本发明专利技术的目的在于提供一种皮膜形成用组合物，其在保存期间的稳定性和显影性优良且在通过涂布而形成固化皮膜的情况下与透光性基板或电极的密合性和透明性优良，即使是薄膜也有高绝缘性。本发明专利技术的所述组合物的特征在于包含满足下述条件1的聚硅氧烷化合物、分子内不含硅的聚硫醇化合物、聚合引发剂和有机溶剂。条件1为构成所述聚硅氧烷化合物的材料包含：选自由四烷氧基硅烷和双(三烷氧基硅烷基)烷烃所组成的组中的至少一种的硅烷系化合物(A)，选自由烷基三烷氧基硅烷、二烷基二烷氧基硅烷、环烷基三烷氧基硅烷、乙烯基三烷氧基硅烷、苯基三烷氧基硅烷所组成的组中的至少一种的硅烷系化合物(B)，以及具有自由基聚合性不饱和双键的硅烷系化合物(C)。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】皮膜形成用组合物、涂布该组合物而成的玻璃基材及使用该玻璃基材的触控面板
本专利技术涉及一种皮膜形成用组合物、涂布该皮膜形成用组合物而成的玻璃基材以及使用该玻璃基材的触控面板。
技术介绍
作为用于智能手机或平板电脑的触控面板，是检测(探知)与面板表面接触的手指等的位置或动作并能够实现显示器上所对应位置显示的图标等的点击、画面的放大或缩小、滚动等的装置。作为该触控面板的检测手指等的位置或动作的方法，目前多使用电阻膜方式和静电电容方式两种。关于电阻膜方式和静电电容方式的结构配置如下：在电阻膜方式中将因手指按压而产生的电极层间的电压变动在传感器部分转换为电信号，而在静电电容方式中将因手指与面板表面接近·接触时所产生的静电电容的变化在传感器部分转换为电信号，由此分别地获取有关手指的位置或动作信息。并且，传感器部分由电极层、绝缘层等的组合所构成。由于这种触控面板设置在显示器的上表面，因此要求使用的构件具有高透明性，从而不妨碍显示器显示的视认性。因此，形成电极层或绝缘层的材料当然必须是能够形成透明性高的皮膜。作为形成绝缘层的材料，使用由无机类、有机类、以及由这两类所构成的各种透明绝缘材料。并且，为了确保更高的透明性，不仅选择具有透明性优异的皮膜形成能力的材料，而且对于通过绝缘层覆盖的面积，也以成为必要的最小限度的方式设置。然而，在电极层或绝缘层的形成中，主要使用光刻法。在光刻法(负型)中，首先通过涂布手段等在基材上形成对于紫外线等活性能量线具有固化性(相对于显影液的不溶解性)的材料的皮膜。然后，在曝光工序中通过形成有针对未曝光部位进行屏蔽的图案的膜片等进行来照射活性能量线，有选择性地形成曝光部位(成为固化皮膜)与未曝光部(处于未固化状态)，接着在显影工序中用显影液来溶解·去除未曝光部位。此时，若由于绝缘层的形成不全而在电极层之间得不到充分的绝缘性，则有可能会引起电短路而丧失正常的触控面板的功能。因此，形成绝缘层的材料必须具有以下性能：在光刻法的曝光工序中确实地形成固化皮膜，另外，在显影工序中固化皮膜稳定地如图案的形状那样残留。综上所述，在形成绝缘层的材料中，首先要求高透明性、以及优选为即使是为了更加提高透明性而薄膜化也可以保持绝缘性能的高绝缘性。另外，为了能够提供于光刻法中，还要求具有由活性能量线得到的皮膜固化性、诸如即使皮膜暴露于显影液中也不会被去除那样的固化皮膜自身的耐腐蚀性、对于透光性基板或ITO电极层的密合性(贴合性、粘合性)，进而还要求在上面形成有金属布线层时的相对于金属布线层的密合性。从这些要求性能的观点出发，对于在分子内具有硅氧烷键的化合物((聚)硅氧烷化合物)的适应性继续探讨，发现该化合物具有如下特征：因其大键能而且化学稳定性高，因此容易获得能够形成除了耐热性或耐腐蚀性优异以外，透明性也高的皮膜的材料。并且，也容易向分子内导入有机官能团等，作为皮膜形成材料时，容易控制所获得的皮膜的柔软性、相对于各种材料表面的密合性、相对于溶剂或显影液的溶解性。另外，若导入含有自由基聚合性不饱和双键的官能团，则可以提供至光刻法。基于上述理由，聚硅氧烷化合物被视为绝缘层形成材料的有力候补，且用于有效利用的技术开发也正在进行。例如，公开了一种放射线敏感性组合物，其包含使特定的硅烷或其缩合体水解缩合所得到的聚硅氧烷、具有两个以上的乙烯性不饱和基的化合物、以及光自由基聚合引发剂，并且由其能够有效地形成以高水准且平衡性良好地兼备耐热透明性、硬度、耐擦伤性、耐热裂纹性、密合性、灵敏度和显影性等各种特性的固化膜(例如，专利文献1)。另外，还已知一种绝缘材料用组合物，其在具有交联性官能团的硅氧烷低聚物与聚合引发剂的组合中还含有粘合促进剂(例如，专利文献2)。并且，专利文献2中公开了一种技术，其通过利用铝和/或锆的配位化合物、碳化二亚胺化合物、巯基硅烷化合物作为粘合促进剂，提高相对于玻璃、ITO以及金属的密合性，从而防止绝缘性皮膜从电子器件上剥离。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2012-212114号公报专利文献2：国际公开第2014/185435号
技术实现思路
专利技术要解决的课题若使用绝缘层形成材料通过光刻法形成绝缘层，则首先要求曝光部的固化的皮膜与未曝光部的未固化的皮膜的性能相反。即，需要以下性能：当暴露于显影液时，固化的皮膜不会溶解而残留，另一方面，未固化的皮膜迅速溶解而被去除。另外，即使固化的皮膜自身不溶解，但是若皮膜与透光性基板或ITO电极的界面的化学的吸附力(密合性)弱，则通过显影液的侵蚀皮膜也容易剥离，因此，界面的密合性也是必要的。当然，作为绝缘层形成材料自身的性能，还需要保存期间的粘度稳定性以及诸如使固化反应不进行的反应抑制效果、由光刻法的活性能量线引起的灵敏的皮膜固化性。使硅烷系化合物进行缩合反应所得到的聚硅氧烷化合物的特性取决于原始硅烷系化合物的取代基或分子结构等。例如，当含有被亲水性的氨基取代的硅烷系化合物作为反应成分时，随着该成分增多，所获得的聚硅氧烷化合物的亲水性也变高。因此，通过选择作为反应成分使用的硅烷系化合物，可以根据目标应用领域所要求的性能进行聚硅氧烷化合物的分子设计。但是，反过来说，在存在具有不同的取代基或分子结构的多种硅烷系化合物的情况下，要找到满足上述各种性能要求的最佳组合意味着需要大量的劳动力。此外，在含有聚硅氧烷化合物以外的材料并且通过这些全部的材料的复合作用而表现物理性质的体系中，更是如此。在这种状况下，本专利技术要解决的课题在于提供一种具有如下优异特性的皮膜形成用组合物。其特性：首先，作为基本性能，在具有自由基聚合性而能够用于光刻法的同时，保存期间的稳定性(粘度稳定性、反应抑制效果)也优异。其次，当用于光刻法时，可以通过简单的涂布方法进行涂布。另外，在曝光部中形成的固化皮膜，相对于显影液难以溶解或侵蚀，进而相对于触控面板等透光性基板或ITO电极、金属电极的密合性优异。另一方面，未曝光部的未固化的皮膜容易溶解于显影液而迅速地被去除，结果具有高显影性。而且，最后所得到的固化皮膜会直接发挥出聚硅氧烷化合物原本的优良光学特性和化学稳定性，不仅是透明的而且即使是薄膜也具有高绝缘性。解决课题的方法本专利技术人等进行了深入研究的结果发现，通过使作为聚硅氧烷化合物的反应成分包含取代基全部是烷氧基的硅烷系化合物、具有至少一个选自由烷基、环烷基和苯基所组成的组中的取代基的硅烷系化合物、具有自由基聚合性不饱和双键的硅烷系化合物，并且使用特定的聚硫醇化合物作为交联剂，由此能够解决上述的课题，从而完成了本专利技术。即，本专利技术涉及一种皮膜形成用组合物，其特征在于，其包含满足下述条件1的聚硅氧烷化合物、分子内不含硅的聚硫醇化合物、聚合引发剂以及有机溶剂，条件1：作为构成所述聚硅氧烷化合物的材料，包含硅烷系化合物(A)、硅烷系化合物(B)以及硅烷系化合物(C)，其中上述硅烷系化合物(A)是选自由四烷氧基硅烷和双(三烷氧基硅烷基)烷烃所组成的组中的至少一种；上述硅烷系化合物(B)是本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种皮膜形成用组合物，其特征在于，其包含满足下述条件1的聚硅氧烷化合物、分子内不含硅的聚硫醇化合物、聚合引发剂以及有机溶剂，/n条件1/n作为构成所述聚硅氧烷化合物的材料包含：/n选自由四烷氧基硅烷和双(三烷氧基硅烷基)烷烃所组成的组中的至少一种的硅烷系化合物(A)；/n选自由烷基三烷氧基硅烷、二烷基二烷氧基硅烷、环烷基三烷氧基硅烷、乙烯基三烷氧基硅烷、苯基三烷氧基硅烷所组成的组中的至少一种的硅烷系化合物(B)；以及/n具有自由基聚合性不饱和双键的硅烷系化合物(C)。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20181107 JP 2018-2096681.一种皮膜形成用组合物，其特征在于，其包含满足下述条件1的聚硅氧烷化合物、分子内不含硅的聚硫醇化合物、聚合引发剂以及有机溶剂，
条件1
作为构成所述聚硅氧烷化合物的材料包含：
选自由四烷氧基硅烷和双(三烷氧基硅烷基)烷烃所组成的组中的至少一种的硅烷系化合物(A)；
选自由烷基三烷氧基硅烷、二烷基二烷氧基硅烷、环烷基三烷氧基硅烷、乙烯基三烷氧基硅烷、苯基三烷氧基硅烷所组成的组中的至少一种的硅烷系化合物(B)；以及
具有自由基聚合性不饱和双键的硅烷系化合物(C)。
2.如权利要求1所述的皮膜形成用组合物，其中，所述硅烷系化合物(A)是选自由四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四正丙氧基硅烷、四异丙氧基硅烷、四正丁氧基硅烷、四异丁氧基硅烷、双(三乙氧基硅烷基)烷烃所组成的组中的至少一种，所述硅烷系化合物(B)是选自由甲基三乙氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、环己基三乙氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷所组成的组中的至少一种。
3.如权利要求2所述的皮膜形成用组合物，其中，所述硅烷系化合物(A)是四乙氧基硅烷，所述硅烷系化合物(B)是甲基三乙氧基硅烷和苯基三乙氧基硅烷。
【专利技术属性】
技术研发人员：池堂圭祐，松冈裕，冈本胜利，中野正，
申请(专利权)人：阪田油墨株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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