【技术实现步骤摘要】
一种低温沉积CVD金刚石涂层的聚晶金刚石复合片的方法
[0001]本专利技术属于材料涂层
,涉及一种低温沉积CVD金刚石涂层的聚晶金刚石复合片的方法。
技术介绍
[0002]金刚石涂层是21世纪的一种新型功能材料,具有高强度、高摩擦磨损性能、高热导率和化学稳定性,有广泛的应用前景。目前,公认的金刚石涂层沉积方法主要为化学气相沉积法(Chemical Vapor Deposition,CVD),然而限制金刚石涂层技术产业化发展的主要问题是涂层韧性不足,导致涂层与基体容易脱落。
[0003]金刚石钻头的金刚石磨损,可以分为脆性破裂,研磨磨损,热磨损和脱粒。先是胎体中粘结金属被磨损,因为粘接金属的硬度和耐磨性比骨架材料低得多,同时容易被岩石颗粒所磨损。粘接金属的磨损进而造成骨架材料和金刚石的脱落,又会进一步研磨胎体,导致胎体进一步磨损,从而造成金刚石钻头的失效。
[0004]聚晶金刚石配方多种多样,用途也多种多样,选择合适的基底配方,获得良好基底+金刚石涂层膜基结合强度是我们需要解决的关键问题。专利US421 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种低温沉积CVD金刚石涂层的聚晶金刚石复合片的方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)制备聚晶金刚石复合片基底;(2)将化学气相沉积装置的反应腔室抽真空,通入由氢气与甲烷组成的混合气体,进行形核处理;(3)将聚晶金刚石复合片基底放入反应腔室中,通入由氢气、甲烷和二氧化碳组成的混合气体,进行化学气相沉积;(4)沉积完成后,关闭甲烷与二氧化碳,保持氢气流量不变,进行刻蚀处理,即得到低温沉积有CVD金刚石涂层的聚晶金刚石复合片。2.根据权利要求1所述的一种低温沉积CVD金刚石涂层的聚晶金刚石复合片的方法,其特征在于,步骤(1)中,所述的聚晶金刚石复合片基底通过以下方法制备而成:取金刚石微粉与金属合金混合,其中,金刚石微粉由粒度25~30目的微粒和粒度40~50目的微粒按照质量比1:1混合而成;金属合金中的组分组成为:WC 54~58wt%,Co 3~7wt%,Cu 28~34wt%,Sn 5~15wt%,采用粉末冶金的方法在高温高压下烧结,即得到聚晶金刚石复合片基底。3.根据权利要求2所述的一种低温沉积CVD金刚石涂层的聚晶金刚石复合片的方法,其特征在于,金刚石微粉与金属合金的质量比为4:1。4.根据权利要求2所述的一种低温沉积CVD金刚石涂层的聚晶金刚石复合片的方法,其特征在于,烧结过程具体为:在5GPa,1000~1200℃条件下进行烧结,保温时间为5~15min,降温到800℃出炉,空冷至室温。5.根据权利要求2所述的一种低温沉积CVD金刚石涂层的聚晶金刚石复合片的方...
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