基板支撑架、基板处理装置及基板处理系统制造方法及图纸

本发明专利技术涉及基板处理装置的基板支撑架、基板处理装置及基板处理系统。本发明专利技术公开了一种基板处理装置的基板支撑架，包括：一个以上的静电吸盘，安装基板通过静电力吸附基板；密封部，结合于静电吸盘，以在安装基板的状态下防止向上侧暴露静电吸盘；其中，密封部包括：一个以上的外廓密封部件，沿着由一个以上的静电吸盘形成的整体为直角四边形的边缘可拆卸地设置在静电吸盘，以构成直角四边形；一个以上的中心密封部件，在对应于2张直角四边形基板之间的位置结合静电吸盘，以区划分别支撑2张直角四边形基板的一对支撑区域；一个以上的连接密封部件，连接中心密封部件及外廓密封部件。

【技术实现步骤摘要】
基板支撑架、基板处理装置及基板处理系统
本专利技术涉及基板处理装置，更详细地说，涉及对基板执行蚀刻、沉积等的基板处理的基板处理装置的基板支撑架、具有此的基板处理装置及基板处理系统。
技术介绍
通常，基板处理装置包括工艺腔室和基板支撑架，所述工艺腔室形成处理空间以用于处理基板，所述基板支撑架设置在工艺腔室内来支撑基板。然后，根据基板处理的种类、方式，基板处理装置设置喷头等的气体供应部、用于控制压力及排气的排气系统等。另一方面，在处理基板时，若在真空压下执行基板处理，则设置静电吸盘，以通过静电力吸附并固定基板。通常，具有如上所述的结构的基板处理装置有第六代、第七代、第八代等，以处理基板为基准根据基板的尺寸而加大尺寸，并且根据增大的基板规格将尺寸、方案等最优化。然而，如上所述按照各个尺寸最优化的基板处理装置无法适用于其他规格(即，尺寸)的基板处理，因此为了处理不同尺寸的基板，应按照尺寸重新设置基板处理装置，所以存在增加投资成本的问题。
技术实现思路
(要解决的问题)本专利技术的目的在于提供一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板处理装置的基板支撑架，作为包括工艺腔室(100)及基板支撑架(130)的基板处理装置(50)的基板支撑架(130)，所述工艺腔室(100)形成处理空间(S)，所述处理空间(S)用于对从外部导入的2张直角四边形基板(1)执行基板处理，所述基板支撑架(130)设置在所述工艺腔室(100)以支撑2张直角四边形基板(1)，其特征在于，包括：/n一个以上的静电吸盘(200)，安装所述基板(1)，并且通过静电力吸附所述基板(1)；/n密封部，结合于所述静电吸盘(200)，以在安装所述基板(1)的状态下防止向上侧暴露所述静电吸盘(200)；/n其中，所述密封部包括：/n一个以上的外廓密封部件(2...

【技术特征摘要】
20191107 KR 10-2019-01417061.一种基板处理装置的基板支撑架，作为包括工艺腔室(100)及基板支撑架(130)的基板处理装置(50)的基板支撑架(130)，所述工艺腔室(100)形成处理空间(S)，所述处理空间(S)用于对从外部导入的2张直角四边形基板(1)执行基板处理，所述基板支撑架(130)设置在所述工艺腔室(100)以支撑2张直角四边形基板(1)，其特征在于，包括：
一个以上的静电吸盘(200)，安装所述基板(1)，并且通过静电力吸附所述基板(1)；
密封部，结合于所述静电吸盘(200)，以在安装所述基板(1)的状态下防止向上侧暴露所述静电吸盘(200)；
其中，所述密封部包括：
一个以上的外廓密封部件(250)，沿着由所述一个以上的静电吸盘(200)形成的整体为直角四边形形状的边缘可拆卸地设置在所述静电吸盘(200)，以构成直角四边形；
一个以上的中心密封部件(270)，在对应于所述2张直角四边形基板(1)之间的位置结合所述静电吸盘(200)，以区划分别支撑所述2张直角四边形基板(1)的一对支撑区域(A1、A2)；
一个以上的连接密封部件(300)，连接所述中心密封部件(270)及所述外廓密封部件(250)。


2.根据权利要求1所述的基板处理装置的基板支撑架，其特征在于，
所述连接密封部件(300)包括：
第一重叠部(310)，在一端与所述中心密封部件(270)的末端部分以上下方向重叠；
第二重叠部(320)，在另一端与所述外廓密封部件(250)以上下方向重叠。


3.根据权利要求2所述的基板处理装置的基板支撑架，其特征在于，
所述第一重叠部(310)包括一个以上的第一重叠部分(311)，所述第一重叠部分(311)向末端方向延伸形成，以在与所述中心密封部件(270)的结合部分以上下方向重叠；
其中，所述中心密封部件(270)的末端部分形成第一对应重叠部分(271)，所述第一对应重叠部分(271)与所述第一重叠部(310)的第一重叠部分(311)以上下方向重叠。


4.根据权利要求3所述的基板处理装置的基板支撑架，其特征在于，
用于对准所述第一重叠部(310)及所述中心密封部件(270)相互结合的结合部分的对准销(390)插入于对准孔(340)，在从上侧观察所述结合部分时,包括所述第一重叠部(310)及所述中心密封部件(270)相接的边界线，以上下方向形成所述对准孔(340)。


5.根据权利要求2至4中的任意一项所述的基板处理装置的基板支撑架，其特征在于，
所述第二重叠部(320)包括一个以上的第二重叠部分(321)，所述第二重叠部分(321)向末端方向延伸形成，以在与所述外廓密封部件(250)的结合部分以上下方向重叠；
所述外廓密封部件(250)形成第二对应重叠部分(253)，所述第二对应重叠部分(253)在与所述第二重叠部(320)结合的结合部分与所述第二重叠部(320)的第二重叠部分(321)以上下方向重叠。


6.根据权利要求5所述的基板处理装置的基板支撑架，其特征在于，
所述第二重叠部(320)包括插入部分(330)，所述插入部分(330)在所述外廓密封部件(250)的侧面(259)向内侧插入。


7.根据权利要求6所述的基板处理装置的基板支撑架，其特征在于，
所述第一重叠部(310)的宽度与所述中心密封部件(270)的宽度相同，
所述插入部分(330)包括延伸部分(350)，所述延伸部分(350)形成比所述第一重叠部(310)的宽度更大的宽度，并以宽度方向中的一个方向延伸，以在与所述外廓密封部件(250)结合的状态下与所述外廓密封部件(250)的侧面(259)构成连续的侧面。


8.根据权利要求7所述的基板处理装置的基板支撑架，其特征在于，
所述延伸部分(350)向末端方向延伸的同时形成一个以上的延伸重叠部分(351)，以在与所述外廓密封部件(250)的结合部分以上下方向重叠；
所述外廓密封部件(250)形成对应延伸重叠部分(254)，所述对应延伸重叠部分(254)在与所述延伸部分(350)结合的结合部分与所述延伸部分(350)的延伸重叠部分(351)以上下方向重叠。


9.根据权利要求1至4中的任意一项所述的基板处理装置的基板支撑架，其特征在于，
所述静电吸盘(200)包括：
物理性分离的一个基材(210)；
第一绝缘层(220)，形成在基材(210)上；
导电体层(230)，对应于一对支撑区域(A1、A2)形成在所述第一绝缘层(220)上，并且与DC电源连接通过施加电源产生静电力；
第二绝缘层(240)，在形成所述导电体层(230)之后形成。


10.根据权利要求1至4中的任意一项所述的基板处理装置的基板支撑架，其特征在于，
所述静电吸盘(200)设置成一对，分别与一对所述支撑区域(A1、A2)对应。


11.一种基板处理装置(50)，其特征在于，包括
工艺腔室(100)，形成处理空间(S)，所述处理空间(S)用于对从外部导入的2张直角四边形基板(1)执行基板处理；
基板支撑架，作为...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘成真，
申请(专利权)人：圆益IPS股份有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR