一种大批量的真空镀膜基片清洗装置制造方法及图纸

一种大批量的真空镀膜基片清洗装置，包括超声波清洗箱、升降驱动装置和基片清洗夹具；基片清洗夹具包括清洗上板、清洗中板和清洗下板，所述清洗上板、清洗中板和清洗下板按照由上至下的顺序依次设置，清洗中板的每个“田”字格区域内均设有一组清洗槽，一组清洗槽之间设有连接通道，一组清洗槽呈蜂窝状设置，所述清洗槽内可设置基片。本实用新型专利技术的清洗夹具解决了基片分散式清洗不便的问题，使基片在清洗时也可做到规律排列、方便计数，中板设计的清洗槽彼此之间相互连通且呈蜂窝状排列，可使清洗剂更加充分地与基片接触，改善清洗效果，基片在尽可能小的活动范围内接受较全面的清洗，可避免基片活动范围过大导致基片与夹具摩擦过多。多。多。

【技术实现步骤摘要】
一种大批量的真空镀膜基片清洗装置


[0001]本技术属于真空镀膜
，具体地，涉及一种大批量的真空镀膜基片清洗装置。

技术介绍

[0002]真空镀膜技术是近几十年发展起来的一种重要的表面强化技术，在薄膜太阳能电池芯片制造、建筑用低辐射玻璃、阳光控制膜玻璃，以及在机械加工领域的涂层工模具上被广泛使用。
[0003]影响真空镀膜效果的一个重要因素是薄膜与基片之间的结合力，结合力不好会导致使用过程中，薄膜从基片的表面脱落，因而失去强化效果。特别是镀膜工模具在高速高温条件下使用时，如果薄膜从基片表面脱落，由于超过没有镀膜工模具的使用条件，会导致工模具的毁坏。影响薄膜与基片结合力的因素有很多，主要有真空镀膜时的工艺参数是否恰当，比如溅射电压、溅射电流等，但是基片表面的净洁度却常常被忽视。实践证明，基片表面的净洁度在真空镀膜过程中是影响薄膜与基片结合力强弱的一个重要因素。
[0004]基片在切割及运输等过程中，易沾有油污、粉尘等物质。而基片通常数量较多，尺寸较小，在单个清洗且无固定的情况下，基片易丢失且不便保障其位置准确性和清洗完整度。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种大批量的真空镀膜基片清洗装置，其特征在于：包括超声波清洗箱（1）、升降驱动装置（2）和基片清洗夹具（3），所述升降驱动装置（2）设置在超声波清洗箱（1）上，所述基片清洗夹具（3）设置在升降驱动装置（2）上，所述升降驱动装置（2）可驱动基片清洗夹具（3）浸入超声波清洗箱（1）内；其中，所述基片清洗夹具（3）包括清洗上板（31）、清洗中板（32）和清洗下板（33），所述清洗上板（31）、清洗中板（32）和清洗下板（33）按照由上至下的顺序依次设置，并且清洗上板（31）、清洗中板（32）和清洗下板（33）通过螺钉固定连接，所述清洗上板（31）、清洗中板（32）和清洗下板（33）的截面均为正方形，所述清洗上板（31）、清洗中板（32）和清洗下板（33）均划分为“田”字格结构，所述清洗上板（31）和清洗下板（33）的每个“田”字格区域内均设有一组圆形通孔（34），所述清洗中板（32）的每个“田”字格区域内均设有一组清洗槽（35），所述一组清洗槽（35）之间设有连接通道（36），所述一组清洗槽（35）呈蜂窝状设置，所述清洗槽（35）内可设置基片。2.根据权利要求1所述的大批量的真空镀膜基片清洗装置，其特征在于：所述一组圆形通孔（34）呈矩形阵列的方式设置，所述清洗槽（35）的截面为正六边型，并且清洗槽（35）的截面积大于基片的截面积。3.根据权利要求1所述的大批量的真空镀膜基片清洗装置，其特征在于：所述升降驱动装置（2）包括升降驱动组件（21）、两个支撑腿（22）、支撑平台（23）、两个对称设置的升降组件（24）和升降框架（25），所述支撑平台（23）和超声波清洗箱（1）的外壁固定连接，所述两个支撑腿（22）和支撑平台（23）的下端面固定连接，并且两个支撑腿（22）分别位于超声波清洗箱（1）的两侧，所述升降驱动组件（21）设置在支撑平台（23）上，并且升降驱动组件（21）和两个对称设置的升降组件（24）连接，所述两个对称设置的升降组件（24）均设置在支撑平台（23）上，所述升降框架（25）和两个对称设置的升降组件（24）连接，并且升降框架（25）可置于超声波清洗箱（1）内，所述基片清洗夹具（3）设置在升降框架（25）上，所述两个对称设置的升降组件（24）分别位于超声波清洗箱（1）的两侧。4.根据权利要求3所述的大批量的真空镀膜基片清洗装置，其特征在于：所述升降驱动组件（21）包括升降驱动电机（211）、减速机（212）、转轴一（213）、直齿伞齿轮一（214）和直齿伞齿轮二...

【专利技术属性】
技术研发人员：于莎莎，
申请(专利权)人：镇江晶鼎光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：