【技术实现步骤摘要】
一种新型掩膜版尺寸测量装置
本技术属于光掩膜基版
，具体涉及一种新型掩膜版尺寸测量装置。
技术介绍
光掩膜基版是制作微细光掩膜图形的理想感光性空白板，通过光刻制版工艺可以获得所需光掩膜版，简单地说，光掩膜基版在被刻蚀上掩膜图形之后就成为光掩膜版。现有的新型掩膜版尺寸测量装置在使用过程中，需要对掩膜版进行固定，然后通过量具对掩膜版进行测量，为了避免量具与固定装置分开使用，使对掩膜版尺寸的测量更加麻烦，降低工作效率的问题，为此我们提出一种新型掩膜版尺寸测量装置。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种新型掩膜版尺寸测量装置，以解决上述
技术介绍
中提出的新型掩膜版尺寸测量装置在使用过程中，需要对掩膜版进行固定，然后通过量具对掩膜版进行测量，为了避免量具与固定装置分开使用，使对掩膜版尺寸的测量更加麻烦，降低工作效率的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种新型掩膜版尺寸测量装置，包括底座，所述底座的上表面固定连接有支撑杆，所述支撑杆的一侧开设有第一滑槽，所述第一滑槽的内表面活动连接有拉杆...
【技术保护点】
1.一种新型掩膜版尺寸测量装置，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)的上表面固定连接有支撑杆(2)，所述支撑杆(2)的一侧开设有第一滑槽(4)，所述第一滑槽(4)的内表面活动连接有拉杆(6)，所述拉杆(6)的一端固定连接有复位弹簧(7)，所述拉杆(6)的外表面活动连接有第一连接杆(8)，所述第一连接杆(8)的一端固定连接有限位块(5)。/n
【技术特征摘要】
1.一种新型掩膜版尺寸测量装置，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)的上表面固定连接有支撑杆(2)，所述支撑杆(2)的一侧开设有第一滑槽(4)，所述第一滑槽(4)的内表面活动连接有拉杆(6)，所述拉杆(6)的一端固定连接有复位弹簧(7)，所述拉杆(6)的外表面活动连接有第一连接杆(8)，所述第一连接杆(8)的一端固定连接有限位块(5)。
2.根据权利要求1所述的一种新型掩膜版尺寸测量装置，其特征在于：所述支撑杆(2)的一侧固定连接有量尺(28)，所述量尺(28)的内表面活动连接有延伸尺(29)。
3.根据权利要求1所述的一种新型掩膜版尺寸测量装置，其特征在于：所述底座(1)的一侧开设有第二滑槽(11)，所述第二滑槽(11)的两侧均设置有第一滑轨(12)，所述第二滑槽(11)的内表面活动连接有第二连接杆(15)，所述第二连接杆(15)的上表面固定连接有移动杆(16)，所述第二连接杆(15)的一端固定连接有拨块(10)，所述拨块(10)的内表面固定连接有压缩弹簧(13)，所述压缩弹簧(13)的一端固定连接有第一滑块(14)。
4.根据权利要求3所述的一种新型掩膜版尺寸测量装置，其特征在于：所述移动杆(16)的外表面固定...
【专利技术属性】
技术研发人员：校微娜，
申请(专利权)人：上海禾本电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31
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