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本实用新型公开了一种低温低压化学气相沉积反应腔,包括顶盖、固定底板和主体槽,所述主体槽的顶端设置有顶盖,所述主体槽的底端安装有固定底板,所述第一反应腔与第二反应腔内部的一侧设置有密封结构。本实用新型通过将工作槽先进行固定,然后将伸缩杆与支撑...该专利属于盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司授权不得商用。
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本实用新型公开了一种低温低压化学气相沉积反应腔,包括顶盖、固定底板和主体槽,所述主体槽的顶端设置有顶盖,所述主体槽的底端安装有固定底板,所述第一反应腔与第二反应腔内部的一侧设置有密封结构。本实用新型通过将工作槽先进行固定,然后将伸缩杆与支撑...