一种等离子体处理用聚焦环组件制造技术

本实用新型专利技术公开了一种等离子体处理用聚焦环组件，包括支架、等离子聚焦环体、中轴和进气口，所述支架的一侧设置有拆卸结构，所述拆卸结构的中间位置处安装有中轴，所述中轴的表面安装有等离子聚焦环体，所述支架的底端设置有升降结构，所述等离子聚焦环体的顶端安装有进气口，所述夹持结构的底端安装有出气口。本实用新型专利技术当转动转把，便带动了齿轮进行旋转，再利用齿轮的旋转，便可带动齿条杆进行高度调节，再利用齿条杆的运动，便可带动齿条架进行上下滑动，通过齿条架的运动将带动等离子聚焦环体进行高度调节，避免了等离子聚焦环体表面的进气口与不同高度的外部气管连接不便的现象，由此实现了此聚焦环组件的升降功能。由此实现了此聚焦环组件的升降功能。由此实现了此聚焦环组件的升降功能。

【技术实现步骤摘要】
一种等离子体处理用聚焦环组件


[0001]本技术涉及聚焦环组件
，具体为一种等离子体处理用聚焦环组件。

技术介绍

[0002]在当今社会中，等离子应用技术在人们的顶尖研究领域中有着一席之地，而等离子体处理用聚焦环组件的出现成为了等离子领域中必不可少的一部分，随着科技的发展，时代的快速进步，此等离子体处理用聚焦环组件也进行了一定的优化，但现有的等离子体处理用聚焦环组件还存在着很多的问提和缺陷：
[0003]传统的等离子体处理用聚焦环组件，使用时有着升降不便的问题，导致此聚焦环组件与通气接口可能出现对接高度不一的现象。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种等离子体处理用聚焦环组件，以解决上述
技术介绍
中提出聚焦环组件升降不便的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种等离子体处理用聚焦环组件，包括支架、等离子聚焦环体、中轴和进气口，所述支架的一侧设置有拆卸结构，所述拆卸结构的中间位置处安装有中轴，所述中轴的表面安装有等离子聚焦环体，所述支架的底端设置有升降结构，所述升降结构包括转把本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种等离子体处理用聚焦环组件，其特征在于：包括支架（1）、等离子聚焦环体（3）、中轴（4）和进气口（7），所述支架（1）的一侧设置有拆卸结构（2），所述拆卸结构（2）的中间位置处安装有中轴（4），所述中轴（4）的表面安装有等离子聚焦环体（3），所述支架（1）的底端设置有升降结构（5），所述升降结构（5）包括转把（501）、齿条架（502）、齿条杆（503）、齿轮（504）和转动轴（505），所述齿条架（502）在支架（1）的底端固定连接，所述齿条架（502）的内部固定有齿条杆（503），所述齿条架（502）的下方设置有转把（501），所述齿条杆（503）的表面安装有齿轮（504），所述齿轮（504）的中间位置处固定有转动轴（505），所述升降结构（5）的底端设置有夹持结构（6），所述等离子聚焦环体（3）的顶端安装有进气口（7），所述等离子聚焦环体（3）的底端安装有出气口（8）。2.根据权利要求1所述的一种等离子体处理用聚焦环组件，其特征在于：所述齿轮（504）与齿条杆（503）之间相互啮合，所述齿条架（502）的横截面呈伸缩设计。3.根据权利要求1所述的一种等离子体处理用聚焦环组件，其特征在于：所述转把（501）的一侧延伸至齿条架（502）的内部并与齿轮（504）相互连接，所述转动轴（505）的表面均固定有齿轮（504）。4....

【专利技术属性】
技术研发人员：曹峰峰，李得平，
申请(专利权)人：盛吉盛宁波半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：