基板处理设备制造技术

技术编号:28725121 阅读:21 留言:0更新日期:2021-06-06 05:38
提供了一种冷却装置,该冷却装置能够通过使用涡流管来控制反应器特别是气体供应装置例如喷头的上部的温度。冷却装置可供应的冷却气体的温度低于加热到高温的气体供应装置的温度,从而容易地控制气体供应装置的温度。并提供一种包括该冷却装置的气体供应装置和包括该冷却装置的基板处理设备。括该冷却装置的基板处理设备。括该冷却装置的基板处理设备。

【技术实现步骤摘要】
基板处理设备
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请基于2019年12月04日在美国专利和商标局提交的美国专利申请号62/943661并且在35U.S.C.
§
119下要求其优先权,其全部内容通过引用合并于此。


[0003]本公开涉及一种基板处理设备,更具体地,涉及一种能够调节气体供应装置的温度的冷却装置。

技术介绍

[0004]在用于进行高温处理的基板处理设备中,反应器主体特别是气体供应装置例如喷头的温度控制对于处理再现性和可靠性维护很重要。将设置有基板的加热块加热至或保持在高温下以进行基板处理。在这种状态下,周围部分也由于热辐射而被加热。特别是,位于靠近并面对加热块的喷头可由于热辐射而容易被加热。如果未适当控制引入处理气体的喷头的温度,则处理气体(例如源气体)在到达基板之前可能会溶解或特性可能发生变化,从而可能会导致基板处理的可靠性下降以及装置缺陷。此外,可能存在发生安全事故的风险,例如火灾或工作人员烧伤。为了解决上述问题,已经尝试了控制喷头温度的多种方法。当前使用的方法可以包括空气冷却方法,以本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种冷却装置,包括:气体压缩机,其配置为供应压缩气体;涡流管,其具有经由第一管路连接至气体压缩机的压缩气体注入孔、热空气排出孔和冷空气排出孔;至少一个入口,其通过第二管路连接到涡流管的冷空气排出孔;以及流体通道,通过至少一个入口引入的冷却气体在其中循环。2.根据权利要求1所述的冷却装置,其中,所述涡流管将由气体压缩机供应的压缩气体分离成冷空气和热空气,并且通过所述冷空气排出孔排出冷空气和通过所述热空气排出孔排出热空气。3.根据权利要求1所述的冷却装置,其中,所述气体压缩机包括气体供应器和流量控制器。4.根据权利要求3所述的冷却装置,其中,所述流量控制器控制从气体供应器经由所述第一管路向涡流管的压缩气体注入孔供应的气体的压力。5.根据权利要求4所述的冷却装置,其中,随着由所述流量控制器向涡流管的压缩气体注入孔供应的气体的压力增加,通过所述冷空气排出孔排出的冷空气的温度降低。6.根据权利要求4所述的冷却装置,其中,所述涡流管还包括连接到热空气排出孔的控制阀,并且所述控制阀控制通过热空气排出孔排出的热空气的排出量。7.根据权利要求6所述的冷却装置,其中,所述涡流管的内压力由流量控制器控制并且由控制阀进行精细调节。8.根据权利要求6所述的冷却装置,其中,随着由所述控制阀通过涡流管的热空气排出孔排出的热空气的排出量减少,通过冷空气排出孔排出的冷空气的温度降低。9.根据权利要求8所述的冷却装置,其中,所述冷却装置还包括风扇,其控制在所述流体通道中循环的冷却气体的流量。10.一种气体供应装置,其包括根据权利要求1所述的冷却装置。11.一种基板处理设备,包括:室,其包括由顶盖和外壁围绕的内空间;至少一个反应器,其设置在顶盖处并包括气体供应装置;至少一个基板支撑件,其设置在所述室中以面对至少一个反应器;反应空间,其形成在气体供应装置与基板支撑件之间;以及至少一个冷却装置,其设置在至少一个反应器的上部或气体供应装置的上部,所述冷却装置包括至少一个涡流管,其具有压缩气体注入孔、热空气排出孔和冷空气排出孔,其中,所述冷却装置还包括流体通道,从冷空气排...

【专利技术属性】
技术研发人员:文炯哲
申请(专利权)人:ASMIP私人控股有限公司
类型:发明
国别省市:

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