一种蒸镀掩膜版、蒸镀装置及蒸镀方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种蒸镀掩膜版、蒸镀装置及蒸镀方法，该蒸镀掩膜版包括：掩膜主体，多个励磁结构，所述励磁结构设置在所述掩膜主体远离待蒸镀基板的一侧；其中，所述待蒸镀基板与所述掩膜主体相对设置于蒸镀腔室内，且所述待蒸镀基板的非显示区域表面涂覆有磁性材料；所述励磁结构用于在蒸镀结束时，产生与所述蒸镀腔室内的第一磁场方向相反的第二磁场，使所述待蒸镀基板与所述掩膜主体分离。

【技术实现步骤摘要】
一种蒸镀掩膜版、蒸镀装置及蒸镀方法
本专利技术涉及OLED蒸镀
，尤其涉及一种蒸镀掩膜版、蒸镀装置及蒸镀方法。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLightEmittingDiode，OLED)显示器具有低能耗、自发光、宽视角及响应速度快等优点，被市场所追捧。目前，采用蒸镀方式制备OLED显示器的像素单元中的膜层的方式较为广泛。在采用蒸镀方式成膜时，一般是通过蒸镀装置中的磁板将掩膜版吸附在待蒸镀基板上，以将蒸镀掩膜版固定住。然而，在蒸镀过程中，由于掩膜版受到了蒸镀腔室内强磁场的作用，会和基板贴合的十分紧密，使得在蒸镀完成后由于基板和掩膜版贴合过于紧密而发生静电吸附，导致掩膜版撕裂。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种蒸镀掩膜版、蒸镀装置及蒸镀方法，用以解决现有技术中存在的上述问题。第一方面，为解决上述技术问题，本专利技术实施例提供一种蒸镀掩膜版，包括：掩膜主体，多个励磁结构，所述励磁结构设置在所述掩膜主体远离待蒸镀基板的一侧；其中，所述待蒸镀基板与所述掩膜主体相对设置于本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蒸镀掩膜版，其特征在于，包括：/n掩膜主体，/n多个励磁结构，所述励磁结构设置在所述掩膜主体远离待蒸镀基板的一侧；其中，所述待蒸镀基板与所述掩膜主体相对设置于蒸镀腔室内，且所述待蒸镀基板的非显示区域表面涂覆有磁性材料；/n所述励磁结构用于在蒸镀结束时，产生与所述蒸镀腔室内的第一磁场方向相反的第二磁场，使所述待蒸镀基板与所述掩膜主体分离。/n

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀掩膜版，其特征在于，包括：
掩膜主体，
多个励磁结构，所述励磁结构设置在所述掩膜主体远离待蒸镀基板的一侧；其中，所述待蒸镀基板与所述掩膜主体相对设置于蒸镀腔室内，且所述待蒸镀基板的非显示区域表面涂覆有磁性材料；
所述励磁结构用于在蒸镀结束时，产生与所述蒸镀腔室内的第一磁场方向相反的第二磁场，使所述待蒸镀基板与所述掩膜主体分离。


2.如权利要求1所述的蒸镀掩膜版，其特征在于，所述掩膜主体，包括：
金属框；
多个金属支撑条，沿第一方向设置在所述金属框的一侧；
多个金属遮蔽条，沿第二方向设置在所述多个金属支撑条远离所述金属框的一侧；其中，所述金属遮蔽条与所述金属支撑条限制出一个显示面板对应的显示区域的位置，所述第一方向与所述第二方向相交。


3.如权利要求2所述的蒸镀掩膜版，其特征在于，所述励磁结构设置在所述金属支撑条与所述金属遮蔽条交叠的区域。


4.如权利要求3所述的蒸镀掩膜版，其特征在于，所述励磁结构设置在所述金属遮蔽条远离所述金属支撑条的一侧表面。


5.如权利要求3所述的蒸镀掩膜版，其特征在于，所述励磁结构设置在所述金属支撑条靠近所述金属遮蔽条的一侧表面，与所述励磁结构对应的金属遮蔽条中设置有开口，使所述励磁结构穿过所述开口。


6.如权利要求4所述的蒸镀掩膜版，其特征在于，所述励磁结构的两条电源线沿所述第二方向设置在所述金属遮蔽条上。


7...

【专利技术属性】
技术研发人员：樊星，白珊珊，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11