一种高氯酸钾电解槽用清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及电解设备领域，具体公开了一种高氯酸钾电解槽用清洗装置，包括电解槽、旋转轴、电机、支架、清洗液储存罐、废液储存罐和喷淋头，所述电机上固定安装旋转轴和电解槽，电机固定在支架的中部，清洗液储存罐固定在支架的左上方，废液储存罐在支架的右侧，喷淋头固定安装在电解槽上部的中央处，且喷淋头可旋转，喷淋头和清洗液储存罐通过竹节管连接，在靠近储存罐处有阀门，废液出口固定安装在电解槽的右下边。本实用新型专利技术的结构简单，操作简便，不需要人工清洗。不需要人工清洗。不需要人工清洗。

【技术实现步骤摘要】
一种高氯酸钾电解槽用清洗装置


[0001]本技术涉及电解设备领域，具体为一种高氯酸钾电解槽用清洗装置。

技术介绍

[0002]在高氯酸钾电解槽的电解过程中，电解槽的阳极会产生阳极泥，电解槽的槽底容易发生原料长期沉淀未分解，形成沉淀硬块并于电解槽内部结垢。人工清理不能完全清除杂质，而且还会损伤电解槽的槽体。因此需要一种能够对电解槽有效除垢、且不影响电解槽寿命的清洗装置。

技术实现思路

[0003](一)解决的技术问题
[0004]针对现有技术的不足，本技术提供了一种高氯酸钾电解槽用清洗装置，解决了能够对电解槽有效除垢、且不影响电解槽寿命的问题。
[0005](二)技术方案
[0006]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种高氯酸钾电解槽用清洗装置，包括电解槽、旋转轴、电机、支架、清洗液储存罐、废液储存罐、喷淋头和废液出口，其特征在于：所述电机上固定安装旋转轴，所述电解槽中部固定安装在旋转轴上，所述电解槽导流平面是向右下方倾斜的，所述电机在支架的中部，所述清洗液储存罐固定在支架的左上方，所述废液储存罐在支架本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高氯酸钾电解槽用清洗装置，包括电解槽(1)、旋转轴(2)、电机(3)、支架(4)、清洗液储存罐(5)、废液储存罐(6)、喷淋头(7)和废液出口(9)，其特征在于：所述电机(3)上固定安装旋转轴(2)，所述电解槽(1)中部固定安装在旋转轴(2)上，所述电解槽(1)导流平面是向右下方倾斜的，所述电机(3)固定在支架(4)的中部，所述清洗液储存罐(5)固定在支架(4)的左上方，所述废液储存罐(6)在支架(4)的右侧，所述喷淋头(7)固定安装在电解槽(1)顶部的中央，所述喷淋头(7)和清洗液储存罐(5)通过竹节管(8)转动可拆卸连接，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：李昊赟，杨强，喻学敏，刘丹，
申请(专利权)人：江西永宁科技有限责任公司，
类型：新型
国别省市：