【技术实现步骤摘要】
基于叠片结构的BaZr0.2Ti0.8O3多层薄膜及制备方法
本专利技术涉及多层薄膜及制备方法,具体涉及一种基于叠片结构的BaZr0.2Ti0.8O3多层薄膜及制备方法。
技术介绍
近年来,随着现代社会对电能需求的增加,人们对高性能的电能存储和转换装置提出了更高的要求。在各种可用的电能存储装置中,多层薄膜电容器因具有充放电速度快、储能密度高等独特优点而得到了广泛关注。多层薄膜电容器是一种内部电极交替分离的多层结构,众所周知,减小介电层的厚度可以提高多层薄膜电容器的电容和体积效率,同时可以降低多层薄膜电容器的驱动电压。此外,增加介电层的数量可以增加多层薄膜电容器的电容。因此,介电层的厚度和数量是决定多层薄膜电容器性能的主要因素。当前制备薄膜的方法主要有流延法、脉冲激光沉积和化学气相沉积等方法。流延法虽然具有生产速度快,成本低,产量高等优点,但是很难制备出具有足够铁电和介电性能的亚微米厚的多层薄膜。脉冲激光沉积和化学气相沉积等方法,虽然很容易制备出亚微米厚度的薄膜,但是存在制备工艺复杂、样品尺寸小、样品利用率低、不适合大规模生产等问题。
技术实现思路
专利技术目的:本专利技术的目的是提供一种基于叠片结构的BaZr0.2Ti0.8O3多层薄膜及制备方法,解决现有方法需要重复刻蚀,容易造成结构损伤,沉积效率低、样品尺寸小的问题。技术方案:本专利技术所述的基于叠片结构的BaZr0.2Ti0.8O3多层薄膜,包括若干层交替错位沉积在基片上电极薄膜层和BaZr0.2Ti0.8O3薄膜层, ...
【技术保护点】
1.一种基于叠片结构的BaZr
【技术特征摘要】
1.一种基于叠片结构的BaZr0.2Ti0.8O3多层薄膜,其特征在于,包括若干层交替错位沉积在基片上电极薄膜层和BaZr0.2Ti0.8O3薄膜层,电极层厚度50-300nm,BaZr0.2Ti0.8O3薄膜层厚度为100nm-2μm,所述电极层材料为铂、镍酸镧和钌酸锶中的任一种。
2.根据权利要求1所述的基于叠片结构的BaZr0.2Ti0.8O3多层薄膜,其特征在于,所述基片材料为硅、氧化镁和钛酸锶中的任一种。
3.根据权利要求1所述的基于叠片结构的BaZr0.2Ti0.8O3多层薄膜,其特征在于,所述电极层之间交替分离。
4.如权利要求1所述的基于叠片结构的BaZr0.2Ti0.8O3多层薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)将基片置于磁控溅射仪的基片夹上,在基片上沉积电极薄膜层,然后向左平移基片...
【专利技术属性】
技术研发人员:方小英,成宏卜,陈彧芳,张伟,张雪花,胡芳仁,
申请(专利权)人:南京邮电大学,
类型:发明
国别省市:江苏;32
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