【技术实现步骤摘要】
一种清理MOCVD上喷淋头的工具
本技术涉及MOCVD维护
,尤其涉及一种清理垂直式喷淋头MOCVD上喷淋头的工具。
技术介绍
MOCVD(金属有机源化学气相沉积设备),是一种在高温腔体内利用气相源进行化合物沉积的设备。技术要点为将衬底(蓝宝石、硅片等基板)放置于石墨盘上,在一定温度和压力下,通入化学元素周期表III/V族气体,III/V族气体会在衬底表面合成化合物,该化合物会沿衬底晶相沉积(俗称外延生长)。如图1为垂直式喷淋头MOCVD设备的反应室结构,III/V族气体通过喷淋头C喷出,在衬底E上形成化合物薄膜(衬底E放置在石墨舟F上,石墨舟F下方设有加热系统G)。在衬底E上形成化合物薄膜的同时,也会有部分化学反应是在喷淋头C附近发生,会导致沉积物沉积在喷淋头C上,这些沉积物需要定期清理。目前所采用的是人工刷的方式,人工刷喷淋头,会出现由于不同操作人员经验不同,刷的干净程度也不相同,这些都会影响后续生产的产品品质。
技术实现思路
为克服上述缺点,本技术的目的在于提供一种清理MOCVD上喷淋头的 ...
【技术保护点】
1.一种清理MOCVD上喷淋头的工具,包括与喷淋头匹配的圆形支架,所述圆形支架固定在喷淋头上;其特征在于:所述圆形支架上设有固定导轨,所述固定导轨上滑动设有基板,所述基板上设置有伸缩导轨,所述伸缩导轨的移动轨迹与固定导轨的移动方向在空间上垂直分布;所述伸缩导轨上设置有刷头安装座,所述刷头安装座上设置有与喷淋头接触的刷头。/n
【技术特征摘要】
1.一种清理MOCVD上喷淋头的工具,包括与喷淋头匹配的圆形支架,所述圆形支架固定在喷淋头上;其特征在于:所述圆形支架上设有固定导轨,所述固定导轨上滑动设有基板,所述基板上设置有伸缩导轨,所述伸缩导轨的移动轨迹与固定导轨的移动方向在空间上垂直分布;所述伸缩导轨上设置有刷头安装座,所述刷头安装座上设置有与喷淋头接触的刷头。
2.根据权利要求1所述的工具,其特征在于:所述刷头安装座上设置有向外伸出的握持端。
3.根据权利要求2所述的工具,其特征在于:所述握...
【专利技术属性】
技术研发人员:孙飞,
申请(专利权)人:苏州尚勤光电科技有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
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