一种蒸镀设备制造技术

本申请公开了一种蒸镀设备，由于该蒸镀设备是在一蒸镀源外侧周缘围设第一蒸镀挡板，第一蒸镀挡板与蒸镀源之间的间隙很小，因此能够减小蒸镀设备中第一蒸镀挡板的面积和重量，也极大地减少了第一蒸镀挡板的部件和安装空间，这样设计能够在蒸镀设备运行时，避免部件间的碰撞或干涉，提高蒸镀设备作业的流畅性，也可以避免在运载待蒸镀基板时，大件蒸镀挡板影响机器运作，使待蒸镀基板上产生蒸镀印记不良。该蒸镀设备还对应蒸镀源设置了遮挡部，这种小巧轻便的挡板设计能够改善蒸镀设备挡板的固定点易于损坏的问题，进而避免蒸镀印记不良。

【技术实现步骤摘要】
一种蒸镀设备
本申请涉及显示
，具体涉及一种蒸镀设备。
技术介绍
精细金属掩膜(FineMetalMask,FMM)模式，是通过蒸镀方式将有机发光半导体(OrganicLight-EmittingDiode,OLED)材料按照预定程序蒸镀到低温多晶硅(LowTemperaturePoly-Silicon,LTPS)背板上，利用FMM上的图形，形成红绿蓝器件。目前量产通常用线性蒸发源(线源)和点蒸发源(点源)。以点蒸发源蒸镀方式为例，点蒸发源蒸镀方式是点源固定，蒸镀背板由机器载放到对位组件上。蒸镀背板由机器载放、载出以及对位过程中，必须使用挡板将点源蒸镀出的材料挡住，避免材料蒸镀到背板上，留下机器或掩模板形貌的蒸镀印记不良。在对现有技术的研究和实践过程中，本申请的专利技术人发现，常采用的挡板设计在背板下方，挡板的固定点在蒸镀腔室顶部，整个腔室水平面都需要全部挡住，这样挡板面积较大，重量大，固定组件容易损坏，使得挡板不能够将材料挡住，导致蒸镀印记不良。
技术实现思路
本申请提供一种蒸镀设备，能够避免产生蒸镀本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蒸镀设备，其特征在于，包括：/n基台，所述基台上设置有蒸镀源；/n第一蒸镀挡板，所述第一蒸镀挡板沿垂直所述基台的方向设置在所述基台上，并围设在一所述蒸镀源外侧周缘；/n遮挡部，所述遮挡部设置在所述第一蒸镀挡板远离所述基台的一侧，所述遮挡部与所述第一蒸镀挡板盖合。/n

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀设备，其特征在于，包括：
基台，所述基台上设置有蒸镀源；
第一蒸镀挡板，所述第一蒸镀挡板沿垂直所述基台的方向设置在所述基台上，并围设在一所述蒸镀源外侧周缘；
遮挡部，所述遮挡部设置在所述第一蒸镀挡板远离所述基台的一侧，所述遮挡部与所述第一蒸镀挡板盖合。


2.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，还包括第一开关组件，所述第一开关组件连接所述第一蒸镀挡板与所述遮挡部，所述第一开关组件用于控制所述遮挡部开合。


3.根据权利要求2所述的蒸镀设备，其特征在于，还包括第一电力装置，所述第一电力装置连接所述第一开关组件，所述第一电力装置用于电力控制所述第一开关组件，以控制所述遮挡部开合。


4.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，还包括第二蒸镀挡板和连接部；所述第二蒸镀挡板沿垂直所述基台的方向设置在所述基台上，并围设在所述第一蒸镀挡板远离所述蒸镀源的一侧周缘；所述连接部沿垂直所述基台的方向设置在所述基台上，并设置在所述第一蒸镀挡板与所述第二蒸镀挡板之间，所述连接部连接所述遮挡部。


5.根据权利要求4所述的蒸镀设备，其特征在于，所述连接部包括伸缩组件，所述伸缩组件用于控制所述遮挡部在垂直所述基台的方向移动并控制所述遮挡部开合。


6.根据权利要求5所述的蒸镀设备，其特征在于，所述伸缩组件为伸缩杆、滑轨或剪刀叉中的任一种。


7.根据权利要求5所述的蒸镀设备，其特征在于，所述伸缩组件连接有第二电力装置，所述第二电力装置设置在所述第一蒸镀挡板与所述第二蒸镀挡板之间，所述第二电力装置用于控制所述伸缩组件伸缩。


8.根据权利要求4所述的蒸镀设备，其特征在于，所述连接部包括伸缩组件和第二开关组件，所述伸缩组件与第二开关组件的连接关系，所述伸缩组件用于控制所述遮挡部在垂直所述基台的方向移动，所述第二开关组件用于控制所述遮挡部开合。


9.根据权利要求8所述的蒸镀设备，其特征在于，所述第二开关组件设置在靠近所述遮挡部的一侧，所述第二开关组件连接有第二电力装置，所述第二电力装置用于电力控制所述第二开关组件以使所述遮挡部开合。


10.根据权利要求9所述的蒸镀设备，其特征在于，所述第二开关组件包括第一连接件及传动件，所述第一...

【专利技术属性】
技术研发人员：何瑞亭，李晓康，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42