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本实用新型涉镀膜技术领域，尤其涉及一种传输装置镀膜设备，包括碳膜沉积反应腔；还包括工作台、镀膜腔室和缓冷腔室；镀膜腔室和缓冷腔固定在工作台，镀膜腔室的另一侧壁开设进料口，进料口处设有一号传送带，且一号传送带一端位于进料口处，一号传送带的另一...
该专利属于无锡吉易特半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡吉易特半导体科技有限公司授权不得商用。

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