用于处理烹饪物的方法和家用烹饪装置制造方法及图纸

方法（S1‑S5）用于在家用烹饪装置（1）中处理烹饪物（G），家用烹饪装置具有烹饪室（2）、至少一个烹饪物处理单元（6‑9）和至少一个用于确定烹饪物的至少一个表面特性的传感器（11），其中借助至少一个传感器（11）测量（S1）烹饪物的至少一个表面特性（BG）的局部分布（LBG1、LBG2），从至少一个表面特性的测量的分布和在烹饪物的区域中的多个之前已知的局部的功率分布（LV1、LV2）计算出相应的偏差度，其中之前已知的功率分布相应于（S3）至少一个烹饪物处理单元的不同组的调节值，并且至少一个烹饪物处理单元利用这样功率分布（LV2）的该组调节值满足（S4、S5）至少一个预设标准。家用烹饪装置设置用于实施该方法。本发明专利技术尤其可以用于烤炉，特别是用于处理具有均匀的褐变程度和/或在其表面上的均匀的温度分布的烹饪物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于处理烹饪物的方法和家用烹饪装置
本专利技术涉及一种用于在家用烹饪装置中处理烹饪物的方法，烹饪装置具有烹饪室、至少一个烹饪物处理单元和至少一个用于确定烹饪物的至少一个表面特性的传感器，其中借助至少一个传感器测量烹饪物的至少一个表面特性的局部分布。本专利技术还涉及一种家用烹饪装置，其具有烹饪室、至少一个烹饪物处理单元和至少一个用于确定烹饪物的至少一个表面特性的传感器、至少一个评估装置和用于控制至少一个烹饪物处理单元的控制装置，其中家用烹饪装置设置用于实施该方法。本专利技术尤其有利地可用于形式为具有或没有附加功能的烤炉的家用烹饪装置，特别是用于处理具有均匀的褐变程度和/或在其表面上的均匀的温度分布的烹饪物。
技术介绍
DE102014113664A1公开了一种烹饪装置，其具有烹饪室和辐射源，在烹饪室中可以对烹饪物进行烹饪；辐射源可以输出可以用于对烹饪物进行烹饪的辐射。此外设置了至少一个传感器，其其可以检测烹饪物的参数、尤其是烹饪物的光泽、亮度、位置、规格、褐变和/或褐变程度。此外设置有控制器，其至少根据检测的参数控制辐射源的功率，从而烹饪物通过将热量适当地输入到烹饪物中和/或烹饪物布置其上的附件中而局部得到期望的状态。此外，描述了一种用于对烹饪物进行烹饪的方法。EP0563698A2公开了一种烹饪系统，其具有带有调节元件的烹饪区域，调节元件是可调节的，以便改变相关的确定食物的烹饪过程的参数。照相机监控烹饪区域，并且利用关于在烹饪区域中的运行条件的信息来控制处理器。处理器配属于存储设备，存储设备存储典型的烹饪程序，烹饪程序分别由不同的过程参数组合构成。处理器响应于到来的数据，以便在存储的烹饪程序中选出最适当的烹饪程序，其中处理器将其参数与照相机的相应的信息比较，以便控制具有相应的故障信号的调节元件。基于烹饪物的实际的条件全自动地调节烹饪过程。DE102014114901A1公开了一种烹饪装置，其具有烹饪室、传感器和控制器，烹饪物可以在烹饪室中被烹饪；传感器可以检测烹饪物和/或烹饪物的周围环境的可变的参数；控制器可以评估由传感器检测的信号。此外描述了一种用于检测烹饪过程的过程参数的方法。DE102017101183A1公开了一种用于运行烹饪装置的方法和一种烹饪装置，其中利用加热装置加热烹饪室中的烹饪物。利用照相机装置检测烹饪物。借助对烹饪物的检测获知至少一个烹饪物特征参量。在此，加热装置包括一具有多个可单独控制的加热器件的加热源。利用分别至少一个加热器件适当地加热烹饪室中的多个空间部段的一个空间部段。根据烹饪物特征参量执行对各个加热器件的控制。
技术实现思路
本专利技术的任务在于，至少部分克服现有技术的缺点，并且尤其提供设计上特别简单的、产生使在烹饪室中存在的烹饪物具有其表面特性的期望的分布的可能性，尤其具有均匀的表面特性。该任务根据独立权利要求的特征解决。有利的实施方式是从属权利要求、说明书和附图的主题。该任务通过用于处理家用烹饪装置中的烹饪物的方法解决，家用烹饪装置具有烹饪室、至少一个烹饪物处理单元和至少一个用于确定烹饪物的至少一个表面特性的传感器，其中：a）借助至少一个传感器测量烹饪物的至少一个表面特性的局部分布，b）从至少一个表面特性的测量的分布和在烹饪物的区域中的多个之前已知的局部的功率分布计算出相应的偏差度，其中之前已知的功率分布相应于至少一个烹饪物处理单元的不同组的调节值，并且c）至少一个烹饪物处理单元利用其偏差度满足至少一个预设标准的功率分布的该组调节值运行。由此实现以下优点，即可以特别精密地并且以仅很小的额外费用或甚至实际上没有设计上的额外费用地调节设置烹饪物的至少一个表面特性。特殊地可以这样处理烹饪物，使得得到表面特性的高度均匀的分布。根据其偏差度满足至少一个预设标准的功率分布的该组调节值运行至少一个烹饪物处理单元在构思上基于在新的组的调节值的情况下对表面特性的可能发展的预测。至少一个表面特性的测量的分布可以随后也被称为“测量分布”。步骤b）也可以理解为，测量分布与在烹饪物的区域中的多个之前已知的局部功率分布比较，并且相应的偏差度被称为比较结果。因此，从测量分布的值与相应的之前已知的局部的功率分布的关联产生偏差度。一个设计方案是，至少一个表面特性包括褐变程度或烹饪物的其他的颜色变化、烹饪物的表面温度和/或表面湿度。将其他的颜色变化用作表面特性例如对于通常没有经历或不应该经历褐变的烹饪物、例如蔬菜、豆子或西蓝花来说可能是有意义的。一个改进方案是，家用烹饪装置是烤炉。在改进方案中，烤炉可以具有附加的微波功能和/或蒸汽处理功能。备选地，家用烹饪装置可以是微波装置，其在改进方案中具有至少一个IR辐射加热体和/或蒸汽处理功能。烹饪物处理单元尤其是家用烹饪装置的设置用于通过物理作用处理烹饪物的单元或部件。尤其可以借助家用烹饪装置的控制装置来控制烹饪物处理单元。每个烹饪物处理单元具有至少一个调节参数，其分别带有至少两个调节值。如果仅两个调节值是可调节的，那么在此例如涉及调节：切断（例如通过值“0”表示）和接通（例如通过值“1”表示）。一个改进方案是，至少一个烹饪物处理单元是能量引入单元，即其设置用于将能量、例如热辐射或微波引入烹饪室中，用以对烹饪物进行处理。在此，烹饪室中的相关的能量分布或功率分布通常在空间或局部上是不均匀的。随后，功率分布的表述可以与能量分布的表述同义地使用。一个改进方案是，至少一个烹饪物处理单元是材料引入单元，其设置用于将材料、即热空气、冷却空气和/或水（例如形式为水蒸气或喷雾）指向性地引入烹饪室中，用以对烹饪物进行局部处理。在此，在烹饪室中的相关的能量分布或功率分布通常也在空间或局部上是不均匀的。之前已知的局部的功率分布例如可以通过实验测量和/或模拟计算、例如制造商的模拟计算提前提供。功率分布尤其不仅在方法的流程中产生或计算出，而且提前存储在（例如家用装置、网络计算机或所谓的“云”的）数据存储器中。烹饪室中的由不同的烹饪物处理单元产生的功率分布通常是不同的。附加地或备选地，功率分布也可以对于特定的激活的烹饪物处理单元来说根据在其运行中选出的调节值是不同的。为了实施该方法，尤其存在至少一个烹饪物处理单元的至少两组调节值，借助调节值可以产生或调节在烹饪室中不同的功率分布。一组调节值尤其可以理解为从至少一个烹饪物处理单元的调节参数的值中的特定的选择。该组调节值也可以被称为值配置或“Maske”。偏差度可以是单个值或值集合。偏差度也可以被称为类似度。偏差度尤其使得偏差度的更大的值相应于分布的更大的偏差或更大的差异。值“零”的偏差度尤其可以相应于相同的分布，其中这尤其仅涉及分布的形状（例如以最大值的百分比表述），不涉及分布的绝对值。一个改进方案是，偏差度从（例如褐变程度的）标准化的或无量纲（例如百分比）的测量分布和能量分布计算出。这也允许若干分布的特别简单的比较，这些分布具有不同的物理参量（表面特性、能量或功率）和/或不同的最大强度。至少一个预设标准可本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.用于在家用烹饪装置（1）中处理烹饪物（G）的方法（S1-S5），所述家用烹饪装置具有烹饪室（2）、至少一个烹饪物处理单元（6-9）和至少一个用于确定烹饪物（G）的至少一个表面特性（BG）的传感器（11），其中/na）借助至少一个传感器（11）测量（S1）所述烹饪物（G）的至少一个表面特性（BG）的局部分布（LBG1、LBG2），/nb）从至少一个表面特性（BG）的测量的分布（LBG1、LBG2）和在烹饪物（G）的区域中的多个之前已知的局部的功率分布（LV1、LV2）计算出相应的偏差度，其中之前已知的功率分布（LV1、LV2）相应于（S3）至少一个烹饪物处理单元（6-9）的不同组的调节值，并且/nc）至少一个烹饪物处理单元（6-9）利用其偏差度满足（S4、S5）至少一个预设标准的功率分布（LV2）的该组调节值运行。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20181009 DE 102018217207.2;20181018 DE 102018217811.用于在家用烹饪装置（1）中处理烹饪物（G）的方法（S1-S5），所述家用烹饪装置具有烹饪室（2）、至少一个烹饪物处理单元（6-9）和至少一个用于确定烹饪物（G）的至少一个表面特性（BG）的传感器（11），其中
a）借助至少一个传感器（11）测量（S1）所述烹饪物（G）的至少一个表面特性（BG）的局部分布（LBG1、LBG2），
b）从至少一个表面特性（BG）的测量的分布（LBG1、LBG2）和在烹饪物（G）的区域中的多个之前已知的局部的功率分布（LV1、LV2）计算出相应的偏差度，其中之前已知的功率分布（LV1、LV2）相应于（S3）至少一个烹饪物处理单元（6-9）的不同组的调节值，并且
c）至少一个烹饪物处理单元（6-9）利用其偏差度满足（S4、S5）至少一个预设标准的功率分布（LV2）的该组调节值运行。


2.根据权利要求1所述的方法（S1-S5），其中至少一个预设标准相应于分布（LBG1、LBG2、LV1、LV2）之间的最大的偏差。


3.根据前述权利要求中任一项所述的方法（S1-S5），其中所述偏差度是分布之间的比较总和或者差值。


4.根据前述权利要求中任一项所述的方法（S1-S5），其中至少一个烹饪物处理单元（6-9）包括至少一个来自该组的烹饪物处理单元，其具有：
-至少一个电辐射加热体（6-8），
-至少一个感应线圈，
-至少一个微波装置（9），
-至少一个射束指向的冷却空气风扇，
-至少一个射束指向的热空气装置，
-至少一个射束指向的水供应装置。


5.根据权利要求4所述的方法（S1-S5），其中至少一个电辐射加热体（6-8）包括至少两个辐射加热体（6-8），尤其来自底部热量加热体（6）、顶部热量加热体（7）和烧烤加热体（8）的组的至少两个辐射加热体，并且该组调节值包括用于其中至少两个辐射加热体（6-8）的调节值。


6.根据权利要求5所述的方法（S1-S5），其中仅针对至少两个辐射加热体（6-8）的一组调节值来确定之前已知的功率分布（LV1、LV2）。


7.根据前述权利要求中任一项所述的方法（S1-S5），其中所述步骤a）至c）周期性地运行。
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【专利技术属性】
技术研发人员：HM·艾特，S·许尔夫，
申请(专利权)人：BSH家用电器有限公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE