掩膜版及掩膜版的精度检测方法技术

技术编号:28931207 阅读:26 留言:0更新日期:2021-06-18 21:28
本发明专利技术公开了一种掩膜版及掩膜版的精度检测方法,掩膜版包括:通用掩膜版,包括具有通用蒸镀开口的框式主体,框式主体具有沿各通用蒸镀开口周向延伸的内边缘区域,内边缘区域具有异形区段;异形段定位组件,包括沿异形区段分布的多个点状定位件,各点状定位件到相邻的通用蒸镀开口边缘的最小距离相等。各点状定位件到相邻的通用蒸镀开口边缘的最小距离相等,各点状定位件的位置间接表征通用蒸镀开口的异形边缘的位置,因而可以通过检测确定各点状定位件的位置来确定通用蒸镀开口的异形边缘的位置精度,提高了通用蒸镀开口的检测效率以及检测精度,并可以统一掩膜版供应商和使用方的检测方式,有效管控通用蒸镀开口的制作精度。

【技术实现步骤摘要】
掩膜版及掩膜版的精度检测方法
本专利技术属于电子产品
,尤其涉及一种掩膜版及掩膜版的精度检测方法。
技术介绍
目前对于一些显示装置的膜层或者车辆配件等部件需要通过掩膜版进行蒸镀成型,但由于待蒸镀成型的部件的形状多变,存在不规则的边缘,在对掩膜版对应的蒸镀开口精度检测时存在检测困难,检测精度不能保证,供应商和使用方存在双方检测结果不一致的现象,制约了对掩膜版精度的管控。因此,亟需一种新的掩膜版及掩膜版的精度检测方法。
技术实现思路
本专利技术实施例提供了一种掩膜版及掩膜版的精度检测方法,各点状定位件的位置间接表征通用蒸镀开口的异形边缘的位置,因而可以通过检测确定各点状定位件的位置来确定通用蒸镀开口的异形边缘的位置精度,提高了通用蒸镀开口的检测效率以及检测精度。本专利技术实施例一方面提供了一种掩膜版,包括:通用掩膜版,包括具有通用蒸镀开口的框式主体,所述框式主体具有沿各所述通用蒸镀开口周向延伸的内边缘区域,所述内边缘区域具有异形区段;异形段定位组件,包括沿所述异形区段分布的多个点状定位件,各所述点状定位件到本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜版,其特征在于,包括:/n通用掩膜版,包括具有通用蒸镀开口的框式主体,所述框式主体具有沿各所述通用蒸镀开口周向延伸的内边缘区域,所述内边缘区域具有异形区段;/n异形段定位组件,包括沿所述异形区段分布的多个点状定位件,各所述点状定位件到相邻的所述通用蒸镀开口边缘的最小距离相等。/n

【技术特征摘要】
1.一种掩膜版,其特征在于,包括:
通用掩膜版,包括具有通用蒸镀开口的框式主体,所述框式主体具有沿各所述通用蒸镀开口周向延伸的内边缘区域,所述内边缘区域具有异形区段;
异形段定位组件,包括沿所述异形区段分布的多个点状定位件,各所述点状定位件到相邻的所述通用蒸镀开口边缘的最小距离相等。


2.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,各所述点状定位件到相邻的所述通用蒸镀开口的最小距离为100μm~150μm。


3.根据权利要求2所述的掩膜版,其特征在于,相邻各所述点状定位件之间的最小距离均相等;
优选的,所述相邻各所述点状定位件之间的最小距离为30μm~50μm。


4.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,各所述点状定位件在所述框式主体上的正投影轮廓边缘上两点之间的最大距离为50μm~100μm。


5.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,各所述点状定位件在所述框式主体上的正投影为矩形、十字形、椭圆形、圆形中的至少一种。


6.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述框式主体具有相对的第一表面和第二表面,所述点状定位件设于所述第一表面和所述第二表面中的至少一者。


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【专利技术属性】
技术研发人员:张浩瀚李慧姚远
申请(专利权)人:合肥维信诺科技有限公司
类型:发明
国别省市:安徽;34

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