制饼机烤盘温度控制方法及制饼机技术

本发明专利技术公开一种制饼机及制饼机烤盘温度控制方法；其中所述制饼机烤盘温度控制方法包括：获取烤盘的当前温度；将所述烤盘的当前温度与多个预设温度区间进行匹配，以确定烤盘的当前温度所属的温度区间；根据烤盘的当前温度所属的温度区间，选择对应的加热模式，并根据选择的加热模式控制所述制饼机的加热装置工作。本发明专利技术通过在不同的温度区间内选择不同的加热模式，有效缩短温度控制系统的系统的温度调整时间，提升了制饼机的温度控制精度且避免制饼机的烤盘的温度过高。

【技术实现步骤摘要】
制饼机烤盘温度控制方法及制饼机
本专利技术涉及电子电力
，特别涉及一种制饼机烤盘温度控制方法及制饼机。
技术介绍
制饼机的加热装置的控制具有大滞后性、非线性以及时变性；制饼机的加热装置在工作过程中，烤盘不断的运动，使得烤盘本身具备风冷的效果，导致烤盘温度变化快，且加热装置的工作与烤盘的温度变化之间存在一定的滞后，此时，如果采用常规的控制算法，例如PID控制算法，会导致制饼机的加热装置控制响应慢，调整时间长以及控制精度不足的问题。
技术实现思路
本专利技术的主要目的是提供一种制饼机烤盘温度控制方法，旨在提高制饼机的温度控制精度和温度调整的响应速度。为实现上述目的，本专利技术提出一种制饼机烤盘温度控制方法，制饼机包括烤盘及对所述烤盘加热的加热装置，该制饼机烤盘温度控制方法包括以下步骤：获取烤盘的当前温度；将所述烤盘的当前温度与多个预设温度区间进行匹配，以确定烤盘的当前温度所属的温度区间；根据烤盘的当前温度所属的温度区间，选择对应的加热模式，并根据选择的加热模式控制所述制饼机的加热装置工作。<本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种制饼机烤盘温度控制方法，制饼机包括烤盘及对所述烤盘加热的加热装置，其特征在于，包括以下步骤：/n获取烤盘的当前温度；/n将所述烤盘的当前温度与多个预设温度区间进行匹配，以确定烤盘的当前温度所属的温度区间；/n根据烤盘的当前温度所属的温度区间，选择对应的加热模式，并根据选择的加热模式控制所述制饼机的加热装置工作。/n

【技术特征摘要】
1.一种制饼机烤盘温度控制方法，制饼机包括烤盘及对所述烤盘加热的加热装置，其特征在于，包括以下步骤：
获取烤盘的当前温度；
将所述烤盘的当前温度与多个预设温度区间进行匹配，以确定烤盘的当前温度所属的温度区间；
根据烤盘的当前温度所属的温度区间，选择对应的加热模式，并根据选择的加热模式控制所述制饼机的加热装置工作。


2.如权利要求1所述的制饼机烤盘温度控制方法，其特征在于，所述温度区间包括温度依次递增的第一温度区间、第二温度区间以及第三温度区间；
所述根据烤盘的当前温度所属的温度区间，选择对应的加热模式，并根据选择的加热模式控制所述制饼机的加热装置工作的步骤具体包括：
在所述烤盘的当前温度属于第一温度区间时，选择加热比为1的加热模式控制制饼机的加热装置工作；
在所述烤盘的当前温度属于第二温度区间时，选择加热比为预设固定加热比的加热模式控制制饼机的加热装置工作；
在所述烤盘的当前温度属于第三温度区间时，选择加热比为动态加热比的加热模式控制制饼机的加热装置工作；
在所述烤盘的当前温度超出第三温度区间时，选择加热比为0的加热模式控制制饼机的加热装置工作；
其中，所述预设固定加热比大于0且小于1，加热比通过以下计算公式获得：



其中，f为加热比，ta为加热装置的加热时间，tb为加热装置的休息时间。


3.如权利要求2所述的制饼机烤盘温度控制方法，其特征在于，所述第三温度区间包括第一子温度区间和第二子温度区间；其中，第一温度子区间和第二温度子区间的临界值为制饼机烤盘的目标温度；
所述在所述烤盘的当前温度属于第三温度区间时，选择加热比为动态加热比的加热模式控制制饼机的加热装置工作的步骤具体包括：
在所述烤盘的当前温度属于第一子温度区间时，以X-Y为目标温度，动态调节加热比；
在所述烤盘的当前温度属于第二子温度区间时，以X+Z为目标温度，动态调节加热比；
其中，X为制饼机的目标温度，Y和Z为调整值。


4.如权利要求3所述的制饼机烤盘温度控制方法，其特征在于，所述在所述烤盘的当前温度属于第一子温度区间时，以X-Y为目标温度，动态调节加热比具体为：
以X-Y为目标温度，通过PID算法调节休息时间以调节加热比；
所述在所述烤盘的当前温度属于第二子温度区间时，以X+Z为目标温度，动态调节加热比具体为：
以X+Z为目标温度，通过PID算法调节加热时间以调节加热比。


5.如权利要求1所述的制饼机烤盘温度控制方法，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：万里平，
申请(专利权)人：深圳市知视智能技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44