一种适用于高功率束流的薄膜降能器制造技术

本发明专利技术公开了一种适用于高功率束流的薄膜降能器，包括真空管，位于所述真空管内部、且内部中空的铜基座，环绕安装在所述铜基座内部的冷却水装置，设置在铜基座内部的薄膜，和设置在所述真空管管壁上、支撑固定所述铜基座的支撑底座，所述铜基座与所述真空管同轴设置，本发明专利技术通过在铜基座内部设置冷却水装置，冷却水装置能够跟设置在铜基座内的薄膜进行热交换，吸收沉积在薄膜中的热量，降低薄膜的热负载，使薄膜能够正常工作，进而保证在高功率束流下降能器的正常使用。流下降能器的正常使用。流下降能器的正常使用。

【技术实现步骤摘要】
一种适用于高功率束流的薄膜降能器


[0001]本专利技术属于粒子加速器领域，具体涉及一种适用于高功率束流的薄膜降能器。

技术介绍

[0002]在粒子加速器领域，特别是引出束流能量固定的回旋加速器领域，为了满足不同的应用需求，往往需要采用能量选择系统对粒子束流的能量进行调节，束流能量选择系统中最为核心的部件就是降能器，其主要作用是调节束流的能量，目前世界上所涉及的降能器主要应用在癌症、肿瘤治疗等医用治疗系统，例如，瑞士PSI、比利时IBA、日本住友公司均采用类似的多楔型结构降能系统，如图1所示。这种降能器由两块包含若干楔形体的石墨块构成，两块石墨快可相对移动，从而改变束流路径上的石墨厚度，达到改变束流能量的目的；通过降能器后的束流流强基本不变，而束流品质，发射度与散射角要变大，这种降能器可以在80
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100ms内使束流路径上的石墨厚度改变5mm，适用于快速点扫描治疗和移动靶体用的体积重复扫描法，但是这种降能器仅适用于低流强、高能量的质子及重离子，粒子单核能一般在100MeV以上束流的能量调节，并不适用于对加速器引出的能量较低的粒本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种适用于高功率束流的薄膜降能器，其特征在于：包括真空管(1)，位于所述真空管(1)内部、且内部中空的铜基座(2)，环绕安装在所述铜基座(2)内部的冷却水装置(3)，设置在铜基座(2)内部的薄膜(4)，和设置在所述真空管(1)管壁上、支撑固定所述铜基座(2)的支撑底座(5)，所述铜基座(2)与所述真空管(1)同轴设置。2.根据权利要求1所述的一种适用于高功率束流的薄膜降能器，其特征在于：所述冷却水装置(3)包括环绕在所述铜基座(2)壁内部的环绕水管(6)、和与所述环绕水管(6)连通的进水管(7)和出水管(8)，所述进水管(7)和出水管(8)另一端穿过所述支撑底座(5)延伸至所述真空管(1)外。3.根据权利要求1所述的一种适用于高功率束流的薄膜降能器，其特征在于：所述铜基座(2)中空的部分为“T”形中空结构(9)，所述“T”形中空结构(9)包括上中空结构和下中空结构，所述薄膜(4)设置在上中空结构中。4.根据权利要求3所述的一种适用于高功率束流的薄膜降能器，其特征在于：所述薄膜(4)通过螺套压盖(10)固定安装...

【专利技术属性】
技术研发人员：李智慧，陈伟，
申请(专利权)人：四川大学，
类型：发明
国别省市：