一种低温低压化学气相沉积反应腔制造技术

本实用新型专利技术公开了一种低温低压化学气相沉积反应腔，包括顶盖、固定底板和主体槽，所述主体槽的顶端设置有顶盖，所述主体槽的底端安装有固定底板，所述第一反应腔与第二反应腔内部的一侧设置有密封结构。本实用新型专利技术通过将工作槽先进行固定，然后将伸缩杆与支撑柱相互连接固定，紧接着把拉伸杆进行拉伸，让伸缩杆先做横向运动，紧接着让滑动块在滑轨的内部做竖向滑动，由于工作槽的内部设置有多个限位块，因此在调节伸缩杆的过程中，可以使得伸缩杆的末端从限位块的夹缝中脱离，以至于让伸缩杆的纵向距离发生改变，从而使得整体的竖向距离可以进行伸缩调节，提高了该装置整体的适用性，使其可以适用于大多数的工作环境。使其可以适用于大多数的工作环境。使其可以适用于大多数的工作环境。

【技术实现步骤摘要】
一种低温低压化学气相沉积反应腔


[0001]本技术涉及反应腔
，具体为一种低温低压化学气相沉积反应腔。

技术介绍

[0002]随着社会的不断发展，经济水平的不断提升，人们在各个领域也得到了充分的发展，以至于在工业发展的过程中，常常会运用到各种技术，因此为了更好的反应，常常会在低温低压下进行工作，因此人们研制出了专门的反应腔；
[0003]然而传统的此类装置在使用的过程中，也仍然存在着一些问题，例如其在使用的过程中，难以进行很好的伸缩调节，使得其整体的调节适用能力较差。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种低温低压化学气相沉积反应腔，以解决上述
技术介绍
中提出装置伸缩调节能力差的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种低温低压化学气相沉积反应腔，包括顶盖、固定底板和主体槽，所述主体槽的顶端设置有顶盖，且顶盖的内部设置有密封盖，所述主体槽的底端安装有固定底板，且固定底板的中间位置处固定有支撑柱，且支撑柱的内部设置有伸缩结构，所述伸缩结构包括工作槽、限位块、伸缩杆、滑轨、拉伸杆和滑本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种低温低压化学气相沉积反应腔，其特征在于：包括顶盖（1）、固定底板（6）和主体槽（10），所述主体槽（10）的顶端设置有顶盖（1），且顶盖（1）的内部设置有密封盖（2），所述主体槽（10）的底端安装有固定底板（6），且固定底板（6）的中间位置处固定有支撑柱（7），且支撑柱（7）的内部设置有伸缩结构（8），所述伸缩结构（8）包括工作槽（801）、限位块（802）、伸缩杆（803）、滑轨（804）、拉伸杆（805）和滑动块（806），所述工作槽（801）的底端与支撑柱（7）的顶端相互安装，所述工作槽（801）内部的一侧固定有限位块（802），所述工作槽（801）内部的中间位置处设置有伸缩杆（803），所述伸缩杆（803）的另一侧固定有拉伸杆（805），且拉伸杆（805）的内部设置有滑动块（806），所述工作槽（801）内部的另一侧安装有滑轨（804），所述主体槽（10）内部的一侧固定有第一反应腔（4），所述主体槽（10）内部的另一侧固定有第二反应腔（9），且第二反应腔（9）与第一反应腔（4）内部之间设置有加强结构（3），所述第一反应腔（4）与第二反应腔（9）内部的一侧设置有密封结构（5）。2.根据权利要求1所述的一种低温低压化学气相沉积反应腔，其特征在于：所述加强结构（3）包括加强槽（301）、弹性垫层（302）、支撑杆（303）、固定柱（304）、缓冲腔（305）、连接轴（306）和缓冲弹簧（307），所述加强槽（301）的外侧壁与主体槽（10）内部的中间位置处固定连接，所述加强槽（301）内部的两侧均设置有弹性垫层（302），所...

【专利技术属性】
技术研发人员：张建锐，曹峰峰，
申请(专利权)人：盛吉盛宁波半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：