一种应用于MOCVD新型液态源汽化系统的控制装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术本实用新型专利技术为了解决液态源汽化系统系统密封性，流量、温度控制要精确，组分变换要迅速，系统要紧凑的问题，提出一种应用于MOCVD新型液态源汽化系统的控制装置，工作过程中，液态源通过液态质量流量控制器定量送入蒸发器，同时，载气通过第一气体质量流量控制器定量送入蒸发器，蒸发器通过控制温度完成混合物的完全气化并通入工艺室，蒸发管道上设有第二气体质量流量控制器，出气即为液态源的混合蒸汽，流量精准控制，工艺参数易于控制。工艺参数易于控制。工艺参数易于控制。

【技术实现步骤摘要】
一种应用于MOCVD新型液态源汽化系统的控制装置


[0001]本技术涉及半导体领域，较为具体的，涉及到一种应用于MOCVD新型液态源汽化系统的控制装置。

技术介绍

[0002]国内外所制造的MOCVD设备，大多采用气态源的输送方式，进行薄膜的制备。气态源MOCVD设备，将MO源以气态的方式输送到反应室，输送管道里输送的是气体，对送入反应室的MO源流量也以控制气体流量来进行控制。因此，它对MO源先体提出应具备蒸汽压高、热稳定性佳的要求。
[0003]MOCVD生长使用的源是易燃、易爆、毒性很大的物质，并且要生长多组分、大面积、薄层和超薄层异质材料。因此在MOCVD系统的设计思想上，通常要考虑系统密封性，流量、温度控制要精确，组分变换要迅速，系统要紧凑等。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本技术为了解决液态源汽化系统系统密封性，流量、温度控制要精确，组分变换要迅速，系统要紧凑的问题，提出一种应用于MOCVD新型液态源汽化系统的控制装置，精度更高、自动化程度更好，资源节约，工作过程中，液态源通过液态质量流量控制器定量送入蒸发器本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种应用于MOCVD新型液态源汽化系统的控制装置，包括：载气管路(1)、液态源管路(2)、蒸发器(3)、蒸发器管路(4)和工艺室(5)，载气管路(1)连接蒸发器(3)，蒸发器(3)连接蒸发器管路(4)，蒸发器管路(4)连接工艺室(5)，液态源管路(2)连接蒸发器(3)，其特征在于：载气管路(1)上设有第一气体质量流量控制器(6)和气压监测装置，液态源管路(2)上设有液体质量流量控制器(7)，蒸发器(3)管道设有第二气体质量流量控制器(10)，液态源在蒸发器(3)内先气化后与蒸发器(3)内的载气混合稀释再输送至工艺室(5)进行使用。2.如权利要求1所述的应用于MOCVD新型液态源汽化系统的控制装置，其特征在于：载气管路(1)、液态源管路(2)和蒸发器管路(4)上均设有一个或多个电动气动阀(11)。3.如权利要求1所述的应用于MOCVD新型液态源汽化系统的控制装置，其特征在于：气压检测装置包括：温度传感器(9)和压力传感器(8)。4.如权利要求1所述的应用...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙飞，
申请(专利权)人：苏州尚勤光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：