一种清洗设备制造技术

技术编号:28484094 阅读:23 留言:0更新日期:2021-05-15 22:00
本实用新型专利技术公开一种清洗设备,涉及光伏发电技术领域,以解决相关技术所具有的吸水时间长、吸水工位容易饱和以及烘干后的载片花篮底部还是残留有水分的技术问题。所述清洗设备包括:清洗工艺装置、烘干装置以及吸水装置。清洗工艺装置用于清洗半导体电池基底。烘干装置用于对清洗后的半导体电池基底进行干燥。吸水装置用于对烘干后的半导体电池基底进行吸水。吸水装置包括吸水台、吸水带、导入机构以及用于对吸水带进行干燥的吸水带干燥装置。导入机构用于控制吸水带通过吸水台的台面。本实用新型专利技术提供的清洗设备用于清洗半导体电池基底。提供的清洗设备用于清洗半导体电池基底。提供的清洗设备用于清洗半导体电池基底。

【技术实现步骤摘要】
一种清洗设备


[0001]本技术涉及光伏发电
,尤其涉及一种清洗设备。

技术介绍

[0002]目前,硅片在制备成为太阳电池的过程中,要经过一个或者多个清洗设备。在清洗时,通常会使用载片花篮作为硅片的流转和承载装置。在清洗设备中,硅片清洗完成后需要烘干,但是载片花篮底部的支撑部位在烘干时,不易烘干完全。残留在载片花篮支撑部位的水分容易吸收和凝集灰尘等污物,从而影响产品器件的性能以及导致设备材料的腐蚀或者老化。为使载片花篮底部的水分烘干完全,通常的解决方法是加长硅片的烘干时间,但是,这样会增加烘干的工艺时间以及加热功率。
[0003]相关技术中为使载片花篮底部的水分快速烘干,在载片花篮烘干前,先将载片花篮移动到吸水工位,使用吸水工位快速将载片花篮底部的水分吸收。
[0004]但是,相关技术中采用吸水工位在烘干前吸收载片花篮底部的水分,具有吸水时间长、吸水工位容易饱和以及烘干后的载片花篮底部还是残留有水分的问题。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于提供一种清洗设备,以解决相关技术所具有的吸水时间长、吸水工位容易饱和以及烘干后的载片花篮底部还是残留有水分的技术问题。
[0006]本技术提供一种清洗设备,用于清洗半导体电池基底。清洗设备包括:清洗工艺装置、烘干装置以及吸水装置。清洗工艺装置用于清洗半导体电池基底。烘干装置用于对清洗后的半导体电池基底进行干燥。吸水装置用于对烘干后的半导体电池基底进行吸水。吸水装置包括吸水台、吸水带、导入机构以及用于对吸水带进行干燥的吸水带干燥装置。导入机构用于控制吸水带通过吸水台的台面。
[0007]采用上述技术方案的情况下,吸水装置包括吸水台、吸水带以及用于控制吸水带通过吸水台的台面的导入机构,使得载片花篮放置在吸水台的台面上时,载片花篮可以与吸水带通过吸水台台面的部位接触,从而利用吸水带吸收经过烘干装置烘干后的载片花篮的底部的水分。而且,导入机构可控制吸水带通过台面,改变吸水带位于台面的部分,使得吸水带未吸水的部分移动至台面上,从而保证吸水效果。另外,本技术提供的清洗设备中,吸水装置还包括用于对吸水带进行干燥的吸水带干燥装置,吸水带干燥装置对吸水后的吸水带的部分进行干燥,使得吸水带可以重新恢复吸水能力,因此,吸水带可以重复利用,降低生产成本,而且避免可以吸水后的吸水带吸附污物,避免因污物影响器件的性能。不仅如此,吸水装置用于对烘干后的半导体电池基底进行吸水,因此,本技术提供的清洗设备是在半导体电池基底烘干后才进行吸水的。由于烘干后的半导体电池基底已经完全烘干,因此,吸水装置只需吸收承载半导体电池基底的载片花篮的支撑部位所残留的水分即可。基于此,本技术提供的清洗设备不仅在吸水装置吸水过程中,完全烘干后的半导体基底不容易吸附空气中的微尘,而且,吸水装置需要吸收的水分少,使得吸水装置吸收水
分的时间短以及吸水装置不容易饱和,从而提高吸水效率,减少因吸水装置饱和需要清理吸水装置的频率,并且,吸水装置将载片花篮的支撑部位所残留的水分吸收后,即可使半导体电池基底和载片花篮完全烘干,烘干效果好。
[0008]在一种可能的实现方式中,上述导入机构包括:同向转动的第一转动件和第二转动件。吸水台位于第一转动件和第二转动件之间。第一转动件用于向吸水台的台面提供吸水带。第二转动件用于将吸水带位于吸水台的台面的部位导出吸水台。
[0009]在一种可能的实现方式中,上述第一转动件为放卷辊。第二转动件为收卷辊。
[0010]采用上述技术方案的情况下,吸水台位于放卷辊和收卷辊之间,吸水带的一端缠绕在放卷辊上,吸水带的另一端缠绕在收卷辊上,收卷辊收卷的同时,放卷辊放卷,即可使吸水带通过台面。当吸水带干燥装置将吸水后的吸水带干燥后,可将收卷辊和放卷辊翻转,使得干燥后的吸水带重新进行吸水,从而可以循环利用吸水带,降低生产成本。
[0011]在一种可能的实现方式中,上述吸水带为环状吸水带。第一转动件、第二转动件和吸水台的台面均位于环状吸水带所围成的环内区域。第一转动件和第二转动件同步驱动吸水带移动。
[0012]采用上述技术方案的情况下,吸水带为环状吸水带,第一转动件和第二转动件同步驱动吸水带移动,使得吸水带循环转动,即可使吸水带通过台面。当吸水带干燥装置将吸水后的吸水带干燥后,可以将干燥后的吸水带重新循环转动至台面进行吸水,从而可以循环利用吸水带,降低生产成本。
[0013]在一种可能的实现方式中,上述清洗设备还包括:控制器以及用于采集第一转动件图像的图像采集器。图像采集器与控制器通信连接。控制器与导入机构通信连接。
[0014]采用上述技术方案的情况下,当第一转动件为放卷辊。第二转动件为收卷辊时,控制器可以通过图像采集器检测第一转动件上的吸水带,当第一转动件上的吸水带放完时,可通过控制器控制第一转动件和第二转动件反转,从而使得吸水带在放卷辊和收卷辊上之间循环转动。
[0015]在一种可能的实现方式中,上述吸水带干燥装置包括至少一个干燥机构。
[0016]在一种可能的实现方式中,上述吸水带干燥装置包括多个干燥机构。多个干燥机构沿吸水带的带延伸方向分布。
[0017]在一种可能的实现方式中,上述至少一个干燥机构具有加热空间。吸水带贯穿加热空间。干燥机构可以在线干燥吸水带,使得吸水带边吸水,边被干燥,提高工作效率。
[0018]在一种可能的实现方式中,上述至少一个干燥机构为挤压干燥组件,挤压干燥组件具有挤压空间,吸水带贯穿挤压空间。挤压干燥组件可以在线挤压吸水带,使得吸水带边吸水,边被挤压,提高工作效率。
[0019]在一种可能的实现方式中,上述清洗设备还包括:控制器以及用于检测吸水带含水率的水分测量仪。水分测量仪与控制器通信连接,控制器与吸水带干燥装置通信连接。
[0020]采用上述技术方案的情况下,水分测量仪可以对吸水带的含水率进行检测,当吸水带的含水率到达指定的数值时,控制器控制吸水带干燥装置对吸水带进行干燥,可以更加精准地保证吸水带的吸水效果,更重要的是,避免吸水带干燥装置对吸水带过分干燥,影响吸水带的使用寿命,甚至造成吸水带燃烧。
[0021]在一种可能的实现方式中,上述清洗设备还包括水汽处理装置。水汽处理装置用
于处理吸水带干燥装置干燥吸水带所产生的水汽。水汽处理装置包括排气装置或冷凝板。
[0022]采用上述技术方案的情况下,当吸水带干燥装置干燥吸水带时,吸水带所述吸收的水分可以变成水汽。此时,利用水汽处理装置处理水汽,避免水汽重新附着在半导体电池基底上,影响半导体电池基底的烘干效果。
[0023]在一种可能的实现方式中,上述导入机构包括至少一个用于张紧吸水带的张紧组件。
[0024]采用上述技术方案的情况下,张紧组件可使吸水带保持张力,避免吸水带打滑,并且使得吸水带更加平整。
[0025]在一种可能的实现方式中,上述导入机构包括至少一个用于限制吸水带偏移的纠偏组件。
[0026]采用上述技术方案本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种清洗设备,其特征在于,用于清洗半导体电池基底,所述清洗设备包括:用于清洗所述半导体电池基底的清洗工艺装置;用于对清洗后的半导体电池基底进行干燥的烘干装置;用于对烘干后的半导体电池基底进行吸水的吸水装置;所述吸水装置包括吸水台、吸水带、导入机构以及用于对所述吸水带进行干燥的吸水带干燥装置,所述导入机构用于控制所述吸水带通过所述吸水台的台面。2.根据权利要求1所述的清洗设备,其特征在于,所述导入机构包括:同向转动的第一转动件和第二转动件,所述吸水台位于所述第一转动件和所述第二转动件之间;所述第一转动件用于向所述吸水台的台面提供吸水带;所述第二转动件,用于将所述吸水带位于所述吸水台的台面的部位导出所述吸水台。3.根据权利要求2所述的清洗设备,其特征在于,所述第一转动件为放卷辊;所述第二转动件为收卷辊;或,所述吸水带为环状吸水带,所述第一转动件、所述第二转动件和所述吸水台的台面均位于所述环状吸水带所围成的环内区域,所述第一转动件和所述第二转动件同步驱动所述吸水带移动。4.根据权利要求2所述的清洗设备,其特征在于,所述清洗设备还包括:控制器以及用于采集所述第一转动件图像的图像采集器,所述图像采集器与所述控制器通信连接,所述控制器与所述导入机构通信连接。5.根据权利要求1所述的清洗设备,其特征在于,所述吸水带干燥装置包括至少一个干燥机构;和/或,所述吸水带干燥装置包括多个干燥机构,多个所述干燥机构沿所述吸水带的带延伸方向分布。6.根据权利要求5所述的清洗设备,其特征在于,至少一个所...

【专利技术属性】
技术研发人员:王龙飞郭梦龙李华靳玉鹏
申请(专利权)人:泰州隆基乐叶光伏科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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