一种微波透明热控薄膜及其制备方法技术

一种微波透明热控薄膜及其制备方法，它涉及一种热控薄膜及其制备方法。本发明专利技术的目的是要解决现有微波透明热控薄膜整体太阳吸收率能达到0.45左右，整体红外发射率仅在0.7左右和微波透过率低的问题。一种微波透明热控薄膜为介质膜沉积在基底材料表面；所述的介质膜的层数≥2层，材质为Ge膜、Si膜、MgF膜、SiO

【技术实现步骤摘要】
一种微波透明热控薄膜及其制备方法
本专利技术涉及一种热控薄膜及其制备方法。
技术介绍
传统微波透明热控薄膜通常采用聚酰亚胺镀锗膜。该薄膜通过锗的反射实现较低的太阳吸收率，通过聚酰亚胺本身的发射率实现较高的红外发射率，由于锗和聚酰亚胺本身的微波透明属性实现微波透明。然后这种微波透明热控薄膜的应用也存在一定局限性，由于锗在可见波段具有一定吸收，因此整体太阳吸收率只能达到0.45左右，同时锗在红外波段也是透明的，因此红外发射只能依靠基底聚酰亚胺来实现，整体红外发射率仅在0.7左右。
技术实现思路
本专利技术的目的是要解决现有微波透明热控薄膜整体太阳吸收率能达到0.45左右，整体红外发射率仅在0.7左右和微波透过率低的问题，而提供一种微波透明热控薄膜及其制备方法。一种微波透明热控薄膜为介质膜沉积在基底材料表面；所述的介质膜的层数≥2层，材质为Ge膜、Si膜、MgF膜、SiO2膜、Ta2O5膜、TiO2膜、Ti3O5膜、ZnO膜和ZnS膜中的两种膜或两种以上膜。一种微波透明热控薄膜的制备方法是按以下步骤完成的：本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种微波透明热控薄膜，其特征在于一种微波透明热控薄膜为介质膜沉积在基底材料表面；所述的介质膜的层数≥2层，材质为Ge膜、Si膜、MgF膜、SiO

【技术特征摘要】
1.一种微波透明热控薄膜，其特征在于一种微波透明热控薄膜为介质膜沉积在基底材料表面；所述的介质膜的层数≥2层，材质为Ge膜、Si膜、MgF膜、SiO2膜、Ta2O5膜、TiO2膜、Ti3O5膜、ZnO膜和ZnS膜中的两种膜或两种以上膜。


2.根据权利要求1所述的一种微波透明热控薄膜，其特征在于所述的基底材料为聚酰亚胺、玻璃或对苯二甲酸乙二醇酯。


3.如权利要求1所述的一种微波透明热控薄膜的制备方法，其特征在于一种微波透明热控薄膜的制备方法是按以下步骤完成的：
一、基底材料的表面处理：
依次以丙酮、甲醇和超纯水为溶剂对基底材料进行超声清洗，再烘干，得到表面处理后的基底材料；
二、使用离子束对室温或者加热的表面处理后的基底材料进行轰击，得到前处理的基底材料；
三、沉积介质膜：
采用真空镀膜法、磁控溅射法、真空热蒸镀法或电子束蒸镀法在前处理的基底材料表面上沉积介质膜，得到微波透明热控薄膜；
步骤三所述的介质膜的层数≥2层，材质为Ge膜、Si膜、MgF膜、SiO2膜、Ta2O5膜、TiO2膜、Ti3O5膜、ZnO膜和ZnS膜中的两种膜或两种以上膜。

【专利技术属性】
技术研发人员：张翔，李垚，孙文海，李文杰，赵九蓬，
申请(专利权)人：哈尔滨工业大学，
类型：发明
国别省市：黑龙江;23