【技术实现步骤摘要】
一种单晶碳化材料加工设备的射流机构
[0001]本专利技术涉及材料加工设备
,特别是涉及一种单晶碳化材料加工设备的射流机构。
技术介绍
[0002]目前,在现有技术中,刀具是机械制造中用于加工的工具,普通的刀具在加工时易产生磨损,或易使工件产生剪切破坏,例如使加工工件产生加工形变和变质层,进而影响工件的精密加工,导致加工精度降低,无法进行超精密加工,尤其在针对高硬度材料如单晶碳化材料时,易影响工件的性能,使加工效率大大降低,加工成本大幅度提升,因此一般会对其材料加工面定时喷射电解液以降低材料加工硬度。
[0003]但现有技术中的射流装置,对于加工件的喷液未能达到精准定位喷射的效果,尤其在针对某些加工件的多角度边缘部位进行喷射时,无法做到精确喷射,导致加工效率降低,加工成本提升,影响了工件的性能;且喷射面域一般比较狭小,需要喷射好多次,有时还会导致电解液的浪费,不便于加工还影响效率;并且现有的射流装置也不具备循环使用能力,易造成电解液的浪费,提高了加工成本。
技术实现思路
[0004]本专利技术所 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种单晶碳化材料加工设备的射流机构,其特征在于:包括支撑底座(1)、固定架(2)、加工装置(201)、承载盘座(3)、射流组件(5)、主调节架体(6)和过滤净化组件(4);所述支撑底座(1)的上端面一侧垂直固定有固定架(2),所述固定架(2)上安装有加工装置(201),所述加工装置(201)用于对单晶体进行模切加工;所述支撑底座(1)的上端面中心位置通过支撑柱支撑固定有承载盘座(3),所述承载盘座(3)内设有用于夹持定位的装夹件;所述支撑底座(1)上可相对滑动地设置有射流组件(5),所述射流组件(5)以承载盘座(3)的中心为轴心可绕承载盘座(3)进行圆周旋转运动,所述射流组件(5)用于将加工用电解液对单晶碳化材料加工部位定量喷出;所述射流组件(5)下方设置有主调节架体(6),所述主调节架体(6)可对射流组件(5)的水平面喷流角度进行局部调整,主调节架体(6)通过内部旋转作用也可使射流组件(5)在一定圆周范围程度上进行喷流,并在材料表面形成局部加工圈层;所述支撑底座(1)的上端面还安装有过滤净化组件(4),所述过滤净化组件(4)可将射流组件(5)内喷出并用于加工溶解的电解废液进行内部过滤净化处理,以用于二次循环喷射。2.根据权利要求1所述的一种单晶碳化材料加工设备的射流机构,其特征在于:所述主调节架体(6)包括导向轨件(601)、驱动导座(602)、安装主架(603)、调节轴件(604)、液压伸缩杆(605)和内旋转装置(7);所述支撑底座(1)的上端面通过安装杆横向固定有导向轨件(601),所述导向轨件(601)与所述承载盘座(3)呈同心圆结构,所述安装主架(603)的下端面固定有驱动导座(602),驱动导座(602)内设有驱动轮,所述安装主架(603)可通过驱动导座(602)内的驱动轮沿导向轨件(601)进行周向滑移;所述安装主架(603)的一侧固定有调节轴件(604),所述调节轴件(604)远离转轴的一端可相对转动地连接有内旋转装置(7),所述调节轴件(604)可使内旋转装置(7)绕安装主架(603)作定向旋转运动;所述内旋转装置(7)的上端面安装有射流组件(5),所述内旋转装置(7)与安装主架(603)之间铰接有液压伸缩杆(605),所述液压伸缩杆(605)通过伸缩可对射流组件(5)的水平面倾角进行局部调整;所述内旋转装置(7)通过其内部旋转伸缩可控制射流组件(5)在一定圆周范围内进行电解液喷射,使得电解液在单晶碳化材料表面附着并形成加工圈层。3.根据权利要求2所述的单晶碳化材料加工设备的射流机构,其特征在于:所述内旋转装置(7)包括横向导架(701)、旋转电机(702)、伸缩气缸(703)和锁紧件(704);所述横向导架(701)上横向平行安装有伸缩气缸(703),所述横向导架(701)的内部安装有旋转电机(702),所述旋转电机(702)的输出端与伸缩气缸(703)一端固定连接,旋转电机(702)可驱动伸缩气缸(703)作定向圆周旋转运动;所述伸缩气缸(703)的输出端上设置有锁紧件(704),所述射流组件(5)固定连接在锁紧件(70...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘光毅,
申请(专利权)人:常州机电职业技术学院,
类型:发明
国别省市:
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