基于光弹性的缺陷检测方法、装置、设备及存储介质制造方法及图纸

技术编号:28472883 阅读:24 留言:0更新日期:2021-05-15 21:40
本发明专利技术公开了一种基于光弹性的缺陷检测方法、装置、设备和存储介质,所述方法包括:采用初始偏振光入射待检测材料,并检测初始偏振光经过待检测材料双折射产生的椭圆偏振光的偏振信息,基于偏振信息确定光弹性应力值,并根据光弹性应力值生成应力分布图像,通过深度学习网络,对应力分布图像进行特征提取识别,得到缺陷特征信息,采用本发明专利技术可以提高缺陷检测的灵敏度和准确率。测的灵敏度和准确率。测的灵敏度和准确率。

【技术实现步骤摘要】
基于光弹性的缺陷检测方法、装置、设备及存储介质


[0001]本专利技术涉及元件检测领域,尤其涉及一种基于光弹性的缺陷检测方法、装置、设备及存储介质。

技术介绍

[0002]在工业制造领域,通常需要对工艺材料的品质进行检测,以保证产品生产良率。尤其在高端制造领域,例如半导体、玻璃、光学镜等,在其制造工艺中,存在于材料表面、内部的微纳米级缺陷,会影响工艺质量和产品性能,甚至带来潜在的失效隐患。因此,对工艺材料进行缺陷检测至关重要,特别是微小缺陷。
[0003]在缺陷的检测中,存在破坏方法与非破坏方法,前者是将待检测材料通过化学溶解、物理切削等方式,使缺陷显现于表面后,利用显微镜、电子显微镜等进行观察。但是,利用该方法检查后的待检测材料无法再次作为生产原料。该方法更适用于抽样检测,对于工业批量生产而言,必须采用非破坏的形式进行缺陷在线检测。
[0004]在实现本专利技术的过程中,专利技术人意识到现有技术中,采用非破坏的形式进行缺陷检测的方式,至少存在如下问题:
[0005]基于超声波的缺陷检测是对待测材料施加超声波,利用检测器本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于光弹性的缺陷检测方法,其特征在于,包括:采用初始偏振光入射待检测材料,并检测所述初始偏振光经过所述待检测材料双折射产生的椭圆偏振光的偏振信息;基于所述偏振信息确定光弹性应力值,并根据所述光弹性应力值生成应力分布图像;通过深度学习网络,对所述应力分布图像进行特征提取识别,得到缺陷特征信息。2.如权利要求1所述的基于光弹性的缺陷检测方法,其特征在于,所述检测所述偏振光经过所述待检测材料双折射产生的椭圆偏振光的偏振信息包括:将所述椭圆偏振光通过相位共轭镜、半波片和分束镜进行作用,得到至少三束处理光束,并采集每个所述处理光束对应的光强,其中,一束所述处理光束生成过程中包含相位共轭镜作用,另一束所述处理光束生成过程中包含相位共轭镜和半波片的共同作用;基于每个所述处理光束对应的光强,确定所述椭圆偏振光的偏振信息。3.如权利要求2所述的基于光弹性的缺陷检测方法,其特征在于,所述将所述椭圆偏振光通过相位共轭镜、半波片和分束镜进行作用,得到至少三束处理光束,并采集每个所述处理光束对应的光强包括:采集所述椭圆偏振光L的光强I1;将所述椭圆偏振光L经过分束镜得到的光束,作为分束光束LH;将所述分束光束LH经过相位共轭镜得到的光束,作为第一光束L1;将所述分束光束LH依次经过相位共轭镜和半波片得到的光束,作为第二光束L2;采用所述第一光束L1与分束光束LH进行光束叠加,得到第三光束L3,并采集所述第三光束L3的光强I2;采用第二光束L2与所述分束光束LH进行光束叠加,得到第四光束L4,并采集所述第四光束L4的光强I3。4.如权利要求1或2任一项所述的基于光弹性的缺陷检测方法,其特征在于,所述基于所述偏振信息确定光弹性应力值包括:基于所述偏振信息,计算所述待检测材料的穆勒矩阵;提取所述穆勒矩阵中应力双折射产生的相位延迟量;根据所述相位延迟量,确定待测光弹性材料的光弹性应力值。5.如权利要求4所述的基于光弹性的缺陷检测方法,其特征在于,基于所述偏振信息,计算所述待检测材料的穆勒矩阵包括:将初始偏振光的偏振态采用斯托克斯矢量...

【专利技术属性】
技术研发人员:何良雨刘彤崔健
申请(专利权)人:锋睿领创珠海科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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