一种芍药离体再生方法技术

本发明专利技术公开了一种芍药离体再生用培养基，它包括启动培养基、增殖培养基，壮苗培养基和生根培养基。本发明专利技术再生用培养基，可以克服芍药离体培养启动困难的问题，诱导叶柄底部芽点处分化侧芽，侧芽萌发率达到90％；在30天的培养周期下，增值系数平均达到5以上；可以提高基质透气性，有效改善在生根培养过程中无根苗基部坏死的情况，且克服芍药组培苗生根难问题，获得生根植株。获得生根植株。

【技术实现步骤摘要】
一种芍药离体再生方法


[0001]本专利技术涉及植物组织培养领域，具体涉及芍药离体再生方法，尤其涉及中江芍药离体再生方法。

技术介绍

[0002]芍药(Paeonia lactiflora Pall.)为芍药科芍药属多年生宿根草本植物，是我国有名的观赏花卉和药用植物。芍药是中药白芍的基源植物，其根置沸水中煮后除去外皮或去皮后再煮，晒干即得中药白芍。目前白芍的道地产区有四川、安徽和浙江，其中，四川中江白芍品质极佳，具有根粗、肥壮、芍药苷含量高等优点。然而，中江白芍的基源植物中江芍药在栽培过程中只开花不结实，常采用芍头分株繁殖，繁殖系数低、成本高。随着鲜切花市场和药材市场的发展，中江芍药的繁殖能力与种植面积剧增的矛盾日益突出。同时，在长期的芍头分株繁殖下，其体内各种真菌、细菌、病毒积累，严重影响白芍的品质与产量。因此，找到新的繁殖方式对于中江白芍产业的发展具有重要意义。
[0003]现有芍药离体再生技术中，仍然存在分化困难、生根难、褐变和玻璃化严重等技术难题，而在中江芍药快繁体系的建立中除了以上问题外，还存在严重的内生菌污染。目前，芍药科植物的离体快繁研究多集中于观赏品种上，有关药用芍药植物组织培养的国内外研究较少，特别是中江芍药，目前仅有建立无菌体系的讨论，没有建立完整的中江芍药离体再生的方法。

技术实现思路

[0004]为解决上述问题，本专利技术提供了一种芍药离体再生用培养基，它包括启动培养基、增殖培养基，壮苗培养基和生根培养基；
[0005]所述启动培养基是以1/2MS培养基为基础培养基，添加有终浓度为2～5mg/L的苄基嘌呤(6
‑
BA)、0.2～0.8mg/L的赤霉素(GA3)、5～10g/L的琼脂和25～35g/L的蔗糖，其pH值为5.5～6.0；
[0006]所述增殖培养基是以改良1/2MS培养基为基础培养基，添加有终浓度为3～5mg/L的苄基嘌呤(6
‑
BA)、0.8～1.0mg/L的赤霉素(GA3)、5～10g/L的琼脂和25～35g/L的蔗糖，其pH值为5.5～6.0；
[0007]所述壮苗培养基是以改良1/2MS培养基为基础培养基，添加有终浓度为0.5～1mg/L的苄基嘌呤(6
‑
BA)、0.2～0.8mg/L的赤霉素(GA3)、5～10g/L的琼脂和25～35g/L的蔗糖，其pH值为5.5～6.0；
[0008]所述生根培养基是以1/4MS培养基为基础培养基，添加有终浓度为0.3～0.8mg/L的吲哚丁酸(IBA)、0.3～0.8mg/L的α
‑
萘乙酸(NAA)、7～13g/L的蔗糖、300～400g/L的珍珠岩和蛭石混合物，其pH值为6.0～6.5；
[0009]所述改良1/2MS培养基是1/2MS培养基中的CaCl2·
2H2O浓度调整为660mg/L的培养基。
[0010]进一步地，所述启动培养基是以1/2MS培养基为基础培养基，添加有终浓度为2～3mg/L的苄基嘌呤(6
‑
BA)、0.5mg/L的赤霉素(GA3)、8g/L的琼脂和30g/L的蔗糖，其pH值为5.9～6.0；所述增殖培养基是以改良1/2MS培养基为基础培养基，添加有终浓度为3mg/L的苄基嘌呤(6
‑
BA)、0.8mg/L的赤霉素(GA3)、8g/L的琼脂和30g/L的蔗糖，其pH值为5.9～6.0。
[0011]进一步地，所述壮苗培养基是以改良1/2MS培养基为基础培养基，添加有终浓度为1mg/L的苄基嘌呤(6
‑
BA)、0.5mg/L的赤霉素(GA3)、8g/L的琼脂和30g/L的蔗糖，其pH值为5.9～6.0；所述生根培养基是以1/4MS培养基为基础培养基，添加有终浓度为0.5mg/L的吲哚丁酸(IBA)、0.5mg/L的α
‑
萘乙酸(NAA)、10g/L的蔗糖、320g/L的珍珠岩和蛭石混合物，其pH值为6.0～6.1。
[0012]更进一步地，所述珍珠岩和蛭石混合物中珍珠岩与蛭石的比例为2：1。
[0013]本专利技术还提供了一种芍药离体再生方法，它是利用前述培养基再生，具体步骤如下：
[0014]a、取芍药幼芽，清理，清洗，消毒，切去茎尖与底部，将茎段接入启动培养基培养，得再生组培苗；
[0015]b、取再生组培苗，切下侧芽，接入增殖培养基培养，得丛生芽；
[0016]c、将步骤b丛生芽分为单个芽，再转接入壮苗培养基培养，得无根苗；
[0017]d、将步骤c无根苗接入生根培养基中诱导生根，得芍药再生植株。
[0018]进一步地，步骤a所述芍药幼芽为出土3～5cm带鳞片的芽；和/或，步骤b所述再生组培苗的长度为2～3cm。
[0019]进一步地，步骤a所述清理是除去幼芽表面泥土，去掉褐化鳞片；所述清洗是用洗洁精溶液浸泡，再流水洗净；所述消毒是先用多菌灵和青霉素钠混合溶液浸泡并振荡，流水洗净后，再分别用酒精和升汞浸泡，无菌水洗净。
[0020]进一步地，所述清洗是用洗洁精溶液浸泡30min，再流水冲洗2h；所述消毒是先用多菌灵青霉素钠混合溶液浸泡并振荡3h，流水洗净后，再用75％酒精浸泡6～10s，无菌水清洗3～5次，最后用0.1％升汞浸泡6～8min，无菌水清洗5～8次。
[0021]更进一步地，所述多菌灵青霉素钠混合溶液中多菌灵的浓度为3～7g/L，优选5g/L，青霉素钠的浓度为0.15～0.25g/L，优选0.2g/L。
[0022]进一步地，步骤a所述培养是先黑暗培养一周，再进行光照培养，
[0023]更进一步地，所述培养的条件为：pH＝5.9～6.0，温度25
±
2℃，光照强度2500～3000Lux，光照周期14h(光)/10h(暗)。更进一步地，所述芍药为中江芍药。
[0024]本专利技术所述1/2MS培养基是MS培养基配方中的大量元素减半，其余成分含量不变的培养基。
[0025]本专利技术所述1/4MS培养基是大量元素减为MS培养基的1/4，其余成分含量不变的培养基。
[0026]本专利技术所述MS培养基是植物组织中最常用的培养基之一，其配方组成为：
[0027][0028][0029]相较于现有技术，本专利技术具有以下显著效果：
[0030]1)采用本专利技术的启动培养基，可以克服芍药离体培养启动困难的问题，诱导叶柄底部芽点分化侧芽，侧芽萌发率达到几乎100％；
[0031]2)采用本专利技术的增值培养基进行增殖培养，可以在30天的培养周期下，增值系数平均达到5以上，且获得的丛生芽健壮，茎尖无坏死症状。
[0032]3)采用本专利技术生根培养基，可以提高基质透气性，有效改善在生根培养过程中无根苗基部坏死的情况，且打破芍药组培苗生根难问题，获得生根植株。
[0033]本专利技术首次建立了完整的芍药离体再生体系，通过本专利技术离体再生方法，可以有效降低在离体培养过程中外植体的污染本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种芍药离体再生用培养基，其特征在于：它包括启动培养基、增殖培养基，壮苗培养基和生根培养基；所述启动培养基是以1/2MS培养基为基础培养基，添加有终浓度为2～5mg/L的苄基嘌呤(6
‑
BA)、0.2～0.8mg/L的赤霉素(GA3)、5～10g/L的琼脂和25～35g/L的蔗糖，其pH值为5.5～6.0；所述增殖培养基是以改良1/2MS培养基为基础培养基，添加有终浓度为3～5mg/L的苄基嘌呤(6
‑
BA)、0.8～1.0mg/L的赤霉素(GA3)、5～10g/L的琼脂和25～35g/L的蔗糖，其pH值为5.5～6.0；所述壮苗培养基是以改良1/2MS培养基为基础培养基，添加有终浓度为0.5～1mg/L的苄基嘌呤(6
‑
BA)、0.2～0.8mg/L的赤霉素(GA3)、5～10g/L的琼脂和25～35g/L的蔗糖，其pH值为5.5～6.0；所述生根培养基是以1/4MS培养基为基础培养基，添加有终浓度为0.3～0.8mg/L的吲哚丁酸(IBA)、0.3～0.8mg/L的α
‑
萘乙酸(NAA)、7～13g/L的蔗糖、300～400g/L的珍珠岩和蛭石混合物，其pH值为6.0～6.5；所述改良1/2MS培养基是将1/2MS培养基中的CaCl2·
2H2O浓度调整为660mg/L的培养基。2.根据权利要求1所述培养基，其特征在于：所述启动培养基是以1/2MS培养基为基础培养基，添加有终浓度为2～3mg/L的苄基嘌呤(6
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BA)、0.5mg/L的赤霉素(GA3)、8g/L的琼脂和30g/L的蔗糖，其pH值为5.9～6.0；所述增殖培养基是以改良1/2MS培养基为基础培养基，添加有终浓度为3mg/L的苄基嘌呤(6
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BA)、0.8mg/L的赤霉素(GA3)、8g/L的琼脂和30g/L的蔗糖，其pH值为5.9～6.0。3.根据权利要求1所述培养基，其特征在于：所述壮苗培养基是以改良1/2MS培养基为基础培养基，添加有终浓度为1mg/L的苄基嘌呤(6
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BA)、0.5mg/L的赤霉素(GA3)、8g/...

【专利技术属性】
技术研发人员：张利，冯均，倪苏，姜媛媛，王龙，杨瑞武，廖进秋，尧思程，杨利霞，
申请(专利权)人：四川农业大学，
类型：发明
国别省市：