一种可快速冷却的真空烧结炉制造技术

本发明专利技术公开了一种可快速冷却的真空烧结炉，包括有：底座；罩板，底座上侧对称设有罩板；支撑架，底座上侧中部设有支撑架；放置机构，底座上部一侧设有放置机构；冷却机构，支撑架上部另一侧设有冷却机构；烧结机构，支撑架上部一侧设有烧结机构。本发明专利技术的有益效果为：加热管会将粉末压坯进行烧结工作，在进气管和出气管的作用下，使得烧结过程的效果更加明显，人们向后侧移动滑板，当载料板与冷却箱对齐时，人们再次向上移动载料板，然后启动第一风扇，在散热片的作用下，使得烧结完成的粉末压坯进行冷却，从而提高了人们的工作效率。

【技术实现步骤摘要】
一种可快速冷却的真空烧结炉
本专利技术涉及一种烧结炉，尤其涉及一种可快速冷却的真空烧结炉。
技术介绍
烧结炉是指使粉末压坯通过烧结获得所需的物理、力学性能以及微观结构的专用设备。烧结炉用于烘干硅片上的浆料、去除浆料中的有机成分、完成铝背场及栅线烧结。现有真空炉的烧结方式均为单层石墨工艺烧结，其烧结产品进炉只能靠固定导轨将石墨推至真空炉管底部。该方式会导致产品晶粒位移几率变大，严重影响了其质量稳定性。而且烧结工作结束后不能及时的冷却，延长了单次产品烧结时间，严重影响了生产效率。因此，特别需要设计一种可以快速进行冷却且操作方便的可快速冷却的真空烧结炉，可以省去大部分人工操作可能带来的一些麻烦，以至于提高工作效率，来解决上述的缺点。
技术实现思路
为了克服烧结工作结束后不能及时的冷却，延长了单次产品烧结时间，严重影响了生产效率的缺点，要解决的技术问题为：提供一种可以快速进行冷却且操作方便的可快速冷却的真空烧结炉。本专利技术的技术方案为：一种可快速冷却的真空烧结炉，包括有：底座；罩板，底座上侧对称设有罩板；支本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种可快速冷却的真空烧结炉，其特征是，包括有：/n底座(1)；/n罩板(2)，底座(1)上侧对称设有罩板(2)；/n支撑架(3)，底座(1)上侧中部设有支撑架(3)；/n放置机构(4)，底座(1)上部一侧设有放置机构(4)；/n冷却机构(5)，支撑架(3)上部另一侧设有冷却机构(5)；/n烧结机构(6)，支撑架(3)上部一侧设有烧结机构(6)。/n

【技术特征摘要】
1.一种可快速冷却的真空烧结炉，其特征是，包括有：
底座(1)；
罩板(2)，底座(1)上侧对称设有罩板(2)；
支撑架(3)，底座(1)上侧中部设有支撑架(3)；
放置机构(4)，底座(1)上部一侧设有放置机构(4)；
冷却机构(5)，支撑架(3)上部另一侧设有冷却机构(5)；
烧结机构(6)，支撑架(3)上部一侧设有烧结机构(6)。


2.如权利要求1所述的一种可快速冷却的真空烧结炉，其特征是，放置机构(4)包括有：
滑板(40)，底座(1)上部一侧滑动式设有滑板(40)；
固定杆(41)，滑板(40)顶部四周设有固定杆(41)；
载料板(42)，固定杆(41)之间滑动式设有载料板(42)；
接触块(43)，载料板(42)两侧设有接触块(43)。


3.如权利要求2所述的一种可快速冷却的真空烧结炉，其特征是，冷却机构(5)包括有：
冷却箱(50)，支撑架(3)上部一侧设有冷却箱(50)；
散热片(51)，冷却箱(50)内部两侧设有散热片(51)；
第一风扇(52)，冷却箱(50)顶部设有第一风扇(52)；
导向杆(53)，冷却箱(50)一侧四周设有导向杆(53)，导向杆(53)与载料板(42)之间滑动式配合。


4.如权利要求3所述的一种可快速冷却的真空烧结炉，其特征是，烧结机构(6)包括有：
烧结箱(60)，支撑架(3)上部一侧设有烧结箱(60)，烧结箱(60)下侧四周也设有导向杆(53)，导向杆(53)与载料板(42)之间滑动式配合；
加热管(61)，烧结箱(60)内部对称设有加热管(61)；
第二风扇(62)，烧结箱(60)上部两侧设有第二风扇(62)；
进气管(63)，一侧第二风扇(62)顶部设有进气管(63)；
出气管(64)，另一侧第二风扇(62)顶部设有出气管(64)。


5.如权利要求4所述的一种可快速冷却的真空烧结炉，其特征是，还包括有升降组件(7)，升降组件(7)包括有：
电机(70)，罩板(2)一侧上部均设有电机(70)；
转动轴(71)，罩板(2)两侧均转动式设有转动轴(71)，一侧转动轴(71)分别与电机(70)的...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏晓刚，
申请(专利权)人：万博汇电子实业定南有限公司，
类型：发明
国别省市：江西;36