，得到金相照片。


2.根据权利要求1所述的一种P91、P92钢原奥氏体晶界的显示方法，其特征在于：S2中硫酸溶液中体积比为8-20%，电解电压为3-7V，电解时间为30-60s。


3.根据权利要求1所述的一种P91、P92钢原奥氏体晶界的显示方法，其特征在于：S4中硝酸体积比为10-20%，侵蚀时间50-120s。


4.根据权利要求1所述的一种P91、P92钢原奥氏体晶界的显示方法，其特征在于：所述S4中的硝酸酒精侵蚀、清水冲洗、酒精清洗及吹干在侵蚀机中进行。


5.根据权利要求4所示的一种P91、P92钢原奥氏体晶界的显示方法，其特征在于：所述侵蚀机包括机架（1）以及设置于机架（1）上的侵蚀工位（2）、清洗吹干工位（3），所述侵蚀工位（2）上设置有侵蚀机构（4），清洗吹干工位（3）上设置有清洗机构（5）以及吹干机构（6），侵蚀工位（2）与清洗工位之间设置有用于将金相样从侵蚀工位（2）输送到清洗工位的输送机构（7）。


6.根据权利要求5所示的一种P91、P92钢原奥氏体晶界的显示方法，其特征在于：所述侵蚀机构（4）包括侵蚀槽（41）、侵蚀液贮槽（42）以及侵蚀喷淋管（43），所述侵蚀槽（41）设置有侵蚀放置架（44），侵蚀液贮槽（42）设置于机架（1）上且高度高于侵蚀放置架（44），侵蚀喷淋管（43）一端与侵蚀液贮槽（42）连接，并设置有侵蚀阀（431），另一端延伸至侵蚀放置架（44）上方，且设置有用于朝侵蚀放置架（44）喷淋的喷头（432）。


7.根据权利要求6所示的一种P91、P92钢原奥氏体晶界的显示方法，其特征在于：所述侵蚀槽（41）中设置有若干毛细管（45），毛细管（...

【专利技术属性】
技术研发人员：窦志超，张国忠，黄大兵，年祥祥，石国光，
申请(专利权)人：浙江泰富无缝钢管有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33