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本发明涉及一种低温沉积CVD金刚石涂层的聚晶金刚石复合片的方法，包括以下步骤：(1)制备聚晶金刚石复合片基底；(2)将化学气相沉积装置的反应腔室抽真空，通入由氢气与甲烷组成的混合气体，进行形核处理；(3)将聚晶金刚石复合片基底放入反应腔室中...
该专利属于同济大学所有，仅供学习研究参考，未经过同济大学授权不得商用。

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