一种传输装置镀膜设备制造方法及图纸

技术编号:28756321 阅读:21 留言:0更新日期:2021-06-09 10:26
本实用新型专利技术涉镀膜技术领域,尤其涉及一种传输装置镀膜设备,包括碳膜沉积反应腔;还包括工作台、镀膜腔室和缓冷腔室;镀膜腔室和缓冷腔固定在工作台,镀膜腔室的另一侧壁开设进料口,进料口处设有一号传送带,且一号传送带一端位于进料口处,一号传送带的另一端从而碳膜沉积反应腔的进口伸入碳膜沉积反应腔内,碳膜沉积反应腔的出口处设有镀膜单元;镀膜单元包括镀膜槽和打捞板;镀膜槽的一侧位于碳膜沉积反应腔的出口处,镀膜槽内侧壁上铰接打捞板,且打捞板的中心位置与外界的电机输出轴连接,镀膜槽的另一侧下方设有二号传送带,且二号传送带位于镀膜腔室和缓冷腔室之间;缓冷腔室用于减缓物料的冷却速度。室用于减缓物料的冷却速度。室用于减缓物料的冷却速度。

【技术实现步骤摘要】
一种传输装置镀膜设备


[0001]本技术涉镀膜
,尤其涉及一种传输装置镀膜设备。

技术介绍

[0002]在试验P5000PECVD生长碳膜的过程中,发现衬底基片周围一圈有碳膜剥落,经多次试验后,发现当衬底基片在反应腔中400度环境下完成碳膜的沉积后,传出碳膜沉积反应腔,遇到室温的BLADE和ELEVATOR,而这两者是由金属制成,导热异常迅速,导致衬底基片及碳膜温度的迅速下降,从而产生应力变化,碳膜出现剥落现象,为此在金属制成的BLADE和ELEVATOR上镀一层绝热膜,减少衬底基片和金属件之间的热传导,从而阻止温度的急剧变化,减少碳膜的剥落。

技术实现思路

[0003]本技术解决的问题在于提供一种传输装置镀膜设备,通过在金属制成的BLADE和ELEVATOR上镀一层绝热膜,减少衬底基片和金属件之间的热传导,从而阻止温度的急剧变化,减少碳膜的剥落。
[0004]为了实现上述目的,本技术采用了如下技术方案:
[0005]一种传输装置镀膜设备,包括碳膜沉积反应腔;还包括工作台、镀膜腔室和缓冷腔室;所述镀膜腔室和缓冷本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种传输装置镀膜设备,包括碳膜沉积反应腔;其特征在于,还包括工作台、镀膜腔室和缓冷腔室;所述镀膜腔室和缓冷腔固定在工作台,且镀膜腔室的一侧与缓冷腔室的一侧连通;所述镀膜腔室的另一侧壁开设进料口,进料口处设有一号传送带,且一号传送带一端位于进料口处,一号传送带的另一端从而碳膜沉积反应腔的进口伸入碳膜沉积反应腔内,碳膜沉积反应腔的出口处设有镀膜单元;所述镀膜单元包括镀膜槽和打捞板;所述镀膜槽的一侧位于碳膜沉积反应腔的出口处,镀膜槽内侧壁上铰接打捞板,且打捞板的中心位置与外界的电机输出轴连接,镀膜槽的另一侧下方设有二号传送带,且二号传送带位于镀膜腔室和缓冷腔室之间;所述缓冷腔室用于减缓物料的冷却速度。2.根据权利要求1所述的一种传输装置镀膜设备,其特征在于,所述镀膜腔室的上端面设有储料桶,储料桶内承装有镀膜原料,储料桶的下端设有导管,导管一端与储料桶连通,导管的另一端位于镀膜槽的一侧上方,且导管上设有流量调节阀。3.根据权利要求1所述的一种传输装置镀膜设备,其特征在于,所述打捞板由聚氯乙烯...

【专利技术属性】
技术研发人员:孙劲松孔凡涛陆再超
申请(专利权)人:无锡吉易特半导体科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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