透明导电性薄膜、触控屏及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种透明导电性薄膜，包括基材、第一透明导电层及第二透明导电层。其中，第一透明导电层及第二透明导电层分别形成于基材相对的两个表面，且第一透明导电层与第二透明导电层之间实现紫外光隔离。因此，在第一透明导电层及第二透明导电层上贴附光阻后，即使同时进行曝光，也不会相互造成干扰。在制作触控屏时，可采用曝光显影蚀刻工艺同时对第一透明导电层及第二透明导电层进行图形化。也就是说，感应层与驱动层可同时成型，从而有效地提升触控屏的生产效率。此外，本发明专利技术还提供一种触控屏及一种触控屏的制备方法。触控屏及一种触控屏的制备方法。触控屏及一种触控屏的制备方法。

【技术实现步骤摘要】
透明导电性薄膜、触控屏及其制备方法


[0001]本专利技术涉及电容式触控
，特别涉及一种透明导电性薄膜、触控屏及其制备方法。

技术介绍

[0002]透明导电性薄膜是电容式触控屏的核心元件，一般包括基材层、透明导电层及金属层。为了降低触控屏的厚度及成本，双面透明导电性薄膜得到广泛应用，从而可将驱动层和感应层分别设置在基材层相对的两个表面。
[0003]在制作触控屏时，需采用曝光显影蚀刻的黄光工艺对两个表面的透明导电层进行图形化，以分别得到感应层及驱动层。为了避免UV曝光的相互干扰，在实际制作过程中，需要先对一个表面的透明导电层进行图形化，然后再采用同样的黄光工艺对另一表面的透明导电层进行加工。因此，驱动层与感应层的成型需分两步进行，这将导致触控屏的加工工艺复杂化，并降低生产效率。

技术实现思路

[0004]基于此，有必要针对现有透明导电性薄膜用于触控屏制作会导致生产效率降低的问题，提供一种可提升触控屏生产效率的透明导电性薄膜。
[0005]一种透明导电性薄膜，包括基材、第一透明导电层及第二透明导电层，所述基材具有相对的两个表面，所述第一透明导电层及所述第二透明导电层分别形成于所述基材相对的两个表面，所述第一透明导电层与所述第二透明导电层之间实现紫外光隔离。
[0006]由于第一透明导电层与第二透明导电层之间实现紫外光隔离。因此，在第一透明导电层及第二透明导电层上贴附光阻后，即使同时进行曝光，也不会相互造成干扰。在制作触控屏时，可采用曝光显影蚀刻工艺同时对第一透明导电层及第二透明导电层进行图形化。也就是说，感应层与驱动层可同时成型，从而有效地提升触控屏的生产效率。
[0007]在其中一个实施例中，还包括位于所述第一透明导电层的外表面与所述第二透明导电层的外表面之间的紫外光截止层。
[0008]在其中一个实施例中，所述基材中包含有紫外光吸收剂，以使所述基材作为所述紫外光截止层。
[0009]因此，基材在起支撑作用的同时还可吸收紫外光，使得紫外光无法在第一透明导电层与第二透明导电层之间顺利穿透，实现紫外光隔离。这样，无需额外增加透明导电性薄膜的膜层结构即可达到紫外光隔离的目的，从而避免透明导电性薄膜的厚度增加，有利于实现触控屏的轻薄化。
[0010]在其中一个实施例中，所述基材至少一个表面形成有包含紫外光吸收剂的所述紫外光截止层，所述紫外光截止层位于所述基材与所述第一透明导电层之间和/或所述基材所述第二透明导电层之间。
[0011]设置单独的膜层结构实现紫外光的吸收，可使得紫外光隔离效果更好。而且，由于
无需向基材及第一光学层、第二光学层内添加紫外光吸收剂，从而还可避免对基材以及第一光学层、第二光学层性能造成不利影响。
[0012]在其中一个实施例中，还包括第一光学层及第二光学层，所述第一光学层及第二光学层分别附着于所述第一透明导电层及所述第二透明导电层朝向所述基材的一侧。
[0013]在其中一个实施例中，所述第一光学层及所述第二光学层至少一个中包含有紫外光吸收剂，以使第一光学层和/或所述第二光学层作为所述紫外光截止层。
[0014]因此，第一光学层及第二光学层在改善光学效果的同时，还能实现紫外光隔离。这样，无需额外增加透明导电性薄膜的膜层结构即可达到紫外光隔离的目的，从而避免透明导电性薄膜的厚度增加，有利于实现触控屏的轻薄化。
[0015]在其中一个实施例中，所述紫外光吸收剂为水杨酸酯类、苯酮类、苯并三唑类、取代丙烯腈类、三嗪类及受阻胺类中任意一种或几种的组合。
[0016]在其中一个实施例中，所述紫外光吸收剂为邻羟基苯甲酸苯酯、2-(2ˊ-羟基-5ˊ-甲基苯基)苯并三氮唑、2，4-二羟基二苯甲酮、2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮、2-羟基-4-正辛氧基二苯甲酮、2-(2
’-
羟基-3
’
，5
’-
二叔苯基)-5-氯化苯并三唑、单苯甲酸间苯二酚酯、2，2
’-
硫代双(4-叔辛基酚氧基)镍、(1，2，2，6，6-五甲哌啶基)亚磷酸酯、4-苯甲酰氧基-2，2，6，6-四甲基哌啶、2，4，6-三(2
’
正丁氧基苯基)-1，3，5-三嗪、六甲基磷酰三胺中任意一种或几种的组合。
[0017]本专利技术还提供一种触控屏的制备方法，包括步骤：
[0018]提供一种如上述优选实施例中任一项所述的透明导电性薄膜；
[0019]采用曝光显影蚀刻工艺同时对所述第一透明导电层及所述第二透明导电层进行图形化，以得到感应层及驱动层。
[0020]上述触控屏制备方法，采用曝光显影蚀刻工艺同时对第一透明导电层及第二透明导电层进行图形化，从而同时得到感应层及驱动层，故其流程只需进行一次曝光显影蚀刻工艺，生产效率较高。
[0021]本专利技术还提供一种触控屏，所述触控屏由上述优选实施例中任一项所述的透明导电性薄膜所制成，所述触控屏包括由所述第一透明导电层图形化得到的感应层，以及由所述第二透明导电层图形化得到的驱动层。
[0022]上述触控屏，由于可采用曝光显影蚀刻工艺同时对第一透明导电层及第二透明导电层进行图形化，从而同时得到感应层及驱动层，故其生产效率较高。而且，由于感应层与驱动层的成型过程不存在时间差，从而避免了涨缩不一致而带来的对位不准的问题，故感应层与驱动层的对位精度更高。
附图说明
[0023]图1为本专利技术第一个实施例中透明导电性薄膜的截面结构示意图；
[0024]图2为本专利技术第二个实施例中透明导电性薄膜的截面结构示意图；
[0025]图3为本专利技术第三个实施例中透明导电性薄膜的截面结构示意图；
[0026]图4为本专利技术一个实施例中触控屏的截面结构示意图；
[0027]图5为本专利技术一个实施例中触控屏制备方法的流程示意图。
具体实施方式
[0028]为了便于理解本专利技术，下面将参照相关附图对本专利技术进行更全面的描述。附图中给出了本专利技术的较佳的实施例。但是，本专利技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本专利技术的公开内容的理解更加透彻全面。
[0029]需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。
[0030]除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本专利技术。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
[0031]请参阅图1，本专利技术提供了一种透明导电性薄膜10，该透明导电性薄膜10包括基材100、第一透明导本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种透明导电性薄膜，包括基材、第一透明导电层及第二透明导电层，所述基材具有相对的两个表面，所述第一透明导电层及所述第二透明导电层分别形成于所述基材相对的两个表面，其特征在于，所述第一透明导电层与所述第二透明导电层之间实现紫外光隔离。2.根据权利要求1所述的透明导电性薄膜，其特征在于，还包括位于所述第一透明导电层的外表面与所述第二透明导电层的外表面之间的紫外光截止层。3.根据权利要求2所述的透明导电性薄膜，其特征在于，所述基材中包含有紫外光吸收剂，以使所述基材作为所述紫外光截止层。4.根据权利要求2所述的透明导电性薄膜，其特征在于，所述基材至少一个表面形成有包含紫外光吸收剂的所述紫外光截止层，所述紫外光截止层位于所述基材与所述第一透明导电层之间和/或所述基材与所述第二透明导电层之间。5.根据权利要求2所述的透明导电性薄膜，其特征在于，还包括第一光学层及第二光学层，所述第一光学层及第二光学层分别附着于所述第一透明导电层及所述第二透明导电层朝向所述基材的一侧。6.根据权利要求5所述的透明导电性薄膜，其特征在于，所述第一光学层及所述第二光学层至少一个中包含有紫外光吸收剂，以使第一光学层和/或所述第二光学层作为所述紫外光截止层。7.根据权利要求3、4及6任一项所述的透明导电性薄膜，其特征在于，所述紫外光吸收剂为水杨酸酯类、苯酮类、苯...

【专利技术属性】
技术研发人员：程志政，孟锴，
申请(专利权)人：南昌欧菲显示科技有限公司，
类型：发明
国别省市：