本发明专利技术提供了人造石表面抛光打磨装置，包括箱体；所述箱体上设置有进料口和出料口；将人造石从进料口输送至箱体内的第一输送带；对人造石上表面进行处理用的上表面处理机构；所述上表面处理机构包括沿人造石前进方向上依次设置的上打磨单元、上抛光单元以及上打蜡单元，所述上打磨单元、上抛光单元以及上打蜡单元的水平高度依次递减；移动人造石用的移位机构；对人造石下表面进行处理的下表面处理机构；所述下表面处理机构包括沿人造石前进方向上依次设置的下打磨单元、下抛光单元以及下打蜡单元，所述下打磨单元、下抛光单元以及下打蜡单元的水平高度依次递增；以及将人造石从出料口输送至箱体外的第二输送带。料口输送至箱体外的第二输送带。料口输送至箱体外的第二输送带。
【技术实现步骤摘要】
人造石表面抛光打磨装置及其工作方法
[0001]
[0002]本专利技术涉及人造石加工
，尤其涉及人造石表面抛光打磨装置及其工作方法。
技术介绍
[0003]人造石制造出来后，其表面一般比较粗糙，需要对其进行打磨抛光处理，以满足后续实际生产中的要求；一般人造石板材都是先进行一面的表面处理，处理完后进行翻转，再对另一面进行表面处理，工序复杂，且在人造石板材尺寸较大时翻转不便，因此需要一种能够不翻转人造石也能对两面进行表面处理。
[0004]在对人造石进行表面处理时，一般有打磨、抛光以及打蜡等工序，需要多个位置或机器进行加工。
[0005]在打磨人造石时，有可能出现人造石在打磨后表面某一块出现坑，需要对其进行补料，再进行打磨，不然会影响人造石表面的平整度。
技术实现思路
[0006]本专利技术针对现有技术的不足，提供了带理线机构的端子机。
[0007]本专利技术通过以下技术手段实现解决上述技术问题的：人造石表面抛光打磨装置，包括箱体；所述箱体上设置有进料口和出料口；将人造石从进料口输送至箱体内的第一输送带；对人造石上表面进行处理用的上表面处理机构；所述上表面处理机构包括沿人造石前进方向上依次设置的上打磨单元、上抛光单元以及上打蜡单元，所述上打磨单元、上抛光单元以及上打蜡单元的水平高度依次递减；移动人造石用的移位机构；对人造石下表面进行处理的下表面处理机构；所述下表面处理机构包括沿人造石前进方向上依次设置的下打磨单元、下抛光单元以及下打蜡单元，所述下打磨单元、下抛光单元以及下打蜡单元的水平高度依次递增；以及将人造石从出料口输送至箱体外的第二输送带。
[0008]作为上述技术方案的改进，所述上打磨单元包括可伸缩的打磨升降杆和打磨盘，所述上抛光单元包括抛光升降杆和抛光盘，所述上打蜡单元包括打蜡升降杆和打蜡盘。
[0009]作为上述技术方案的改进，所述移位机构包括滑轨、滑板、升降杆以及吸盘；所述滑轨固定设置在箱体顶部，所述滑板与滑轨滑动连接，所述升降杆设置在滑板远离滑轨一侧，所述吸盘设置在升降杆远离滑板一端。
[0010]作为上述技术方案的改进，所述上打磨单元和上抛光单元之间设置有上补料装置，所述下打磨单元和下抛光单元之间设置有下补料装置。
[0011]作为上述技术方案的改进，所述上补料装置包括进料管、出料器、刮平板；所述进料管一端连接料斗，另一端连接出料器，所述刮平板设置在出料器远离进料管一侧。
[0012]人造石表面抛光打磨装置的工作方法，包括以下步骤：S1 上表面处理通过第一输送带将人造石从进料口输送至箱体内上表面处理机构下方，通过第一输送带带动人造石不断前进，打磨单元、上抛光单元以及上打蜡单元依次对人造石上表面进行加工，同时设置在上打磨单元和上抛光单元之间的上补料装置在人造石经上打磨单元打磨的区域内进行补料；S2 人造石移位在人造石上表面加工完成后，通过移位机构将人造石从第一输送带移位至下表面处理机构上方；S3 下表面处理通过移位机构带动人造石不断运动，完成对人造石下表面的处理S4 加工完成移位机构将人造石移位至第二输送带，由第二输送带将人造石输送至箱体外。
[0013]本专利技术的有益效果：通过第一输送带将人造石从进料口输送至箱体内上表面处理机构下方，通过第一输送带带动人造石不断前进，打磨单元、上抛光单元以及上打蜡单元依次对人造石上表面进行加工，同时设置在上打磨单元和上抛光单元之间的上补料装置在人造石经上打磨单元打磨的区域内进行补料；在人造石上表面加工完成后，通过移位机构将人造石从第一输送带移位至下表面处理机构上方；通过移位机构带动人造石不断运动，完成对人造石下表面的处理；移位机构将人造石移位至第二输送带，由第二输送带将人造石输送至箱体外，完成人造石双面打磨、抛光以及打蜡工序，简化了施工流程。
[0014]依次设置的上打磨单元、上抛光单元以及上打蜡单元对人造石表面进行打磨、抛光以及打蜡一体化；同时上打磨单元、上抛光单元以及上打蜡单元的水平高度依次递减，使得上打磨单元将人造石表面打磨一定厚度后，上抛光单元还能够与人造石表面贴合，在上抛光单元将人造石表面打磨一层厚度后，上打蜡单元还能够与人造石表面贴合；使得上表面处理机构对人造石进行表面处理的效果更好。
附图说明
[0015]图1为本专利技术实施例所述人造石表面抛光打磨装置在人造石刚进入时的结构示意图；图2为本专利技术实施例所述人造石表面抛光打磨装置在移位机构工作时的结构示意图；图3为本专利技术实施例所述出料器和刮平板的结构示意图；箱体10，进料口11，出料口12，第一输送带20，上表面处理机构30，上打磨单元31，上抛光单元32，上打蜡单元33，移位机构40，下表面处理机构50，下打磨单元51，下抛光单元52，下打蜡单元53，第二输送带60，打磨升降杆311，打磨盘312，抛光升降杆321，抛光盘322，打蜡升降杆331，打蜡盘332，滑轨41，滑板42，升降杆43，吸盘44，补料装置34，下补料装置54，进料管341，出料器342，刮平板343。
具体实施方式
[0016]为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0017]需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。
实施例
[0018]如图1、图2所示，本实施例所述人造石表面抛光打磨装置，其特征在于：包括箱体10；所述箱体10上设置有进料口11和出料口12；将人造石从进料口11输送至箱体10内的第一输送带20；对人造石上表面进行处理用的上表面处理机构30；所述上表面处理机构30包括沿人造石前进方向上依次设置的上打磨单元31、上抛光单元32以及上打蜡单元33，所述上打磨单元31、上抛光单元32以及上打蜡单元33的水平高度依次递减；移动人造石用的移位机构40；对人造石下表面进行处理的下表面处理机构50；所述下表面处理机构50包括沿人造石前进方向上依次设置的下打磨单元51、下抛光单元52以及下打蜡单元53，所述下打磨单元51、下抛光单元52以及下打蜡单元53的水平高度依次递增；以及将人造石从出料口12输送至箱体10外的第二输送带60。
[0019]通过第一输送带20将人造石从进料口11输送至箱体10内上表面处理机构30下方，通过第一输送带20带动人造石不断前进，打磨单元31、上抛光单元32以及上打蜡单元33依次对人造石上表面进行加工，同时设置在上打磨单元31和上抛光单元32之间的上补料装置34在人造石经上打磨单元31打磨的区域内进行补料；在人造石上表面加工完成后，通过移位机构40将人造石从第一输送带20移位至下表面处本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.人造石表面抛光打磨装置，其特征在于：包括箱体（10）；所述箱体（10）上设置有进料口（11）和出料口（12）；将人造石从进料口（11）输送至箱体（10）内的第一输送带（20）；对人造石上表面进行处理用的上表面处理机构（30）；所述上表面处理机构（30）包括沿人造石前进方向上依次设置的上打磨单元（31）、上抛光单元（32）以及上打蜡单元（33），所述上打磨单元（31）、上抛光单元（32）以及上打蜡单元（33）的水平高度依次递减；移动人造石用的移位机构（40）；对人造石下表面进行处理的下表面处理机构（50）；所述下表面处理机构（50）包括沿人造石前进方向上依次设置的下打磨单元（51）、下抛光单元（52）以及下打蜡单元（53），所述下打磨单元（51）、下抛光单元（52）以及下打蜡单元（53）的水平高度依次递增；以及将人造石从出料口（12）输送至箱体（10）外的第二输送带（60）。2.根据权利要求1所述的人造石表面抛光打磨装置，其特征在于：所述上打磨单元（31）包括可伸缩的打磨升降杆（311）和打磨盘（312），所述上抛光单元（32）包括抛光升降杆（321）和抛光盘（322），所述上打蜡单元（33）包括打蜡升降杆（331）和打蜡盘（332）。3.根据权利要求2所述的人造石表面抛光打磨装置，其特征在于：所述移位机构（40）包括滑轨（41）、滑板（42）、升降杆（43）以及吸盘（44）；所述滑轨（41）固定设置在箱体（10）顶部，所述滑板（42）与滑轨（41）滑动连接，所述升降杆（43）设置在滑板（42）远离...
【专利技术属性】
技术研发人员：李琳，
申请(专利权)人：马鞍山河谷照阳信息科技咨询有限公司，
类型：发明
国别省市：
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