内酰胺类化合物衍生物及其应用制造技术

本发明专利技术涉及内酰胺类化合物衍生物、包含该内酰胺类化合物衍生物的药物组合物以及该组合物和该内酰胺类化合物衍生物在制备用于预防或治疗精神分裂症中的用途，其中所述内酰胺类化合物衍生物具有式I的结构。

【技术实现步骤摘要】
内酰胺类化合物衍生物及其应用本申请是2016年11月21日提交的专利技术名称为“内酰胺类化合物衍生物及其应用”的中国专利申请201680067130.4号的分案申请。
本专利技术涉及医药领域，具体地，涉及内酰胺类化合物衍生物、包含该内酰胺类化合物衍生物的药物组合物以及该组合物和该内酰胺类化合物衍生物用于预防或治疗精神分裂症的用途。
技术介绍
精神分裂症是所有精神疾病中最严重、危害最大的一种疾病，全球发病率约为1-2％。精神分裂症患者终生患病率为0.7-0.8％，与性别，种族，或社会界限没有明显相关性，同时死亡率比一般人群高出2-3倍。最新研究显示，精神疾病的社会负担在中国疾病中排名居首，超过了心脑血管、呼吸系统及恶性肿瘤等疾患。现有精神分裂药物主要有两大类：典型抗精神分裂药物和非典型抗精神分裂药物。典型抗精神分裂药物(如氯丙嗪和氟哌啶醇)阻断多巴胺D2受体，对精神分裂症阳性症状具有良好疗效。但由于强烈阻断多巴胺受体，导致了锥体外系反应(EPS)、迟发性运动障碍以及泌乳素增加等不良反应，而且对精神分裂症阴性症状无效。以氯氮本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.式I所示的化合物或其药学上可接受的盐或前药：/n

【技术特征摘要】
20151120 CN 20151081199541.式I所示的化合物或其药学上可接受的盐或前药：



其中
X为C或N；
Z为未取代或被一个或多个选自烷基、氰基、羟基和卤素中取代基取代的-(CH2)n-，n为2～7的整数；
R1和R2分别独立地为氢、任选地被一个或多个选自烷基、氰基、羟基和卤素中的取代基取代的含有1～5个碳原子的直链或支链烷基；
R3为氢、卤素或任选地被一个或多个选自烷基、氰基、羟基和卤素中的取代基取代的含有1～5个碳原子的直链或支链烷基；
P为CH或N；
Ar为选自式II-VII中的基团；



L和M独立地为CH或N；
R4、R5和R6分别独立地为氢、卤素、任选地被一个或多个选自烷基、氰基、羟基和卤素中的取代基取代的含有1～5个碳原子的直链或支链烷基或者任选地被一个或多个选自烷基、氰基、羟基和卤素中的取代基取代的含有1～5个碳原子的烷氧基。


2.根据权利要求1所述的化合物或其药学上可接受的盐或前药，其特征在于，R1和R2分别独立地为氢、甲基、乙基、丙基、正丁基、异丁基、三氟甲基、三氟乙基或三氟丙基。


3.根据权利要求1所述的化合物或其药学上可接受的盐或前药，其特征在于，R3为氢、氟、氯、溴、碘、甲基、乙基、丙基、正丁基或异丁基。


4.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈寅，窦飞，邱印利，于民权，张桂森，
申请(专利权)人：江苏恩华药业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32