本发明专利技术为一种振打自清洁沉淀装置，该振打自清洁沉淀装置包括沉淀池和填料框架，所述填料框架能活动地设置于所述沉淀池内，所述填料框架内填充有填料，所述填料框架上设置有检测所述填料框架位移信息的位移传感器和能带动所述填料框架在所述沉淀池内发生振动的至少一个振打器。本发明专利技术解决了沉淀池内的填料易被污堵且不易发现，造成填料净水能力下降、使用周期缩短的技术问题。
【技术实现步骤摘要】
振打自清洁沉淀装置
本专利技术涉及水处理
，尤其涉及一种振打自清洁沉淀装置。
技术介绍
斜板(或斜管)沉淀池是利用“浅层理论”，在沉淀池中加设斜板或者斜管填料，以提高沉淀效率的一种沉淀池。在水处理设施实际运行过程中，斜板(或斜管)沉淀池在不同工艺应用中都可能出现以下问题：一、污泥在斜板或斜管内堵塞，如果没有及时采取适当的措施会导致污泥在斜板或斜管的顶部大量沉积并且向周围扩散，导致污泥无法正常从泥斗排出；二、污泥在斜板或斜管内堵塞，会使沉淀池中有气泡冒出并且伴随大片的浮渣漂起，出水夹带大量的颗粒物造成水质恶化；三、污泥在斜板或斜管内堵塞，严重的情况下会将斜板或斜管挤压变形，设备出水水质持续恶化，甚至会压垮填料支架导致填料坍塌，造成停运设备，严重影响生产的稳定。上述问题都与斜管或斜板填料的污堵有关。传统的斜管或斜板填料固定在填料支架上方，填料支架固定于沉淀池的内壁上并浸没于水中，在沉淀池运行过程中，填料被污堵初期往往不容易发现，当可直观察看到填料发生堵塞时，污堵已经非常严重，此时往往已经造成填料变形、坍塌，导致填料报废，沉淀装置只能进行停产更换填料。因此，急需一种能实时反映填料污堵状态的沉淀装置，能够及时发现填料污堵并判断污堵方位，并通过自动冲洗将填料内的污泥冲洗干净，使填料恢复净水功能，避免被污泥堵塞产生变形和垮塌。针对相关技术中沉淀池内的填料易被污堵且不易发现，造成填料净水能力下降、使用周期缩短的问题，目前尚未给出有效的解决方案。由此，本专利技术人凭借多年从事相关行业的经验与实践，提出一种振打自清洁沉淀装置，以克服现有技术的缺陷。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种振打自清洁沉淀装置，能够活动地设置于沉淀池内，并根据沉淀池填料发生污堵后引起填料重量变化，并且在垂直方向移动产生垂直位移，使得工作人员能够快速、及时地发现填料上污泥粘附的程度，并控制振打器对填料框架进行机械振动，使填料框架内的填料产生高频剧烈振动，从而将粘附的污泥振动剥离，使被污堵的填料恢复正常使用，保证填料的净水能力，有效延长填料的使用周期。本专利技术的目的可采用下列技术方案来实现：本专利技术提供了一种振打自清洁沉淀装置，所述振打自清洁沉淀装置包括沉淀池和填料框架，其中：所述填料框架能活动地设置于所述沉淀池内，所述填料框架内填充有填料，所述填料框架上设置有检测所述填料框架位移信息的位移传感器和能带动所述填料框架在所述沉淀池内发生振动的至少一个振打器。在本专利技术的一较佳实施方式中，所述振打自清洁沉淀装置还包括控制器，所述控制器的检测信号接收端与所述位移传感器的检测信号输出端电性连接，所述控制器的控制信号输出端与所述振打器的控制端电性连接。在本专利技术的一较佳实施方式中，所述振打自清洁沉淀装置还包括水平仪，所述水平仪设置于所述填料框架的顶部中间位置，且所述水平仪的数据显示窗口位于水面上方。在本专利技术的一较佳实施方式中，所述填料框架与所述沉淀池的内壁之间留有间隙，且在所述间隙的顶部位置设置有第一随动密封板。在本专利技术的一较佳实施方式中，所述第一随动密封板为沿水平方向设置的、对其上方与下方的水流进行分隔的平板状结构，所述第一随动密封板采用弹性材料制成，所述第一随动密封板的一端与所述填料框架的顶部连接，所述第一随动密封板的另一端与所述沉淀池的内壁抵接。在本专利技术的一较佳实施方式中，所述间隙的底部位置设置有第二随动密封板。在本专利技术的一较佳实施方式中，所述第二随动密封板为沿水平方向设置的、对其上方与下方的水流进行分隔的平板状结构，所述第二随动密封板采用弹性材料制成，所述第二随动密封板的一端与所述填料框架的底部连接，所述第二随动密封板的另一端与所述沉淀池的内壁抵接。在本专利技术的一较佳实施方式中，所述沉淀池的下部内壁上设置有对所述填料框架的下移位置进行限位的第一限位挡板；所述沉淀池的顶部设置有对所述填料框架的上移位置进行限位的第二限位挡板。在本专利技术的一较佳实施方式中，所述振打自清洁沉淀装置还包括第一浮筒，所述第一浮筒设置于所述填料框架的顶部。在本专利技术的一较佳实施方式中，所述振打自清洁沉淀装置还包括第二浮筒，所述第二浮筒设置于所述填料框架的底部。在本专利技术的一较佳实施方式中，所述填料框架上设置有重量传感器，所述重量传感器的检测信号输出端与所述控制器的检测信号接收端电性连接。在本专利技术的一较佳实施方式中，所述振打自清洁沉淀装置还包括第一弹簧和第一支架，所述第一支架设置于所述沉淀池的顶部，所述第一弹簧的一端与所述第一支架连接，所述第一弹簧的另一端与所述填料框架的顶部连接，所述重量传感器设置于所述第一支架上。在本专利技术的一较佳实施方式中，所述位移传感器设置于所述第一支架与所述填料框架的顶部之间。在本专利技术的一较佳实施方式中，所述振打自清洁沉淀装置还包括第二弹簧和第二支架，所述第二支架设置于所述填料框架的顶部，所述第二弹簧的一端与所述第二支架连接，所述第二弹簧的另一端与所述沉淀池的顶部连接，所述重量传感器设置于所述第二弹簧上。在本专利技术的一较佳实施方式中，所述位移传感器设置于所述第二支架与所述沉淀池的顶部之间。由上所述，本专利技术的振打自清洁沉淀装置的特点及优点是：将填充有填料的填料框架能活动地设置于沉淀池内，在填料框架上设置有位移传感器，且在填料框架上设置有振打器，在沉淀装置运行过程中可根据沉淀池填料发生污堵后引起填料重量变化，并且引起填料框架在垂直方向移动产生垂直位移，实时检测填料上污泥粘附的程度，便于工作人员快速、及时地发现填料上的污堵，并控制振打器对填料框架进行机械振动，使填料框架内的填料产生高频剧烈振动，从而将粘附的污泥振动剥离，使被污堵的填料恢复正常使用，保证了填料长期具有高效的净水能力，大大延长了填料的使用周期，不仅提高了沉淀效率，而且降低了生产成本，适于推广使用。附图说明以下附图仅旨在于对本专利技术做示意性说明和解释，并不限定本专利技术的范围。其中：图1：为本专利技术振打自清洁沉淀装置的结构示意图一。图2：为本专利技术振打自清洁沉淀装置的结构示意图二。图3：为本专利技术振打自清洁沉淀装置的结构示意图三。图4：为本专利技术振打自清洁沉淀装置的结构示意图四。图5：为本专利技术振打自清洁沉淀装置的电气结构框图。本专利技术中的附图标号为：1、沉淀池；2、填料框架；3、填料；4、振打器；5、重量传感器；6、位移传感器；7、水平仪；8、控制器；9、第一随动密封板；10、间隙；11、第一浮筒；12、第二浮筒；13、第二限位挡板；14、第一限位挡板；15、第二随动密封板；16、第一支架；17、第一弹簧；18、第二支架；19、第二弹簧。具体实施方式为了对本专利技术的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解，现对照附图说明本专利技术的具体实施方式。如图1所示，本专利技术提供了一种振打自清洁沉淀装置，该本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种振打自清洁沉淀装置，其特征在于，所述振打自清洁沉淀装置包括沉淀池(1)和填料框架(2)，其中：/n所述填料框架(2)能活动地设置于所述沉淀池(1)内，所述填料框架(2)内填充有填料(3)，所述填料框架(2)上设置有检测所述填料框架(2)位移信息的位移传感器(6)和能带动所述填料框架(2)在所述沉淀池(1)内发生振动的至少一个振打器(4)。/n
【技术特征摘要】
1.一种振打自清洁沉淀装置，其特征在于，所述振打自清洁沉淀装置包括沉淀池(1)和填料框架(2)，其中：
所述填料框架(2)能活动地设置于所述沉淀池(1)内，所述填料框架(2)内填充有填料(3)，所述填料框架(2)上设置有检测所述填料框架(2)位移信息的位移传感器(6)和能带动所述填料框架(2)在所述沉淀池(1)内发生振动的至少一个振打器(4)。
2.如权利要求1所述的振打自清洁沉淀装置，其特征在于，所述振打自清洁沉淀装置还包括控制器(8)，所述控制器(8)的检测信号接收端与所述位移传感器(6)的检测信号输出端电性连接，所述控制器(8)的控制信号输出端与所述振打器(4)的控制端电性连接。
3.如权利要求1所述的振打自清洁沉淀装置，其特征在于，所述振打自清洁沉淀装置还包括水平仪(7)，所述水平仪(7)设置于所述填料框架(2)的顶部中间位置，且所述水平仪(7)的数据显示窗口位于水面上方。
4.如权利要求1所述的振打自清洁沉淀装置，其特征在于，所述填料框架(2)与所述沉淀池(1)的内壁之间留有间隙(10)，且在所述间隙(10)的顶部位置设置有第一随动密封板(9)。
5.如权利要求4所述的振打自清洁沉淀装置，其特征在于，所述第一随动密封板(9)为沿水平方向设置的、对其上方与下方的水流进行分隔的平板状结构，所述第一随动密封板(9)采用弹性材料制成，所述第一随动密封板(9)的一端与所述填料框架(2)的顶部连接，所述第一随动密封板(9)的另一端与所述沉淀池(1)的内壁抵接。
6.如权利要求4所述的振打自清洁沉淀装置，其特征在于，所述间隙(10)的底部位置设置有第二随动密封板(15)。
7.如权利要求6所述的振打自清洁沉淀装置，其特征在于，所述第二随动密封板(15)为沿水平方向设置的、对其上方与下方的水流进行分隔的平板状结构，所述第二随动密封板(15)采用弹性材料制成，所述第二随动密封板(15)的一端与所述填料框架(2)的底部连接，所述第二随动密封板(15)的另一端与所述沉淀池(1)的内壁抵接。
【专利技术属性】
技术研发人员：李杰，梁思懿，
申请(专利权)人：中冶京诚工程技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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