本申请涉及一种镀铜溶液测量补充装置，其包括电镀池，电镀池的外壁上安装有一个用于储存镀铜溶液的储料桶。储料桶的底部通过一根进料管与电镀池连通，电镀池的内壁上开设有一个进料口。进料口的一侧焊接有一根导杆，导杆上滑动设置有两个第一保护盒，两个第一保护盒内均设置有金属块，两个第一保护盒之间设置有连杆，塞块设置在顶部的第一保护盒上，浮块滑动设置在连杆上，导杆的顶部和底部均设置有第二保护盒，第二保护盒内设置有磁性块。当液面下降时浮块下降，在重力作用下驱使底部的第一保护盒通过连杆带动顶部的第一保护盒以及塞块向下滑动，将进料口打开，使进料通内的镀铜溶液进入电镀池，无需人工操作，使添加溶液的过程更加方便快捷。
【技术实现步骤摘要】
一种镀铜溶液测量补充装置
本申请涉及电镀铜技术的领域，尤其是涉及一种镀铜溶液测量补充装置。
技术介绍
凹印版辊的外表面有一层铜，这种铜层是凹印版辊电子雕刻的基体。现有技术的铜层是采用电镀实现的，方法是在镀铜之前先镀一层镍，目的是稳定牢固镀铜层。然后再电镀铜层。目前采用的硫酸铜电镀工艺中要用到硫酸，添加剂等许多化工材料。针对上述中的相关技术，存在有以下缺陷：电镀铜时，硫酸铜溶液会有消耗，为了保证电镀工作正常进行，需要工人不断向容器内添加溶液，工作过程耗时耗力。
技术实现思路
为了使添加溶液的过程更加方便快捷，本申请提供一种镀铜溶液测量补充装置。本申请提供的一种镀铜溶液测量补充装置采用如下的技术方案：一种镀铜溶液测量补充装置，包括电镀池，所述电镀池上的外壁上设置有储料桶，所述电镀池与储料桶之间通过进料管连通，所述进料管的进料口位于电镀池的侧壁上，所述电镀池的内壁沿竖直方向固设有导杆，所述导杆上沿自身长度方向滑动设置有用于开闭进料口的塞块，所述塞块上设置有浮在溶液上的浮块。通过采用上述技术方案，当电镀池内的镀铜溶液被消耗时，浮块与塞块下降，将进料口打开，储料桶内的溶液进入电镀池内；电镀池内的液面上升，浮块上升带动塞块将进料口堵塞后，进料口停止进料，从而实现了自动上料的的效果，无需工人手动添加，使添加溶液的过程更加方便快捷。优选的，所述电镀池位于进料口的周向的侧壁上设置有密封圈，所述塞块朝向进料口一侧开设有与密封圈适配的凹槽。通过采用上述技术方案，插块上升过程中，塞块将进料口堵塞，进料口周围的密封圈卡入凹槽内，有效提高进料口关闭时的密封性。优选的，所述密封圈的表面设置有滑动层。通过采用上述技术方案，塞块将进料口关闭的过程中，有效减少塞块与密封圈滑动接触时产生的阻力，使塞块滑动时更加顺畅。优选的，所述塞块靠近进料口一侧侧壁的边缘设置有倒角。通过采用上述技术方案，塞块将进料口关闭的过程中，进一步减少塞块的边缘与密封圈接触时密封圈对塞块产生的阻力，使塞块滑动时更加顺畅。所述导杆上滑动设置有两个第一保护盒，两个所述第一保护盒内均设置有金属块，两个所述第一保护盒之间设置有连杆，所述塞块设置在第一保护盒上，所述浮块滑动设置在连杆上，所述导杆上设置有两个第二保护盒，所述第二保护盒内设置有磁性块。通过采用上述技术方案，开始时底部第一保护盒和底部的第二保护盒位相互吸附，进料口打开，镀铜溶液液面上升逐渐上升，浮块受到浮力沿连杆不断上升，当浮块与顶部的第一保护盒接触时驱使其上升，带动塞块上升将进料口堵塞，顶部第一保护盒与顶部的第二保护盒吸附，限制塞块离开卡槽；当镀铜溶液减少时，浮块下降，当浮块与底部的第一保护盒接触时，使底部的第一保护盒下降，带动塞块下滑使进料口打开，镀铜溶液进入电镀池内。如此往复，从而实现了当镀铜溶液减少固定量时进料口被打开的效果，有效避免进料口反复开关。优选的，所述连杆为伸缩杆，所述第二保护盒滑动设置在导杆上，两个所述第二保护盒上均开设有插孔，所述插孔内滑动穿设有用于与导杆插接的销杆，所述导杆上沿长度方向均匀开设有若干供销杆插接的销孔。通过采用上述技术方案，通过调整第二保护盒的位置以及连杆的长度，从而调节浮块的滑动距离，从而调整进料口开启的时间。优选的，所述限位件为销杆，所述第二保护盒上设有插孔，所述销杆滑动穿设在插孔内用于与导杆插接的，所述导杆上开设有若干供销杆插接的销孔，若干所述销孔沿长度方向均匀间隔分布。通过采用上述技术方案，将第二保护盒滑动至一定位置后，通过销杆进行固定，提高了装置的稳定性。优选的，所述储料桶的侧壁上设置有观察窗。通过采用上述技术方案，使工作人员能观察到储料桶内的剩余量，方便工作人员进行添加。综上所述，本申请包括以下至少一种有益技术效果：1.电镀池的内壁上设置有用于补充镀铜溶液的进料口，进料口上设置有带有浮块的塞块，当电镀池液面降低时，浮块带动塞块下降将进料口打开，使镀铜溶液进入电镀池，无需工人手动添加，使添加溶液的过程更加方便快捷；2.电镀池内壁上设置有导杆，导杆上滑动设置有通过连杆连接的金属块，导杆的顶部和底部设置有磁性块，浮块滑动设置在连杆上，从而实现了当镀铜溶液减少固定量时进料口被打开的效果，有效避免进料口反复开关；3.电镀池位于进料口周向的侧壁上设置有密封层，有效提高塞块将进料口堵住时进料口的密封性。附图说明图1是本申请实施例的整体结构示意图。图2是本申请实施例中浮块等部分的结构示意图。附图标记说明：1、电镀池；2、储料桶；21、进料管；22、进料口；3、导杆；4、塞块；5、密封圈；6、浮块；7、凹槽；8、第一保护盒；81、连杆；9、第二保护盒；10、销杆；11、销孔；12、观察窗。具体实施方式以下结合附图1-2对本申请作进一步详细说明。本申请实施例公开一种镀铜溶液测量补充装置。参照图1，镀铜溶液测量补充装置包括电镀池1，电镀池1的外壁上安装有一个用于储存镀铜溶液的储料桶2，出料桶上设置有透明的观察窗12。储料桶2的底部通过一根进料管21与电镀池1连通，电镀池1的内壁上开设有一个进料口。进料口的一侧焊接有一根竖直的表面镀铜的导杆3，导杆3上滑动设置有用于开闭进料口的塑料材质的塞块4以及用于带动塞块4滑动的空心塑料浮块6。参照图1和图2，导杆3的顶部和底部均滑动设置有密封的第二保护盒9，第二保护盒9内装有磁铁块，导杆3上滑动设置有两个密封的第一保护盒8，第一保护盒8内装有铁块，第一保护盒8和第二保护盒9均为塑料材质。两个第一保护盒8之间通过一根连杆81连接，塞块4与顶部的第一保护盒8热熔连接，浮块6滑动设置在连杆81上，浮块6的重力大于磁铁与铁块的吸附力，浮块6所受最大浮力均大于铁块所受的重力。参照图1和图2，当电镀池1内镀铜溶液的液面下降时，浮块6向下滑动，当浮块6与底部的第一保护盒8接触时，浮块6在重力的作用下驱使底部的第一保护盒8通过连杆81带动顶部的第一保护盒8以及塞块4向下滑动，底部的第一保护盒8与底部的第二保护盒9通过磁性块与金属块吸附，进料口持续开启，镀铜溶液进入电镀池1；电镀池1液面升高，浮块6沿连杆81上升，当浮块6与顶部的第一保护盒8接触时，在浮力的作用下带动顶部的第一保护盒8上升，带动塞块4将进料口22堵塞，同时顶部的第一保护盒8与顶部的第二保护盒9通过磁性块与金属块吸附，使塞块4上升将进料口关闭。参照图1和图2，进料口22周围固设有一圈橡胶材质的密封圈5，密封圈5的截面为圆弧形且凸面朝向塞块4，密封圈5的表面包裹有一层特氟龙滑动层，塞块4靠近进料口22的一侧侧壁上开设有一圈与密封圈5适配的凹槽7，当塞块4将进料口22关闭时密封圈5卡入凹槽7中，有效提高了进料口22的密封性。塞块4靠近进料口22一侧侧壁的边缘设置有倒角，塞块4滑动过程中通过倒角与滑动层接触，有效减少了塞块4滑动过程中受到的阻力。参照图1和图本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种镀铜溶液测量补充装置，其特征在于：包括电镀池(1)，所述电镀池(1)上的外壁上设置有储料桶(2)，所述电镀池(1)与储料桶(2)之间通过进料管(21)连通，所述进料管(21)的进料口(22)位于电镀池(1)的侧壁上，所述电镀池(1)的内壁沿竖直方向固设有导杆(3)，所述导杆(3)上沿自身长度方向滑动设置有用于开闭进料口(22)的塞块(4)，所述塞块(4)上设置有浮在溶液上的浮块(6)。/n
【技术特征摘要】
1.一种镀铜溶液测量补充装置，其特征在于：包括电镀池(1)，所述电镀池(1)上的外壁上设置有储料桶(2)，所述电镀池(1)与储料桶(2)之间通过进料管(21)连通，所述进料管(21)的进料口(22)位于电镀池(1)的侧壁上，所述电镀池(1)的内壁沿竖直方向固设有导杆(3)，所述导杆(3)上沿自身长度方向滑动设置有用于开闭进料口(22)的塞块(4)，所述塞块(4)上设置有浮在溶液上的浮块(6)。
2.根据权利要求1所述的一种镀铜溶液测量补充装置，其特征在于：所述电镀池(1)位于进料口(22)的周向的侧壁上设置有密封圈(5)，所述塞块(4)朝向进料口(22)一侧开设有与密封圈适配的凹槽(7)。
3.根据权利要求2所述的一种镀铜溶液测量补充装置，其特征在于：所述密封圈(5)的表面设置有滑动层。
4.根据权利要求2所述的一种镀铜溶液测量补充装置，其特征在于：所述塞块(4)靠近进料口(22)一侧侧壁的边缘设置有倒角。
5.根据权利要求1所述的一种镀铜溶液测量补充装置，其特征...
【专利技术属性】
技术研发人员：董峰波，孙中强，
申请(专利权)人：郑州中强凹印制版有限公司，
类型：新型
国别省市：河南;41
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