光掩模固持系统技术方案

一种光掩模固持系统包括一内盒及一外盒。内盒包含一内基座、一内盖、及一压销。所述内基座组配来接收一工件。内盖组配来耦合所述内基座，从而形成一用以收容所述工件的内部。压销可移动地穿设于所述内盖，且组配来按压所接收的工件。外盒包含一外基座、一外盖、及一推动件。外基座组配来接收所述内基座。外盖组配来耦合外基座。推动件设置于外盖。压销、外盖、及推动件具有电荷消散性质。当外盖耦合至外基座，推动件组配来推动压销来按压所述工件并且建立一个从所述工件，通过压销及推动件，到外盖的电荷消散路径。盖的电荷消散路径。盖的电荷消散路径。

【技术实现步骤摘要】
光掩模固持系统


[0001]本申请要求于2019年10月16日提交的美国临时专利申请号62/915652的优先权，其通过引用并入本文，并且成为说明书的一部分。
[0002]本公开涉及用于存储，输送，运输和处理诸如光掩模和晶片的易碎物体的容器，尤其涉及用于存储，输送，运输和光掩模的固持系统。

技术介绍

[0003]在半导体工业中，基于光掩模固持器的载荷精确度的要求的提高，光掩模固持器也随着发展以强化对潜在的环境危害的保护。
[0004]例如，新一代的光掩模固持器有时具有双盒结构，其包括用于容纳光掩模的内盒，和用于容纳内盒的外盒。在输送过程中，光掩模可能会收容在内盒中。为了执行光刻工艺，可以打开外盒以允许从中取出内盒。然后，在抵达曝光设备内部的指定位置时，可以打开内盒以使用光掩模来进行后续曝光过程。
[0005]为了获得用于现代半导体器件中不断缩小的特征图案的极高分辨率，近年来，业界已将具有极短波长的极紫外光源用于光刻设备中。在这样的极端曝光条件下，对曝光环境，半导体制造设备，甚至是诸如光掩模的半导体制造组件的清洁标准都提高本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光掩模固持系统，包含：内盒，包括内基座，组配来接收光掩模；内盖，组配来耦合所述内基座，从而形成用于收容所接收的所述光掩模的内部；压销，包括穿设于所述内盖并组配来按压所接收的所述光掩模的压抵部、与所述压抵部相对的受压部、以及比所述受压部宽的肩部；限位帽，设置在所述内盖上并组配来限制所述压销的运动，其中所述限位帽定义窗口，使得所述受压部延伸穿设于所述窗口；及第一弹性件，设置在所述限位帽和所述压销的所述肩部之间。2.如权利要求1所述的光掩模固持系统，其特征在于，还包括第二弹性件，所述第二弹性件设置在所述肩部和所述内盖之间。3.如权利要求1所述的光掩模固持系统，其特征在于，所述第一弹性件具有围绕所述压销的所述受压部的环形结构。4.如权利要求1所述的光掩模固持系统，其特征在于，还包括外盒，包括外基座，组配来接收所述内基座；外盖，组配来耦合所述外基座；及推动件，设置于所述外盖，所述推动件组配来在所述外盖耦合所述外基座时，推动所述压销以按压所述光掩模；其中，当所述外盖与所述外基座耦合时，所述限位帽的上表面和所述受压部的上表面基本上共平面。5.一种固持系统，包括：内盒，包含:内基座，组配来接收工件；内盖，组配来耦合至所述内基座，从而形成用以收容所述工件的内部；压销，可移动地穿设于所述内盖，且组配来按压所接收的所述工件；及外盒，包含:外基座，组配来接收所述内基座；外盖，组配来耦合至所述外基座；及推动件，设置于所述外盖；其中，所述压销、所述外盖、及所述推动件具有电荷消散性质；其中，当所述外盖耦合至所述外基座，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：庄家和，温星闵，薛新民，李怡萱，邱铭乾，
申请(专利权)人：家登精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：