中红外集成双通道滤光片的制备方法技术

本发明专利技术为一种中红外集成双通道滤光片的制备方法，其克服了现有技术中光谱仪微型化程度得不到保证以及不能实现任意光谱或者大范围光谱分光的问题，本发明专利技术能够完成任意光谱或大范围光谱的分光，微型化与集成化程度更高。本发明专利技术包括以下步骤：S1、基片清洗后，先在基片背表面镀制3‑5μm中红外增透膜；S2、在基片前表面进行第一次光刻构图；S3、沉积第一通道滤光片薄膜；S4、通过剥离工艺将光刻胶及胶上薄膜去除，得到单通道滤光片；S5、在基片前表面进行第二次对准光刻；S6、沉积第二通道滤光片薄膜；S7、进行第二次剥离工艺将光刻胶及胶上薄膜去除，得到中红外集成双通道滤光片。

【技术实现步骤摘要】
中红外集成双通道滤光片的制备方法
：本专利技术属于光学薄膜与微纳制造
，涉及一种中红外集成双通道滤光片的制备方法。
技术介绍
：多光谱遥感技术广泛应用于气象观测、资源考察、地图测绘、环境监测与军事勘察等各个领域。受益于集成光学、电子技术与MEMS技术的发展，多光谱遥感技术正在向集成化、微型化与光谱通道更多的方向发展。而分光技术的发展直接影响着光谱仪的光谱范围、分辨率、体积与重量。传统的分光方式比如多相机分光、转轮式结构分光、光栅分光与棱镜分光，这些方法不仅扫描速率低，并且需要引入额外的机械装置，使光谱仪无法实现微型化。多通道滤光片是从上世纪80年代开始出现的一种遥感分光技术。这类分光技术将多通道滤光片放置在单一传感器的焦平面上，可以一次性获得多个波长范围的图像信息。基于这类多通道滤光片的光谱仪结构紧凑，读出效率特别高，可以大大提高光谱仪的稳定性与光学效率。近年来苏州晶鼎鑫光电科技有限公司通过机械掩膜工艺和光学高真空蒸镀工艺在一块完整的基片上设置多处光学滤光片膜层，以形成多个光学通道(见专利CN107703574A)。该技术能使膜系本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种中红外集成双通道滤光片的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：/nS1、基片清洗后，先在基片背表面镀制3-5μm中红外增透膜；/nS2、在基片前表面进行第一次光刻构图；/nS3、沉积第一通道滤光片薄膜；/nS4、通过剥离工艺将光刻胶及胶上薄膜去除，得到单通道滤光片；/nS5、在基片前表面进行第二次对准光刻；/nS6、沉积第二通道滤光片薄膜；/nS7、进行第二次剥离工艺将光刻胶及胶上薄膜去除，得到中红外集成双通道滤光片。/n

【技术特征摘要】
1.一种中红外集成双通道滤光片的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：
S1、基片清洗后，先在基片背表面镀制3-5μm中红外增透膜；
S2、在基片前表面进行第一次光刻构图；
S3、沉积第一通道滤光片薄膜；
S4、通过剥离工艺将光刻胶及胶上薄膜去除，得到单通道滤光片；
S5、在基片前表面进行第二次对准光刻；
S6、沉积第二通道滤光片薄膜；
S7、进行第二次剥离工艺将光刻胶及胶上薄膜去除，得到中红外集成双通道滤光片。


2.根据权利要求1所述的中红外集成双通道滤光片的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：
S0：确定所述3-5μm增透膜、第一通道F-P滤光片、第二通道F-P滤光片所需的镀膜材料以及对应的膜系结构；
S1、3-5μm增透膜的镀制：基片清洗后，先在硅片背表面镀制3-5μm增透膜；
S2、第一次光刻：选择型号光刻胶，采用匀胶机在清洗好的基片上匀胶，获得一定厚度的光刻胶，前烘后使用Q-4000型光刻机进行曝光，然后依次经过后烘、显影、坚膜得到倒八字结构光刻胶；
S3、沉积第一通道F-P滤光片薄膜：使用镀膜机，配合APS辅助沉积和高精度的OMS5000光学透射直接监控方法，沉积出通道第一通道F-P滤光片薄膜；
S4、第一次剥离：使用RR9去胶液在超声条件下进行剥离，得到单通道滤光片；
S5、第二次光刻：第二次旋涂光刻胶，获得一定厚度的光刻胶，前烘后使用光刻机进行掩模对准与曝光，保证套刻精度在0.5μm范围内，然后依次经过后烘、显影、坚膜得到倒八字结构光刻胶；
S6、沉积第二通道F-P滤光片薄膜：使用镀膜机，配合APS辅助沉积和高精度的OMS5000光学透射直接监控方法，沉积出第二通道F-P滤光片薄膜；
S7、第二次剥离获得最终样品：使用RR9去胶液在超声条件下进行剥离，得到中红外集成双通道滤光片；
S8、对所制备的集成双通道滤光片的透射率及接缝精度进行检测。


3.根据权利要求2...

【专利技术属性】
技术研发人员：周顺，张立宇，张凯峰，刘卫国，郭峰，徐均琪，吴春芳，李坤，
申请(专利权)人：西安工业大学，
类型：发明
国别省市：陕西;61