MPO光模块的电磁屏蔽结构以及MPO光模块制造技术

本实用新型专利技术涉及一种MPO光模块的电磁屏蔽结构，包括相对设置的两个压块，两个压块相对的面均为用于压住多通道光纤的夹持面，两个所述夹持面均为可互相紧贴的平面；所述压块还具有用于与MPO光模块的底座和上盖配合安装以限位的限位结构。还提供一种MPO光模块，包括底座、可盖设于底座上的上盖、沿光口至电口方向布设的多通道光纤以及设于所述光口处的MT头，还包括上述的MPO光模块的电磁屏蔽结构，两个所述压块设于所述MT头靠近电口的一侧，且其中一个压块至另外一个压块的方向与所述上盖至所述底座的方向一致，所述多通道光纤夹设在两个所述夹持面之间。本实用新型专利技术通过两个压块可以将光口处的间隙做到理论零间隙，极大地提高了光模块的EMI性能。

【技术实现步骤摘要】
MPO光模块的电磁屏蔽结构以及MPO光模块
本技术涉及光模块
，具体为一种MPO光模块的电磁屏蔽结构以及MPO光模块。
技术介绍
随着光模块速率的提升，光模块的EMI性能达标已经成为光模块研发成功的重要指标。MPO类型的光模块因光口有多通道的塑料材质的MT头，方便了方案设计，但造成了光口电磁辐射增大，光模块如果电磁辐射过大，会对交换机系统产生不良影响。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种MPO光模块的电磁屏蔽结构以及MPO光模块，通过两个压块可以将光口处的间隙做到理论零间隙，极大地提高了光模块的EMI性能。为实现上述目的，本技术实施例提供如下技术方案：一种MPO光模块的电磁屏蔽结构，包括相对设置的两个压块，两个压块相对的面均为用于压住多通道光纤的夹持面，两个所述夹持面均为可互相紧贴的平面；所述压块还具有用于与MPO光模块的底座和上盖配合安装以限位的限位结构。进一步，所述限位结构至少包括可供所述底座的第一凸棱卡入的第一凹槽、可卡入所述底座的第二凹槽中的第二凸棱、可卡入所述上盖的第三凹槽中的第三凸棱或可供上本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种MPO光模块的电磁屏蔽结构，其特征在于：包括相对设置的两个压块，两个压块相对的面均为用于压住多通道光纤的夹持面，两个所述夹持面均为可互相紧贴的平面；所述压块还具有用于与MPO光模块的底座和上盖配合安装以限位的限位结构。/n

【技术特征摘要】
1.一种MPO光模块的电磁屏蔽结构，其特征在于：包括相对设置的两个压块，两个压块相对的面均为用于压住多通道光纤的夹持面，两个所述夹持面均为可互相紧贴的平面；所述压块还具有用于与MPO光模块的底座和上盖配合安装以限位的限位结构。


2.如权利要求1所述的MPO光模块的电磁屏蔽结构，其特征在于：所述限位结构至少包括可供所述底座的第一凸棱卡入的第一凹槽、可卡入所述底座的第二凹槽中的第二凸棱、可卡入所述上盖的第三凹槽中的第三凸棱或可供上盖的第四凸棱卡入的第四凹槽中的一种，所述第一凹槽、所述第二凸棱、所述第三凸棱以及第四凹槽设于任一所述压块除了所述夹持面的面上。


3.如权利要求2所述的MPO光模块的电磁屏蔽结构，其特征在于：所述第二凸棱设于靠近底座的所述压块背离所述夹持面的面上，所述第三凸棱设于靠近上盖的所述压块背离所述夹持面的面上，所述第二凸棱和所述第三凸棱延伸的方向与多通道光纤的布置方向一致。


4.如权利要求3所述的MPO光模块的电磁屏蔽结构，其特征在于：所述第一凹槽设于任一所述压块平行于所述第二凸棱的侧面上。


5.如权利要求1所述的MPO光模块的电磁屏蔽结构，其特征在于：还包括可...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨亚强，翟羽，王自力，
申请(专利权)人：武汉华工正源光子技术有限公司，
类型：新型
国别省市：湖北;42