防伪纸张的制造设备、防伪纸张的制造方法和防伪纸张技术

本发明专利技术提供了一种防伪纸张的制造设备、防伪纸张的制造方法和防伪纸张。防伪纸张的制造设备包括：纸张输送装置，纸张输送装置用于带动纸张移动，使纸张顺次经过施胶装置、渗透缓冲装置、曝光装置、显影装置和干燥装置；施胶装置，施胶装置用于在纸张的至少部分表面施加光敏材料；渗透缓冲装置，渗透缓冲装置用于使光敏材料渗透进入纸张；曝光装置，曝光装置用于对纸张进行局部图案化地曝光处理；显影装置，显影装置用于至少局部洗脱纸张之上的光敏材料；干燥装置，干燥装置用于对纸张进行干燥处理。通过本发明专利技术的技术方案获得的防伪纸张具有优异的防伪效果。

【技术实现步骤摘要】
防伪纸张的制造设备、防伪纸张的制造方法和防伪纸张
本专利技术涉及防伪产品的
，具体而言，涉及防伪纸张的制造设备、防伪纸张的制造方法和防伪纸张。
技术介绍
相关技术中的防伪纸张通常设有防伪视窗。部分防伪视窗的制作是采用模切的方法在干燥纸张上切口形成。因此其难以形成精细图案，较易被伪造。另有部分防伪视窗的制作是在抄纸过程中采用不沉积纸浆的方式形成的，也同样存在难以形成精细图案的问题。还有部分防伪视窗的制作采用浸渍的方法，通过在纸张纤维空隙中填充有机物质形成透明纸，同样存在难以形成精细图案且容易被伪造的问题。
技术实现思路
本专利技术旨在解决上述技术问题的至少之一。为此，本专利技术的第一方面提供了一种防伪纸张的制造设备。本专利技术的第二方面提供了一种防伪纸张的制造方法。本专利技术的第三方面提供了一种防伪纸张。为实现本专利技术的第一方面，本专利技术的实施例提供了一种防伪纸张的制造设备，包括：纸张输送装置，纸张输送装置用于带动纸张移动，使纸张顺次经过施胶装置、渗透缓冲装置、曝光装置、显影装置和干燥装置；施胶装置，施胶装置用于在纸张的至少部分表面施加光敏材料；渗透缓冲装置，渗透缓冲装置用于使光敏材料渗透进入纸张；曝光装置，曝光装置用于对纸张进行局部图案化地曝光处理；显影装置，显影装置用于至少局部洗脱纸张之上的光敏材料；干燥装置，干燥装置用于对纸张进行干燥处理。本实施例能够在纸张的局部表面或全部表面形成精细的塑料化的防伪图案，其图案精细、难以伪造，防伪性能优异。r>另外，本专利技术上述技术方案还可以具有如下附加技术特征：上述技术方案中，曝光装置包括：图案生成装置，图案生成装置用于限定出纸张的待曝光区域；辐照光源，辐照光源用于对待曝光区域进行辐照。图案生成装置施加或覆盖于纸张的至少部分表面，以由此限定出纸张的待曝光区域，辐照光源可向由图案生成装置限定出的待曝光区域施加光照，以使得待曝光区域的光敏材料发生光固化反应，并形成精细的局部图案。上述任一技术方案中，辐照光源的辐照光波长范围为190纳米至510纳米。190纳米至510纳米的长波紫外光或短波可见光能够使得光敏材料被有效固化，保证局部精细化图案清晰完整。上述任一技术方案中，图案生成装置包括：光掩膜，光掩膜具有图案，并用于覆盖纸张施加光敏材料的区域，以通过图案限定出待曝光区域；或投影装置，投影装置用于在纸张施加有光敏材料的区域进行投影以形成待曝光区域。光掩膜或投影装置均能够形成或表征出较为精细化、边界更为清晰细致的图案，因此，本技术方案能够进一步提高防伪图案的精细化程度，提高纸张的防伪效果。上述任一技术方案中，光掩膜为以整卷方式运行的柔性光掩膜，曝光装置还包括光掩膜放卷装置和光掩膜收卷装置，光掩膜放卷装置和光掩膜收卷装置相互配合，以向纸张施加柔性光掩膜；或光掩膜为以闭环方式循环运行的柔性光掩膜，曝光装置还包括光掩膜拼接装置和循环运行装置，光掩膜拼接装置和循环运行装置相互配合，以向纸张施加柔性光掩膜；或光掩膜为平板型光掩膜，曝光装置还包括光掩膜套准装置，光掩膜套准装置用于将平板型光掩膜和纸张相互对准。当采用光掩膜覆盖纸张，以使得纸张生成防伪图案，本实施例可通过相互配合的光掩膜放卷装置和光掩膜收卷装置，或通过相互配合的光掩膜拼接装置和循环运行装置，使得光掩膜自动移动，以与移动的纸张相互配合。上述任一技术方案中，施胶装置包括：涂布装置，涂布装置用于在纸张的至少部分表面涂布光敏材料；或印刷装置，印刷装置用于在纸张的至少部分表面印刷光敏材料。本实施例的涂布装置可在纸张的整体表面或局部表面涂布光敏材料，本实施例的印刷装置可通过例如喷墨印刷的方式将特定图案印刷于纸张之上，以保证防伪纸张的制造设备的工作效率。上述任一技术方案中，防伪纸张的制造设备还包括：筒纸放卷装置或平板纸输纸装置，筒纸放卷装置或平板纸输纸装置沿纸张的移动方向设于防伪纸张的制造设备的移动起始端，并用于向施胶装置供应纸张；和/或卷筒纸收卷装置或平板纸收纸装置，卷筒纸收卷装置或平板纸收纸装置沿纸张的移动方向设于防伪纸张的制造设备的移动结束端，并用于收卷来自干燥装置的纸张。本实施例为防伪纸张的制造设备设置实现纸张供应和收集的装置，以实现纸张的自动供应和自动收集。为实现本专利技术的第二方面，本专利技术的实施例提供了一种防伪纸张的制造方法，包括：在纸张的至少部分表面施加光敏材料，使光敏材料渗透进入纸张；对纸张进行局部图案化地曝光处理，使纸张之上形成局部图案；至少局部洗脱纸张之的光敏材料；对纸张进行干燥处理。本实施例能够在纸张的局部表面或全部表面形成精细的塑料化的防伪图案，其图案精细、难以伪造，防伪性能优异。另外，本专利技术上述技术方案还可以具有如下附加技术特征：上述技术方案中，对纸张进行局部图案化地曝光处理，具体包括：在纸张施加光敏材料的区域覆盖具有图案的光掩模，并采用辐照光源对纸张施加有光敏材料的区域进行辐照；或在纸张施加有光敏材料的区域进行投影以形成图案，并采用辐照光源对纸张施加有光敏材料的区域进行辐照。光掩膜或投影装置均能够形成或表征出较为精细化、边界更为清晰细致的图案，因此，本技术方案能够进一步提高防伪图案的精细化程度，提高纸张的防伪效果。为实现本专利技术的第三方面，本专利技术的实施例提供了一种防伪纸张，防伪纸张采用如本专利技术的任一技术方案的防伪纸张的制造设备制造；或防伪纸张采用如本专利技术的任一技术方案的防伪纸张的制造方法制造。本专利技术的实施例的防伪纸张具有如本专利技术的任一技术方案的防伪纸张的制造设备或如本专利技术的任一技术方案的防伪纸张的制造方法的全部有益效果，在此不再赘述。本专利技术的附加方面和优点将在下面的描述部分中变得明显，或通过本专利技术的实践了解到。附图说明本专利技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：图1为本专利技术一个实施例的防伪纸张的制造设备的组成示意图之一；图2为本专利技术一个实施例的防伪纸张的制造设备的组成示意图之二；图3为本专利技术一个实施例的防伪纸张的制造设备的组成示意图之三；图4为本专利技术一个实施例的防伪纸张的制造设备的组成示意图之四；图5为本专利技术一个实施例的防伪纸张的制造设备的组成示意图之五；图6为本专利技术一个实施例的防伪纸张的制造设备的组成示意图之六；图7为本专利技术一个实施例的防伪纸张的制造设备中曝光装置的组成示意图之一；图8为本专利技术一个实施例的防伪纸张的制造设备中曝光装置的组成示意图之二；图9为本专利技术一个实施例的防伪纸张的制造设备中曝光装置的组成示意图之三；图10为本专利技术一个实施例的防伪纸张的制造设备中曝光装置的组成示意图之四；图11为本专利技术一个实施例的防伪纸张的制造设备中曝光装置的组成示意图之五；图12为本专利技术一个实施例的防伪纸张的制造设备中曝光装置的组成示意图之六；图13为本专利技术一个实施例的防伪纸张的制造方法的步骤流程图本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种防伪纸张的制造设备，其特征在于，包括：/n纸张输送装置，所述纸张输送装置用于带动纸张移动，使所述纸张顺次经过施胶装置、渗透缓冲装置、曝光装置、显影装置和干燥装置；/n所述施胶装置，所述施胶装置用于在所述纸张的至少部分表面施加光敏材料；/n所述渗透缓冲装置，所述渗透缓冲装置用于使所述光敏材料渗透进入所述纸张；/n所述曝光装置，所述曝光装置用于对所述纸张进行局部图案化地曝光处理；/n所述显影装置，所述显影装置用于至少局部洗脱所述纸张之上的所述光敏材料；/n所述干燥装置，所述干燥装置用于对所述纸张进行干燥处理。/n

【技术特征摘要】
1.一种防伪纸张的制造设备，其特征在于，包括：
纸张输送装置，所述纸张输送装置用于带动纸张移动，使所述纸张顺次经过施胶装置、渗透缓冲装置、曝光装置、显影装置和干燥装置；
所述施胶装置，所述施胶装置用于在所述纸张的至少部分表面施加光敏材料；
所述渗透缓冲装置，所述渗透缓冲装置用于使所述光敏材料渗透进入所述纸张；
所述曝光装置，所述曝光装置用于对所述纸张进行局部图案化地曝光处理；
所述显影装置，所述显影装置用于至少局部洗脱所述纸张之上的所述光敏材料；
所述干燥装置，所述干燥装置用于对所述纸张进行干燥处理。


2.根据权利要求1所述的防伪纸张的制造设备，其特征在于，所述曝光装置包括：
图案生成装置，所述图案生成装置用于限定出所述纸张的待曝光区域；
辐照光源，所述辐照光源用于对所述待曝光区域进行辐照。


3.根据权利要求2所述的防伪纸张的制造设备，其特征在于，所述辐照光源的辐照光波长范围为190纳米至510纳米。


4.根据权利要求2所述的防伪纸张的制造设备，其特征在于，所述图案生成装置包括：
光掩膜，所述光掩膜具有图案，并用于覆盖所述纸张施加所述光敏材料的区域，以通过所述图案限定出所述待曝光区域；或
投影装置，所述投影装置用于在所述纸张施加有所述光敏材料的区域进行投影以形成所述待曝光区域。


5.根据权利要求4所述的防伪纸张的制造设备，其特征在于，
所述光掩膜为以整卷方式运行的柔性光掩膜，所述曝光装置还包括光掩膜放卷装置和光掩膜收卷装置，所述光掩膜放卷装置和所述光掩膜收卷装置相互配合，以向所述纸张施加所述柔性光掩膜；或
所述光掩膜为以闭环方式循环运行的柔性光掩膜，所述曝光装置还包括光掩膜拼接装置和循环运行装置，所述光掩膜拼接装置和循环运行装置相互配合，以向所述纸张施加所述柔性光掩膜；或
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【专利技术属性】
技术研发人员：刘卫东，陈庚，蹇钰，王斌，赵红梅，刘萃，
申请(专利权)人：中钞印制技术研究院有限公司，中国印钞造币总公司，
类型：发明
国别省市：北京;11